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Fターム[4G062DA06]に分類される特許
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率特性を達成しやすい、(4)可視光透過率に優れている、(5)モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、(6)耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、SnO 43.5〜90%、P2O5+B2O3+SiO2 0.1〜56.5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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発光素子搭載基板
【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層2が形成された無機材料基板1からなり、この銀導体層2の上に発光素子6が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層2が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層2を覆うように無機材料基板2に焼き付けて形成した厚み5〜20μmのオーバーコート層3を有しており、このオーバーコート層3が酸化物基準のモル%表示でSiO2を62〜84%、B2O3を10〜25%、Al2O3を0〜5%、Na2OおよびK2Oのいずれか1以上を合計で0〜5%、含有し、SiO2とAl2O3の含有量の合計が62〜84%、MgOを0〜10%、CaO、SrO、BaOのいずれか1以上を含有する場合にその含有量の合計が5%以下のホウケイ酸ガラスである。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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磁気ディスク用ガラスブランク
【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が4μm以下であり、厚さのばらつきが6μm以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。
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太陽電池用ガラス基板
【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量%でSiO2 30〜70%、Al2O3 3〜20%、B2O3 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、SrO 0〜25%、BaO 0〜25%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜10%、ZrO2 0〜8%を含有し、且つ30〜380℃における熱膨張係数が50〜95×10−7/℃であることを特徴とする。
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無アルカリガラス
【課題】生産性(特に耐失透性)に優れると共に、歪点とヤング率が十分に高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、LTPSプロセスにおいて、ガラス板の熱収縮を抑制し、且つガラス板を大型化、薄型化した場合でも、ガラス板の撓みに起因した不具合を防止する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜80%、Al2O3 10〜25%、B2O3 2〜5.5%、MgO 3〜8%、CaO 3〜10%、SrO 0.5〜5%、BaO 0.5〜7%を含有し、モル比MgO/CaOが0.5〜1.5であり、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、ヤング率が80GPaより高いことを特徴とする。
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強化ガラス板
【課題】圧縮応力層の圧縮応力値が高く、且つ所望の色合いを有する強化ガラス板を創案すること。
【解決手段】本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板であって、ガラスの組成として、下記酸化物換算の質量%で、SiO2 50〜70%、Al2O3 5〜20%、B2O3 0〜5%、Na2O 8〜18%、K2O 2〜9%、Fe2O3 30〜1500ppmを含有し、波長400〜700nmにおける板厚1.0mm換算の分光透過率が85%以上、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるxが0.3095〜0.3120、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるyが0.3160〜0.3180であることを特徴とする。
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化学強化用ガラスおよびディスプレイ装置用ガラス板
【課題】傷がついても破壊しにくい化学強化ガラスに用いるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を65〜77%、Al2O3を3〜15%、Na2Oを8〜15%、K2Oを0〜2%未満、MgOを3〜15%、ZrO2を0〜1%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3が85%以下であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であり、かつ、各成分の含有量を用いて下記式により算出されるRが0.66以上である化学強化用ガラス。
R=0.029×SiO2+0.021×Al2O3+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO2+0.029×Na2O+0×K2O−2.002
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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無アルカリガラス、その製造方法および液晶表示装置のTFT形成用ガラス基板
【課題】 化学的耐久性、低熱膨張性、高歪み点、低比重、高ヤング率などの特性を有し、しかも泡などの欠陥が少なく製造安定性に優れる無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】 30〜300℃における平均熱膨張係数が30〜35×10−7/℃、歪み点が670℃以上、ヤング率が70GPa以上、比重が2.4未満、液相温度が1200℃未満、101.5Pa・sの粘度を示す温度が1600℃未満、50℃の濃度1モル/Lの硝酸水溶液に50時間浸漬した際の質量減少が1mg/cm2未満である無アルカリガラス、および実質的にBaO、ZnOおよびPbOを含まず、SiO2 65.0〜70.0モル%、Al2O3 9.5〜12.5モル%、B2O3 8.5〜11.5モル%(ただし、SiO2+Al2O3+B2O3 87.5〜90.0モル%)、B2O3/(SiO2+Al2O3) 0.12〜0.14、MgO 2.5〜4.0モル%未満、CaO 5.0〜10.0モル%、SrO 0.1〜2.5モル%(ただし、MgO+CaO+SrO 10.0〜12.5モル%)を含む無アルカリガラスである。
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磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。
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透明フィルム
【課題】従来よりも光学特性及び外観品質に優れた透明フィルムを提供する。
【解決手段】ガラス繊維の基材に透明樹脂組成物を含浸し硬化して形成される透明フィルムに関する。前記ガラス繊維において、酸化ホウ素(B2O3)の含有量が12〜22質量%、酸化マグネシウム(MgO)の含有量が2〜12質量%、酸化アルミニウム(Al2O3)の含有量が7〜17質量%、二酸化ケイ素(SiO2)の含有量が45〜55質量%、酸化カルシウム(CaO)の含有量が10質量%以下、酸化ストロンチウム(SrO)の含有量が5質量%以下、酸化バリウム(BaO)の含有量が10質量%以下である。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。
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強化板ガラスの製造方法
【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。
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ガラス組成物及びその用途
【課題】ガラスの失透を抑え、ガラスの成形を良好に行うことができるとともに、ポリカーボネート樹脂に配合されるガラスフィラーとして好適に用いられ、屈折率及びアッベ数をポリカーボネート樹脂のそれらに近づけてポリカーボネート樹脂成形体の透明性を向上させることができるガラス組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、必須成分として二酸化珪素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)及び酸化チタン(TiO2)を含有し、さらに酸化リチウム(Li2O)、酸化ナトリウム(Na2O)及び酸化カリウム(K2O)の少なくとも1種を含有する。各成分の含有量は質量%で表して、45≦SiO2≦65、0.1≦Al2O3≦15、9≦(Li2O+Na2O+K2O)≦25及び15≦TiO2≦25である。
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強化ガラス及び強化ガラス板
【課題】カレットとしてLCD、PDP用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO2 50〜75%、Al2O3 5〜20%、B2O3 0〜8%、Na2O 5〜20%、K2O 0.1〜10%、MgO 0.1〜15%、SrO+BaO 0.001〜5%を含有し、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+ZrO2)が0.3〜1.5であることを特徴とする。
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絶縁パターンの形成方法および電子部品の製造方法
【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を2回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が5質量%以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。
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結晶化ガラス
【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜73%、Al2O3 17〜25%、Li2O 2〜5%、TiO2 2.5〜5.5%、ZrO2 0〜2.3%、SnO2 0.2〜0.9%、V2O5 0.005〜0.09%を含有し、As2O3およびSb2O3を実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。
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強化ガラス及び強化ガラス板
【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 3〜15%、Li2O 0〜12%、Na2O 0.3〜20%、K2O 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2が0.1〜1、モル比(B2O3+Na2O)/SiO2が0.1〜1、モル比P2O5/SiO2が0〜1、モル比Al2O3/SiO2が0.01〜1、モル比Na2O/Al2O3が0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。
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液晶表示装置用ガラス基板の製造方法
【課題】 液晶表示装置用ガラス基板として、微量のアルカリ金属酸化物を含むガラス板を製造するに際し、アルカリ金属酸化物による清澄効果(気泡低減効果)を向上させる。
【解決手段】 ガラス原料を熔融して熔融ガラスを生成する工程と、熔融ガラスをガラス板へと成形する工程とを含み、ガラス板が、SiO2、Al2O3およびR2O(R:Li、Na、Kから選ばれる少なくとも1種であって少なくともその一部がNa)を含むとともに、R2Oの含有率が0.01〜2.0質量%であってNa2Oの含有率が0.01〜0.15質量%であるガラス組成物からなり、ガラス原料が、Al2O3の原料として、Na2Oを0.1〜0.6質量%の範囲で含有するアルミニウム酸化物(アルミナ)を含む、液晶表示装置用ガラス基板の製造方法とする。
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