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近赤外線カットフィルタガラス
【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン%表示で、P5+ 25〜37%、Al3+ 16.2〜25%、 R+ 0.5〜40%(ただし、R+は、Li+、Na+、及びK+の合量を表す)、R2+ 0.5〜45%(ただし、R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、及びZn2+の合量を表す)、Cu2+ 2〜10%、Sb3+ 0〜1%を含有すると共に、アニオン%表示で、O2− 30〜85%、F− 15〜70%、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。
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光学ガラス、プレス成形予備体および光学部品
【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、B2O3、La2O3、Gd2O3およびZnOを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83、アッベ数が45〜55、ガラス転移温度が630℃以下および液相温度における粘度が0.6Pa・s以上である光学ガラス、並びにモル%表示で、B2O3 45〜65%、La2O3 5〜22%、Gd2O3 1〜20%(ただし、La2O3とGd2O3の合計含有量が14〜30%)、ZnO 5〜30%、SiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6.5%およびSb2O3 0〜1%を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83およびアッベ数が45〜55の光学ガラスである。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォームガラス作製時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜21%、B2O3 6.5〜30%、ZnO 0〜15.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 36.6〜65%、Gd2O3 0〜16%、Ta2O5 1〜18%、Nb2O5 0〜8%未満、WO3 0.1〜25%、Li2O 0.1〜5%を含有し、屈折率が1.86以上であり、かつ、鉛成分、砒素成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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無機固体電解質の製造方法
【課題】リチウムイオン二次電池等の電池用材料、電解コンデンサ、電気二重層キャパシタ等の蓄電材料や表示素子等の電気化学デバイスへの応用が期待される高いイオン伝導性、熱的・電気化学的に安定性が高い固体電解質の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】硫化リチウムおよびその他の硫化物を必須成分として含む無機材料原料から得られる無機固体電解質の製造方法において、該無機材料原料を混合粉砕する機械的処理工程および加熱処理工程を含み、各工程を交互に複数回繰り返すことを特徴とする、無機固体電解質の製造方法。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率特性を達成しやすい、(4)可視光透過率に優れている、(5)モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、(6)耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、SnO 43.5〜90%、P2O5+B2O3+SiO2 0.1〜56.5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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収着材料
【課題】塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSr、例えば、塩化物系使用済電解質融液中に残留するFPであるCs又はSrを選択的に収着することで、電解質の再生が簡便化出来る収着材料が求められている。
【解決手段】Fe2O3を必須成分とし、モル%で表して、Fe2O3が1〜50、P2O5が50〜80、かつ、Al2O3、B2O3、TiO2、CoO、NiO、CeO2、Cr2O3、La2O3、MoO3、Nb2O5、WO3から選択される1種以上の合計が1〜40のFe2O3−P2O5系ガラスからなり、塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSrを選択的に収着することを特徴とする収着材料。ガラス転移点が450℃以上である特徴も持つ。
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盗撮防止シート
【課題】簡易な構成で、盗撮防止対象物上の画像の盗撮を防止することができる盗撮防止シートを提供する。
【解決手段】赤外蛍光体粒子14Bを含む赤外発光層14を備えた盗撮防止シート10を、表示装置等の表示画面等の盗撮防止対象物上に設置すると、表示画面から放射された可視光や自然光に含まれる可視光によって赤外発光層14中の赤外蛍光体粒子14Bが赤外光を発光する。このため、表示画面上に表示された画像を、この盗撮防止シート10を介して撮像装置によって撮像すると、CCDは赤外波長領域にも感度を有するため、赤外蛍光体粒子14Bによる赤外光が撮像されることとなる。このため、赤外蛍光体粒子14Bの発光による赤外光によって、表示画面に表示された画像が撮像装置によって撮像されることが阻害され、盗撮を防止することができる。
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蓄電デバイス用負極活物質の製造方法
【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともSとPを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。
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硫化物系固体電解質ガラスの製造方法
【課題】特殊な設備を必要としないで、硫化リチウムの粉砕及び精製を実施しなくても、イオン伝導度が高い硫化物系固体電解質を製造できる方法を提供する。
【解決手段】LiR(Rは、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルキル基、炭素数4〜20のアルキルシクロアルキル基、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルコキシ基、炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルコキシ基、又は炭素数4〜20のアルコキシシクロアルキル基である)と硫化水素を反応させて硫化リチウムを製造する工程と、硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ほう素から選択される1以上の化合物と、前記硫化リチウムとを反応させて、硫化物系固体電解質ガラスを製造する工程とを含む硫化物系固体電解質ガラスの製造方法。
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光学ガラス、プレス成形用ガラス素材および光学素子
【課題】屈折率ndが2.02以上、アッベ数νdが19.0以下の高屈折率高分散特性を有しながら、高品質の光学素子の製造に適した機械的特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
酸化物ガラスであって、
カチオン%表示にて、
P5+を14〜36%、
Bi3+を12〜34%、
Nb5+を12〜34%、
Ti4+を5〜20%、
W6+を0〜22%
含み、
Bi3+、Nb5+、Ti4+およびW6+の合計含有量が50%以上、
ヌープ硬度が370以上、屈折率ndが2.02以上、アッベ数νdが19.0以下である光学ガラス。この光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材及び光学素子。この光学ガラスを機械加工する工程を備えるプレス成形用ガラス素材の製造方法。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながらも、高価な材料の使用が低減され、且つ耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、及びLa2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、且つ、Nb2O5成分の含有量が10.0%以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあり、且つ、高価な材料の使用が低減されても耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、La2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、酸化物換算組成の質量比La2O3/(La2O3+Gd2O3)が0.690以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあり、且つ低いガラス転移点(Tg)を有しながらも、耐失透性が高く安価に製造することができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、及びLa2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、Ta2O5成分の含有量が20.0%以下である。
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構造体、及び、構造体の製造方法
【課題】 断熱性を確保しつつ、耐熱性に優れた構造体、及び、構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属からなる基材と、上記基材の表面上に形成された表面被覆層とを備えた構造体であって、上記表面被覆層は、上記基材の表面上に形成され、非晶質無機材を含む第1層と、上記表面被覆層の最外層として形成され、950℃以上の軟化点を有する結晶性無機材を含む第2層とを含むことを特徴とする構造体。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を1.0〜31.0%及びLn2O3成分を40.0〜65.0%を含有し、TiO2成分の含有量が30.0%以下、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下である。レンズプリフォームは、この光学ガラスを母材とする。
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機EL素子パッケージを利用した有機ELデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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ガラス組成物
【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Bi2O3を含有し、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であるガラス組成物。Bi2O3−B2O3−ZnO系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示で、5〜50%のB2O3、5〜90%のBi2O3、5〜70%のZnOの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示でZnO/B2O3の比の値が0.2以上かつZnO/Bi2O3の比の値が0.2以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi2O3成分、SiO2成分及び/又はB2O3成分並びにF成分を含有し、「JOGIS09−1975光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、250以上のヌープ硬さ(Hk)を有し、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。
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低粘度押出成形および射出成形のためのカルコゲナイドガラス
【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式YZを有し、ここで、YはGe,As,Sbまたはこれら2つ以上の混合物であり、ZはS,Se,Teまたはこれら2つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Yは15〜70%の範囲にあり、Zは30〜85%の範囲にあり、GeがAsおよびSbの内の一方または両方と混合された場合には、Geの量は、0<Ge<25%の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、500℃以下で10,000ポアズ以下の粘度を有し、1000〜10,000s-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。
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ガラス、発光装置用のガラス被覆材および発光装置
【課題】400℃以下の被覆処理温度での被覆が可能であるとともに、熱膨張係数が低く、さらに良好な耐候性を有するガラス。
【解決手段】酸化物基準のmol%表示で、29%〜33%のP2O5、43%〜58%のSnO、11%〜25%のZnO、0.1%〜2%のGa2O3、0.5%〜5%のCaO、ならびに0〜1%のSrOを含み、酸化物基準のmol%表示で、ZnO、Ga2O3、およびCaOの総和Xが13%〜27%の範囲である、ガラス。
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