【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能な携帯型液晶ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ₂Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．５〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＳＯ_３ ０．００１〜３％を含有し、質量分率（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．７〜２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＺｒＯ_２０．００１〜１０％、ＴｉＯ_２０〜４％を含有することを特徴とし、ＳｎＯ_２０．０１〜３％含有せしめることでイオン交換性能を向上させる。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、未研磨の表面を有し、端面部に面取り加工又はエッチング処理がなされていることを特徴とする。 （もっと読む）

３次元精密成形に用いられ、かつ強化処理に適する薄リチウムアルミノケイ酸ガラスが提供される。本発明ガラスは、５０ＭＰａ以下の中心引っ張り応力、６００〜１２００ＭＰａの表面圧縮応力、最大で５００ＭＰａまで達する曲げ強度、及び５５０℃以下のガラス転移温度を有する。 （もっと読む）

本発明は、リチウムアルミノシリケートガラスの化学強化に関し、これによって、高レベルの表面張力と深い表面張力ゾーンをもたらす、中程度の温度での速やかな強化が可能となる。 （もっと読む）

電子デバイスの薄いガラス部材の強度を向上する装置、システム及び方法が開示される。一実施形態において、ガラス部材の強度特性は、所定の応力プロファイルに従って改善される。所定の応力プロファイルは、化学強化の複数の段階によって形成される。それらの段階は、例えば、ガラス部材の中へ大きなイオンが導入される第１のイオン交換段階と、大きなイオンの一部がガラス部材から放出される第２のイオン交換段階とを有する。一実施形態において、ガラス部材は、電子デバイスの筐体のガラスカバーに関連する。ガラスカバーは、ディスプレイを覆うように設けられるか又はディスプレイと一体に形成される。
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【課題】ガラス板の製造の際に、ガラス成形後の加工処理の効率に悪影響を与えず、化学強化する前のガラス表面に傷が付き難い程度にガラス表面が強化された強化ガラスと、この強化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス板が化学強化された強化ガラスは、ダウンドロー法で製造される。強化ガラスには、強化ガラスの厚さ方向の中心位置におけるＳiの原子濃度（原子％）に対するＳiの原子濃度（原子％）の濃度比率が５％以上高いＳｉ高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って０より大きく３０ｎｍ以下の深さの範囲に形成される。前記Ｓｉ高濃度領域は、Ｓｉ原子濃度の最大ピークを有し、前記ガラス板の厚さ方向に沿ったＳｉ原子濃度は、前記最大ピーク位置からガラス板のガラス表面および前記中心位置まで連続的に減少する。さらに、ガラス板には、イオン交換により化学強化されたイオン交換処理領域が前記ガラス板の表面に形成される。 （もっと読む）

【課題】生産効率の向上を図ることができ、かつ、均一な形状であってガラスの強度が強化され、ケースへの組み込みが容易なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】マザー基板６に化学強化処理を施すことにより、表面に１５〜５０μｍの厚さの圧縮応力層を形成し、前記マザー基板６の少なくとも一方の面に所望の加工処理を行った後、前記マザー基板６を仮想の切断線１０に沿って個片のガラス基板１に切断することを特徴とする。 （もっと読む）

薄いガラス板に、ビデオディスプレイ用途に要求される光学的ガラス板特性を維持しながら、強度を改善する、表面強化処理および表面エッチング処理の組合せを施すことによって、強化表面圧縮層と組み合わせて少なくとも１つの化学エッチング表面を含む耐衝撃損傷性ガラス板であって、家庭用電化製品のビデオディスプレイ装置用の耐損傷性保護ガラス板を提供するのに有用な、正規化された高い鉄球落下破損高さおよび高い曲げ破壊係数強度を示すガラス板が提供される。
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【課題】耐衝撃性に優れ、かつディスク形状の安定化を両立するデータ記憶媒体用ガラス基板及びその製造方法の提供。
【解決手段】基板用ガラスを混合溶融塩に浸漬し、該基板用ガラスの表面及び裏面に圧縮層を形成する化学強化処理工程を含むデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、基板用ガラスがアルカリ成分としてリチウムイオンを含有し、混合溶融塩が硝酸ナトリウム、硝酸カリウムおよび質量百分率表示で硝酸リチウムを１〜６％含有し、基板用ガラスを混合溶融塩に特定の温度範囲および時間の条件下で浸漬するデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】強度や抗菌性に優れるだけでなく、ディスプレイ装置のカバーガラスとして好適な高い透明性と可視透過率とを備えたディスプレイカバーガラス用ガラス基板を低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板表面に表面圧縮応力層及び抗菌性物質含有層を備え、該ガラス基板の波長４２８ｎｍにおける透過率Ｔ１と波長６５０ｎｍにおける透過率Ｔ２との比（Ｔ１／Ｔ２）が０．９５以上、かつ該ガラス基板の板厚が０．１〜３．０ｍｍでの波長４２８ｎｍにおける透過率が８６％以上であるディプレイカバーガラス用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板を７５〜９９．９９９９質量％のＫＮＯ_３と０．０００１〜０．１質量％（ただし、０．１質量％を含まず）のＡｇＮＯ_３を少なくとも含む溶融塩中において化学強化処理と抗菌処理とを同時に行う工程と、前記化学強化と抗菌処理をしたガラス基板を清浄化処理する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れ、かつディスク形状の安定化を両立するデータ記憶媒体用ガラス基板及びその製造方法の提供。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を５８〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５％、Ｌｉ_２Ｏを７〜１５％、Ｎａ_２Ｏを２〜９％含有し、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏが１３〜２１％であるガラスからなる基板用ガラスを混合溶融塩に浸漬し、該基板用ガラスの表面及び裏面に圧縮層を形成する化学強化処理工程を含むデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記混合溶融塩が質量百分率表示で、硝酸リチウムを１〜７．５％、硝酸ナトリウムを２８〜５５％、硝酸カリウムを４０〜６９％含有するデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

タッチパネル用アルミノケイ酸ガラスを提供する。本ガラスは、シリカ５５〜６５重量％、酸化ナトリウム１５＜〜２０重量％、酸化カリ２〜６重量％、マグネシア３．９〜１０重量％、ジルコニア０〜５重量％、酸化亜鉛０〜４重量％、酸化カルシウム０〜４重量％、酸化ナトリウム＋酸化カリ＋マグネシア＋酸化亜鉛＋酸化カルシウムが総計で１５〜２８重量％、酸化錫０〜１重量％、及び二酸化チタン＋酸化セリウム１重量％未満から成る。また、ガラスを１００％ＫＮＯ_３の塩浴中に浸漬してイオン交換強化処理する工程と、ガラスを温度３７０〜４３０℃で０．５〜１６時間予備加熱する工程から構成される化学的強化方法も提供する。本発明ガラスはタッチパネル用の基板及びカバーシートとして利用可能である。 （もっと読む）

本発明は、表面を構造化するための方法、言い換えれば、サブミクロンの高さＨと、ミクロン又はサブミクロンの幅と称される少なくとも１つの横方向の特性寸法とを有する凹凸又はパターン（２）の少なくとも一組を、基材（１）、特にガラスの表面に、任意選択的に中和されたイオンビームを用いるイオンビームエッチングにより形成するための方法であって、次の工程、すなわち、厚さが少なくとも１００ｎｍの材料を供給し、この材料は混成且つ固体の材料であって、１以上の元素の単一の酸化物又は混合酸化物であり前記材料中の酸化物のモル百分率が少なくとも４０％、とりわけ４０％と９４％の間であるもの、及び前記酸化物の元素と別の少なくとも１つの種、特に金属であって、当該材料中における種のモル百分率が６〜５０％の範囲であって前記酸化物の百分率よりも小さく、当該種の少なくとも大部分は５０ｎｍより小さい最大特性寸法を有するもの、を含み、前記混成材料は特に、前記エッチングの前において準安定性である工程と、前記エッチングの前に前記混成材料を任意選択的に加熱する工程と、前記混成材料の表面の１ｃｍ²より大きいエッチング表面を１時間未満のエッチング時間で、前記パターンの組が形成されるまで構造化する工程を含み、この構造化工程は前記混成材料を加熱することを任意選択的に含むことを特徴とする。
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【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持ったガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１５％、Ｎａ_２Ｏを６〜２１％、Ｋ_２Ｏを０〜１５％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜２０％、ΣＲＯ（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）を０〜２１％、ＺｒＯ_２を０〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３を１．５〜６％、Ｃｏ_３Ｏ_４を０．１〜１％含有するガラス。 （もっと読む）

本発明は対象物に関するものであり、対象物は、少なくとも１つのガラススペーサを、対象物の第１の要素と対象物の第２の要素との間に含み、スペーサは、その表面から表面に対して垂直な方向に、アルカリイオンの濃度勾配を有する。対象物は真空ソーラコレクタであってもよい。本発明はまたガラス球に関するものであり、ガラス球は、その表面から表面に垂直な方向に、アルカリイオンの濃度勾配を有し、また、本発明は、２つの要素の間において、これらの２つの要素を互いに押す圧力に耐えるスペーサとしての球の使用に関するものである。
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電子デバイスの薄いガラスカバーの強度を向上する装置、システム及び方法が開示される。一実施形態において、ガラス部材は、一連の段階による化学強化処理により強化されてもよい。例えば段階は、より大きなイオンがガラスカバーへと交換される第１のイオン交換段階及びより大きなイオンのうちのいくつかがガラスカバーから交換される第２のイオン交換段階を有してもよい。オプションとして、一実施形態において、ガラス部材の強度は、ガラス部材の縁部を所定の形状に整形することにより向上してもよい。有利なことに、ガラス部材は薄いだけではなく、損傷の受けやすさを制限するのに十分なほど強くなることができる。一実施形態において、ガラス部材は、電子デバイスの筐体のガラスカバーに適応されてもよい。ガラスカバーは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表示装置などのディスプレイを覆うように配置されるか又はディスプレイと一体に形成されてもよい。
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【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ₂Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ₂を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ₂ＯとＮａ₂Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】十分な耐失透性を有し、且つイオン交換性能に優れたガラスを創案することにより、機械的強度が高く、且つ表面品位が良好な強化ガラスを作製すること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２４％、Ｎａ_２Ｏ １１〜２５％、Ｐ_２Ｏ_５ ０．１〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）