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ガラスセラミックス、その製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ナシコン型構造を有する結晶を含有する光触媒ガラスセラミックスが提供される。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式AmB2(XO4)3(式中、第一元素AはLi、Na、K、Cu、Ag、Mg、Ca、Sr及びBaからなる群から選択される1種以上とし、第二元素BはZn、Al、Fe、Ti、Sn、Zr、Hf、V、Nb及びTaからなる群から選択される1種以上とし、第三元素XはSi、Ge、P、S、Mo及びWからなる群から選択される1種以上とし、係数mは0以上3以下とする)で表される。
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結晶性封着材料
【課題】二次焼成工程で良好に軟化流動した後に、結晶が十分に析出する結晶性封着材料を提供する。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラーを含む結晶性封着材料において、ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、Bi2O330〜40%、B2O315〜25%、ZnO30〜40%、CuO0〜25%、Fe2O30〜5%を含有し、且つ耐火性フィラーとして、ZnO含有耐火性フィラー及びコーディエライトを含むことを特徴とする結晶性封着材料。
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ガラス
【課題】太陽光に対して高い透過率を示し、熱的な寸法安定性も有しており、集光型太陽電池装置等の部材用途に好適な低温溶融性および熱間成型性に優れたガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量%で、B2O3成分、Al2O3成分を含有し、B2O3成分の含有量が30〜65%であり、Al2O3/B2O3が0.18〜0.45であるガラス。より好ましくは、粘度が102.5dPa・sを示すときの温度が1000℃以下である。
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光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら低いアッベ数(νd)を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でTeO2成分を20.0〜70.0%、P2O5成分を0%〜25.0%、B2O3成分を0%〜40.0%、Nb2O5成分を0%〜20.0%、La2O3成分を0%〜30.0%含有し、TeO2/(P2O5+B2O3)が1.0以上、B2O3+Nb2O5+La2O3が0%より多く60%以下であり、摩耗度が200以上800以下、ヌープ硬度が250以上650以下、粉末法耐水性クラス(RW)が1以上3以下、粉末法耐酸性クラス(RA)が1以上3以下である光学ガラス。
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ガラスセラミックス組成物および素子搭載用基板
【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するLTCC基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】25〜60質量%のガラス粉末と15〜50質量%のアルミナ粉末および10〜40質量%の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、SiO2を0〜50質量%、B2O3を15〜50質量%、Al2O3を0〜10質量%、ZnO、CaO、SrOおよびBaOから選ばれる1種以上を合計で3〜65質量%、Li2O、Na2OおよびK2Oから選ばれる1種以上を合計で0〜20質量%、Bi2O3を0〜50質量%含有し、「(B2O3+Bi2O3の含有量)の3倍」+「(ZnO+CaO+SrO+BaOの含有量)の2倍」+「(Li2O+Na2O+K2Oの含有量)の10倍」の値が200を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。
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成形型及びその製造方法、並びに、光学素子及び光学機器の製造方法
【課題】特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りを生じ難い成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】成形型10は、成形面211、311を有する型母材21、31と、成形面211、311上に設けられた保護膜23、33と、を備える成形型10であって、保護膜23、33は、Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になる含量で含有し、成形型10は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法
【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ndが1.89以上、アッベ数νdが28〜36であり、組成にB,Zn,La,Si,Gd,Ti,Wを必須として含み、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、Y,Yb,Zr,Nb,Ta,Te,Ge,Bi,Alを0〜5%含んでおり、これら成分のカチオン比が、(B3+/(B3++Si4+))が0.70〜0.96、(B3+/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜2.0、((B3++Si4+)/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜3.0、(B3+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.8〜4.0、、((B3++Si4+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が1.5〜5.0、等となる光学ガラスとする。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法
【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラス、前記光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子と、前記光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】前記光学ガラスは、屈折率ndが1.86以上、アッベ数νdが28〜36、液相温度が1000℃以下であり、カチオン%表示で、
Si4+ 0〜5%
B3+ 25〜45%、
Li+ 0〜20%、
Na+ 0〜5%、
K+ 0〜5%、
Mg2+ 0〜5%、
Ca2+ 0〜5%、
Sr2+ 0〜5%、
Ba2+ 0〜5%、
Zn2+ 5〜40%、
La3+ 5〜25%、
Gd3+ 1〜15%、
Y3+ 0〜5%、
Yb3+ 0〜5%、
Zr4+ 0〜3%、
Ti4+ 1〜15%、
Nb5+ 0〜5%、
Ta5+ 0〜5%、
W6+ 1〜30%、
Te4+ 0〜5%、
Ge4+ 0〜5%、
Bi3+ 0〜5%、
Al3+ 0〜5%、
を含む。以下のカチオン比を有する。(B3+/(B3++Si4+))が0.85〜1.00、(B3+/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜3.0、(B3+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.5〜4.0、(Zn2+/(Zn2++Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+))が0.8〜1.0、((La3++Gd3++Y3+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.3〜2.5、Ti4+/W6+が0.1〜1.5、((Ti4++W6+)(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.8〜1.0。
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光学ガラス及び分光透過率の劣化抑制方法
【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%で、P2O5成分、SiO2成分及びB2O3成分からなる群より選択される1種以上を合計で5.0%以上40.0%以下、Nb2O5成分を10.0%以上60.0%以下含有し、ソラリゼーション(波長450nmにおける分光透過率の劣化量)が5.0%以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。
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低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料
【課題】
結晶Si太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】質量%でSiO2を1〜15、B2O3を18〜30、Al2O3を0〜10、ZnOを25〜43、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を8〜30、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を6〜17含むSiO2−B2O3−ZnO−RO−R2O系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。
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光学用ガラス
【課題】 光学ガラスに求められる要求特性を全て満足し、しかも、金型や金属製ホルダーに近似した熱膨張係数と高い屈折率と高い硬度を兼ね備えた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、モル百分率で、B2O3 10〜30%、ZnO 5〜30%、La2O3 5〜15%、TeO2 10〜45%、Nb2O5 5〜20%、TiO2 2〜10%、WO3 0〜10%、SiO2 0〜5%、Al2O3 0〜5%、CaO 0〜7%、BaO 0〜7%、SrO 0〜7%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜5%、K2O 0〜5%を含有することを特徴とする。
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焼結体およびその製造方法、光触媒、ガラス粉粒体混合物、並びに、スラリー状混合物
【課題】ガラスを原料として、2種以上の異なる光触媒化合物を必要十分な量で含有し、優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 焼結体の製造方法は、組成が異なる2種以上のガラス粉粒体を混合して混合物を作製する工程と、混合物を加熱し、光触媒活性を有する結晶を含むガラスセラミックスの焼結体を作製する工程と、を備えている。得られる焼結体は、TiO2結晶、WO3結晶、ZnO結晶、RnNbO3結晶、RnTaO3結晶(ここで、Rnはアルカリ金属を意味する)、及びこれらの固溶体からなる群より選択される2種以上の結晶を含むことができる。
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光触媒ガラスおよびその製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 TiO2成分、WO3成分、ZnO成分、Nb2O5成分、及びTa2O5成分からなる群より選択される1種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、10〜75%含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。
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光学ガラス
【課題】本発明の目的は、屈折率1.90〜2.10、アッベ数15〜27の範囲の光学定数を有するような高屈折率高分散領域で、部分分散比が小さい光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%、及びLa2O3成分を5.0〜30.0%、Nb2O5成分を5.0〜30.0%、Ta2O5成分を0.5〜15.0%含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00562×νd+0.75663)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00260×νd+0.68100)の関係を満たす光学ガラス。
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高屈折で高透明の光学ガラス
【課題】高屈折率で高透明の光学ガラスを提供する。
【解決手段】1.945≦nd≦1.97の屈折率nd、33≦νd≦36のアッベ数νdならびに410nmおよび10mmの厚さで>80%の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスはB3+35−46カチオン%、La3+25−35カチオン%、Ta5+6−14カチオン%、W6+6−13カチオン%、Zr4+1−7カチオン%、Gd3+0−5カチオン%、Nb5+0−4カチオン%、Y3+0−4カチオン%、Ba2+0−2カチオン%、Σアルカリ土類酸化物0−2カチオン%を有することを特徴とする光学ガラス。
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複合体、光触媒機能性部材、及び親水性成部材
【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル%で、TiO2成分を5.0%以上99.0%以下、並びに、SiO2成分、B2O3成分、P2O5成分及びGeO2成分からなる群より選択される1種以上を合計で1.0%以上85.0%以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格JIS R 1703−2:2007に基づくメチレンブルーの分解活性指数が3.0nmol/L/min以上である。
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蛍光体分散用ガラス、蛍光体を分散したガラス及びその製造方法
【課題】SiAlONなどの窒化物蛍光体を分散することができ、また蛍光体の失活を防止した蛍光体分散用ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス網目を形成する少なくとも1種類の酸化物と、組成比が60mol%以下の二価の酸化物と、アルカリ金属酸化物を含むガラス。ガラス網目を形成する酸化物はTeO2及びB2O3からなるグループから選ばれ、二価の酸化物はZnO及びアルカリ土類金属の酸化物からなるグループから選ばれる。該ガラスを粉砕して窒化物蛍光体とともに二次溶融することにより窒化物蛍光体を分散したガラスの製造。
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疎水中空ガラスミクロスフェアの製造方法及びその製造方法で製造された疎水中空ガラスミクロスフェア
本発明は、噴霧乾燥方式により、低コスト疎水中空ガラスミクロスフェアを製造する方法に関し、ホウ酸、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウムの混合溶液を霧化して、高速度で撹拌しているケイ酸ナトリウムの水ガラス溶液中に入れて、混合溶液噴霧乾燥をしてから、有機ケイ素表面が改質し、疎水ガラスミクロスフェアが得られる。該中空ガラスミクロスフェアは、高生産性、低コスト、高安定性の特徴がある。 (もっと読む)
光学用ガラス
【課題】 光学ガラスに求められる要求特性を全て満足し、しかも、金型や金属製ホルダーに近似した熱膨張係数と高い屈折率と高い硬度を兼ね備えた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、モル百分率で、B2O3 10〜30%、ZnO 5〜30%、La2O3 5〜15%、TeO2 10〜45%、Nb2O5 5〜20%、TiO2 0〜10%、WO3 2〜10%、SiO2 0〜5%、Al2O3 0〜5%、CaO 0〜7%、BaO 0〜7%、SrO 0〜7%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜5%、K2O 0〜5%を含有することを特徴とする。
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半導体被覆用ガラスおよびそれを用いてなる半導体被覆用材料
【課題】環境への負担が小さくかつ表面電荷密度が大きい半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】質量%で、ZnO 50〜65%、B2O3 19〜28%、SiO2 7〜15%、Al2O3 3〜12%、Bi2O3 0.1〜5%の組成を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス。
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