【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２を４０〜７０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜２０重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ_２を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研削工程及び／又は研磨工程における加工レートを向上させると共に、基板表面に残存する加工ダメージ層を低負荷で効果的に除去することが可能となり、表面の研磨加工によるダメージ発生を抑制し、耐衝撃性に優れた、強度信頼性の高い磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板表面に引張応力層を形成させる引張応力層形成工程を含み、前記引張応力層形成工程は精密研磨工程の前に備えることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記引張応力層形成工程は、ガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンの交換を行うイオン交換処理法を含み、前記イオン交換処理法はガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンのイオン半径よりもイオン半径が小さいイオンを含有する処理液に前記ガラス基板を浸漬させ、ガラス基板表面に引張応力層を形成させることが好適である。 （もっと読む）

【課題】圧縮層測定の容易化を図るとともに、短時間の処理でもイオン交換性能を十分に発揮させることによって効率的に製造することができ、機械的強度を向上させることができるカバーガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主表面に圧縮応力層を有し、ガラス組成として、ＳｉＯ₂：５０〜７０モル％、Ａｌ₂Ｏ₃：３〜２０モル％、Ｎａ₂Ｏ：５〜２５モル％、Ｌｉ₂Ｏ：０モル％より多く、２．５モル％以下、Ｋ₂Ｏ：０〜５．５モル％及びＢ₂Ｏ₃：０〜３モル％未満が含有されてなるカバーガラス及び（１）ガラス原料を熔融して熔融ガラスを得、（２）得られた熔融ガラスを、ダウンドロー法により板状に成形してガラス基板を得、（３）得られたガラス基板表面に圧縮応力層を形成する工程を含むカバーガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】凹み状欠点の発生を抑えることのできるディスプレイ装置用化学強化ガラス板の製造方法の提供。
【解決手段】ガラスを予熱温度に加熱する予熱工程と、続いて該ガラスを化学強化処理液に浸漬するイオン交換工程とを含むディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法であって、予熱工程における予熱温度と該ガラスの歪点とが式２２０℃≦（歪点−予熱温度）を満たすディスプレイ装置用化学強化ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定して正確に表面圧縮応力および圧縮応力層の深さを測定できる化学強化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスの屈折率分布を測定する抜取り検査をすることを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板１の製造方法は、ガラス基板１を成形する工程と、主表面に化学強化層を形成する工程と、を備える。化学強化層を形成する工程は、化学強化処理槽２０内に貯留された化学強化処理液にガラス基板１を浸漬させる工程と、ガラス基板１を化学強化処理液中で移動させる工程と、を含む。移動させる工程は、化学強化処理槽２０の内壁２３ａ，２３ｂに沿って内壁２３ａ，２３ｂの水平方向長さＬ１，Ｌ２の半分以上に亘ってガラス基板１を水平方向に移動させる工程と、化学強化処理液の液深の半分以上に亘ってガラス基板１を垂直方向に移動させる工程と、の少なくともいずれか一方を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記板表面の形状が多角形であり、且つ前記多角形の角部がＣ面又はＲ面の形状を有する。 （もっと読む）

【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス１は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス１であって、前記カバーガラス１の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】化学強化されたものであって、耐傷性に優れた、安価なガラス板を提供すること。
【解決手段】化学強化後に切断してなり、圧縮応力が残留する表面層２１および裏面層２２と、表面層２１と裏面層２２との間に形成され、引張応力が残留する中間層２３とを有し、切断面である側端面１１に、圧縮応力が残留する領域３１、３２と、引張応力が残留する領域３３とを有するガラス板１０において、中間層２３の平均残留引張応力が４０ＭＰａを超えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一つの板状ガラス材から複数のガラス基板を製造する場合に、（１）主面および端面が共に化学強化されたガラス基板を得ること、（２）ガラス基板の寸法誤差を低減すること、（３）ガラス基板の生産性を犠牲にすることなくガラス基板の強度を良好に維持すること、を同時に実現する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、板状ガラス材をイオン交換処理によって化学強化する第１の化学強化工程Ｓ１と、第１の化学強化工程Ｓ１の後に板状ガラス材を分断することにより複数のガラス基板に小片化する小片化工程Ｓ２と、小片化工程Ｓ２の後にガラス基板をイオン交換処理によって化学強化する第２の化学強化工程Ｓ３とを含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 （もっと読む）

【課題】化学強化により所望の耐衝撃性能を有するディスプレイ装置用カバーガラスを提供する。
【解決手段】ディスプレイ装置用ガラスの素板から所定の形状のガラス板に加工する形状加工工程と、ガラス板を洗浄する洗浄工程と、洗浄したガラス板に化学強化を行なう化学強化工程と、を備えるディスプレイ装置用カバーガラスの製造方法であって、洗浄工程は、洗浄工程後、化学強化工程前におけるガラス板のＢＯＲ強度が４００Ｎ以上となるように、ガラス板の少なくとも一方の主表面にロールブラシの先端を当接させることでガラス板を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】角部分の耐衝撃性が優れること。
【解決手段】イオン交換法により形成された圧縮応力層３０Ｕ、３０Ｂが、表面２０Ｕ側と裏面２０Ｂ側とのみに設けられ、端面４０Ａが、凸を成す曲面であり、端面４０Ａの表面粗さＲａが１０ｎｍ以下である携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器、および携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ １〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】カレットとしてＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜８％、Ｎａ_２Ｏ ５〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０．１〜１０％、ＭｇＯ ０．１〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０．００１〜５％を含有し、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＺｒＯ_２）が０．３〜１．５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）を−３０μｍ〜＋２３μｍとしてガラス基板を研磨する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、レーザ干渉計を用いて測定する磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が２．８μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性および優れたイオン交換能を有し、イオン交換による化学強化処理によって高い強度を付与できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で示して、ＳｉＯ_２ ５３〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３ １１〜１７％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ３〜９％、ＭｇＯ ０〜４％、ＣaＯ ０〜４％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ １〜４％、ＴｉＯ_２ ２〜６％、を含むガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を使用して化学強化されたガラスチップを得る場合に、ガラスチップへの分割が容易な上に、その分割後の強度の確保が可能であるガラスチップの製造方法の提供。
【解決手段】本発明は、ガラス基板を使用して化学強化されたガラスチップを得るものである。第１のステップでは、ガラス基板１に切断溝５を形成する。第２のステップでは、ガラス基板１に対してイオン交換による化学的処理を行い、切断溝５の底部の表側と裏側に圧縮応力層２０を形成する。第３のステップでは、ガラス基板１の切断溝５に外力を加えてガラスチップ３０に分割する。 （もっと読む）