【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する化学強化ガラスおよび化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１〜３０％含有し、且つβ−ＯＨ値が０．３〜１／ｍｍであり、平板形状以外の形状を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス板１の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程後に、前記ガラス板１を化学強化する化学強化工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。前記研磨工程は、前記ガラス板１の表面を、酸化セリウムを含むスラリーを用いて研磨した後、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％、ＴｉＯ_２ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ液相粘度が１０^５．０ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量％表示で、ＳｉＯ_２：５０〜７０、Ａｌ_２Ｏ_３：１〜２２、ＺｒＯ_２：０〜８、Ｂ_２Ｏ_３：０〜８、Ｒ_２Ｏ：１０〜３０（ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、ＭＯ：０〜２０、（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はＲ_２ＯとしてＬｉ_２Ｏを少なくとも１質量％有し、Ａｌ_２Ｏ_３とＺｒＯ_２とを少なくとも合計で６質量％有し、軟化点温度が６５０℃以下であること。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１０μｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を２回以上有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、１回目の化学強化工程と２回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、前記１回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記１回目の化学強化工程と２回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたＨＤＤ用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を２回以上有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、１回目の化学強化工程と２回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、前記１回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記１回目の化学強化工程と２回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 （もっと読む）

【課題】溶融塩の交換の頻度を減らすことができる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】溶融塩にモル％で、ＳｉＯ_２を６１〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１８％、ＭｇＯを３〜１５％、ＣａＯを０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜４％、Ｎａ_２Ｏを８〜１８％、Ｋ_２Ｏを０〜６％含有し、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３が６５〜８５％、ＭｇＯ＋ＣａＯが３〜１５％、かつ、下記式により算出されるＲが０．６６以上であるガラスを浸漬して化学強化ガラスとするイオン交換処理を繰り返す化学強化ガラスの製造方法。Ｒ＝０．０２９×ＳｉＯ_２＋０．０２１×Ａｌ_２Ｏ_３＋０．０１６×ＭｇＯ−０．００４×ＣａＯ＋０．０１６×ＺｒＯ_２＋０．０２９×Ｎａ_２Ｏ＋０×Ｋ_２Ｏ−２．００２。 （もっと読む）

【課題】化学強化されたカバーガラス用ガラス基板の表面に直接印刷を施すことが可能で、しかも印刷時のガラス基板の傷発生を防止することが可能な携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】携帯機器に用いられるカバーガラスの製造方法であって、カバーガラス用ガラス基板の表面に印刷を施す印刷工程を含む。この印刷工程の前に、上記ガラス基板１の印刷面１Ａを除く領域に保護膜２を形成する。たとえば印刷工程に使用する印刷機における位置決め部材と接触するガラス基板の領域に少なくとも保護膜２を形成する。そして印刷工程では、この保護膜２を形成した状態のガラス基板１の印刷面１Ａに対して印刷を施す。 （もっと読む）

【課題】化学強化前の研磨処理等を省略又は簡略化可能であり、且つ、化学強化後の反りを抑制可能であって、化学強化により圧縮応力層が形成される化学強化用フロートガラスを提供する。
【解決手段】フロート法により成形され、成形時に溶融金属と接するボトム面と、ボトム面に対向するトップ面とを有し、化学強化により圧縮応力層が形成される化学強化用フロートガラスであって、ボトム面側が凸となるように反っている。 （もっと読む）

【課題】多数枚生産される携帯機器用カバーガラスの強度のばらつきを低減できる携帯機器用カバーガラスの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、所定間隔を隔てて互いに平行に配列された複数枚の矩形状のガラス基板１００を、加熱された化学強化処理液１２２に浸漬することにより化学強化処理する化学強化工程を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、化学強化工程では、ガラス基板１００の主表面に対して平行な方向に化学強化処理液を流動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】強度のばらつきを抑制できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラス１１０から、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板１００をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含み、エッチング工程でガラス基板を抜き出すための、耐エッチング性を有するレジスト材を用いたレジストパターン１２０を板状ガラスの主表面に形成するパターン形成工程を含み、パターン形成工程では、抜出されるガラス基板の主表面が、板状ガラスの縁部１２６を含まないようレジストパターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄くても非常に高い強度を持つ携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材を提供する。
【解決手段】化学強化によるカリウムイオンを含有する圧縮応力層１ａを有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材１であって、前記主表面においてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層１ａを有し、前記ガラス基材１の厚さが０．５ｍｍとなるように構成され、前記ガラス基材１の外周の縁部を支持した状態で前記主表面の中央部を加圧子により加圧した際の破壊荷重が５４６Ｎ以上であることを特徴とする携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。 （もっと読む）

【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６０％以上、Ａｌ_２Ｏ_３を３％以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが０．４〜２．０ｍｍ、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σ_Ｃが４００ＭＰａ〜１ＧＰａ、前記圧縮応力層の深さＤ_Ｃが１５〜３０μｍであることを特徴とする化学強化ガラス板。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の平坦度のばらつきを抑制できる電子機器用カバーガラスの製造方法およびガラス基板保持具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる電子機器用カバーガラスの製造方法は、四角形状のガラス基板１００を、化学強化塩を加熱溶融した化学強化処理液に浸漬させることにより、ガラス基板を化学強化処理する化学強化工程と、化学強化工程後に、ガラス基板を化学強化処理液から取出した後、ガラス基板の温度を下げる冷却工程と、を含み、冷却工程では、化学強化処理液がガラス基板表面で固化しないように、ガラス基板表面から排出させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面の活性化に伴う電子機器用カバーガラスのガラス基板の強度低下の抑制方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有するガラス基板の表面近傍において、前記金属酸化物の金属イオンαを、前記金属イオンαよりもイオン半径が大きい金属イオンβで置換する置換工程と、前記置換工程により前記ガラス基板の表面近傍に形成された化学強化層に対し、前記置換工程後、表面失活用イオンγの注入処理を施す注入工程と、を有し、前記化学強化層内では、前記ガラス基板における主表面からの厚さ方向の距離とイオン濃度との関係において、前記表面失活用イオンγのイオン濃度を、前記金属イオンβのイオン濃度以下とする。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板１が、ガラス基板１の一方及び他方の主表面１１，１２のそれぞれからエッチングされることにより、所望の形状に切り抜かれてなるとともに、主表面１１，１２の面方向外側へ突出する頂部１４が端面１３に形成された携帯機器用カバーガラスのガラス基材１であって、端面１３の頂部１４には、丸みが形成され、主表面１１，１２と端面１３との間の面取り寸法が１０〜１００μｍであるガラス基材１。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜３％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であることを特徴とする。 （もっと読む）