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強化ガラス及び強化ガラス板
【課題】カレットとしてLCD、PDP用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO2 50〜75%、Al2O3 5〜20%、B2O3 0〜8%、Na2O 5〜20%、K2O 0.1〜10%、MgO 0.1〜15%、SrO+BaO 0.001〜5%を含有し、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+ZrO2)が0.3〜1.5であることを特徴とする。
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情報記録媒体用基板の製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO2成分、Al2O3成分、R’2O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が0.1〜5μmのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。
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結晶性ガラス粉末
【課題】内部の気泡を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有する結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶と長石結晶が析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末。結晶性ガラス粉末は、ガラス組成として質量%で、SiO2 20〜65%、CaO 3〜25%、MgO 7〜30%、Al2O3 0〜20%、BaO 5〜40%を含有し、かつ質量比で、1≦SiO2/BaO≦4の関係を満たすことが好ましい。
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情報記録媒体用基板の製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO2成分、Al2O3成分、R’2O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをt1、加工時の前記アモルファスガラスの厚さt2とするとき、t2/t1≦1.2の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。
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模様付き結晶化ガラス物品
【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも1種の結晶を含み、厚さが6mm超18mm以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Aと、前記結晶化ガラス層Aの片面および側面から選択される少なくとも1つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Bと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを0.5nm以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス(MW-Rq)を0.5nm以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび/またはギブサイトを含むものを使用する。
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被覆アルミナフィラー、ガラスセラミックス組成物、発光素子用基板、および発光装置
【課題】発光素子用基板におけるガラスセラミックスの変色を抑制できるアルミナフィラーを提供すること。
【解決手段】発光素子を搭載する発光素子用基板の製造に用いられるアルミナフィラーであって、アルミナフィラーと、前記アルミナフィラーの表面を被覆し、アルミニウム以外の金属の酸化物からなる被覆層とを有することを特徴とする被覆アルミナフィラー。
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半導体封入用外套管の製造方法及び半導体封入用外套管
【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】106dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、B2O3が15.5モル%以上の組成を有するSiO2−B2O3−R2O系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。
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光学ガラス
【課題】 ガラス転移点Tgが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散(具体的には屈折率ndが1.48〜1.54、アッベ数νdが59〜67)の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO2 45.5〜70%、B2O3 10〜44%、Al2O3 7.2〜20%、TiO2 0〜7%、Na2O 1〜20%、Li2O 0〜9%、R2O 3〜30%(R2OはNa2O、Li2O及びK2Oの合量)、Sb2O30〜0.1%未満、(B2O3+R2O)/(Al2O3+SiO2)が0.16〜0.80であり、実質的にPbOを含まないことを特徴とする。
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コバルト含有ガラス、青色フィルタおよび放射線画像読取装置
【課題】励起光遮断特性を高めることにより、励起光カットフィルタの厚みを従来の色ガラス材よりも薄くできる色ガラス材を提供する。
【解決手段】 陽イオンとして、陽イオン%表示で、
Si4+ 25〜60%
Al3+ 3〜19%
B3+ 18〜38%
K+ 9〜31%
Co2+ 0.1〜1.5%
を含み、陰イオンとして、O2−を主成分として含み、さらに陰イオン%表示で、
F− 1〜12%
Cl− 0.01〜2%
を含むことを特徴とするコバルト含有ガラスである。
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無アルカリガラス基板
【課題】回路形成時にフォトマスクによる補正が可能な大型の無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】短辺、長辺ともに1500mm以上の無アルカリガラス基板において、常温から10℃/分の速度で昇温し、保持温度450℃で10時間保持し、10℃/分の速度で降温(図1に示す温度スケジュールで熱処理)したときに、基板内の熱収縮率絶対値の最大値と最小値の差が5ppm以内となることを特徴とする。この基板は、成形時の冷却過程において、徐冷点から(徐冷点−100℃)の温度の範囲での平均冷却速度が、板幅方向の中央部分と端部とで100℃/分以内でとなるように調節することで作製可能である。
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ガラス状物質
【課題】人やペットを火葬してできる遺骨等をできるだけ多く含有させることができるオブジェを得る。
【解決手段】生物を燃焼してできる遺骨又は/及び遺灰と、ガラス転移温度降下剤と、酸化ケイ素とを含有したガラス状物質において、酸化ケイ素の含有量をX重量%とし、ガラス転移温度降下剤の含有量をY重量%とした場合に、(1)Y≦7.0X−34.0、(2)Y≧−3.5X+40.0、(3)8≦X、5≦Yという条件を満たし、生物を燃焼してできる遺骨又は/及び遺灰を20重量%〜80重量%含有させる。
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フロート結晶化ガラスの強化セラミック化の方法
【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に3体積%以上、水素の場合には2体積%以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも30MPaであるとする方法。
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熔融スラグを含むガラス原料から製造される褐色ガラス
【課題】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを19重量%以上含むガラス原料から製造される、素材安定性に優れ、一般的な工芸ガラスと共に使用する場合にもクラックを生じさせない褐色ガラスを提供する。
【解決手段】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを、ガラス原料の全重量を基準にして19重量%〜50重量%の量で含むガラス原料から製造された褐色ガラスであって、好ましくは、線膨張係数α(室温〜300℃)が、(103±7)×10−7/℃の範囲内である。また、熔融スラグを元素分析することにより得られた各元素の重量パーセンテージに0.6をかけた値を、褐色ガラスに導入される熔融スラグ中の各元素由来の酸化物の重量パーセンテージと規定した場合に、褐色ガラスが酸化物換算による重量%表示で、SiO245〜60%;Na2O11.5〜12.5%;B2O31.2〜1.5%;K2O5.5〜8.0%;CaO5.0〜8.5%;Al2O32.0〜3.0%;Sb2O30.2〜0.4%;ZnO2.0〜3.0%;BaO2.0〜3.0%;F20.05〜0.15%;Li2O0.2〜0.4;Mg0.2〜0.4;Fe2O30.4〜0.8;TiO20.2〜0.5;を含む前記褐色ガラスも提供される。
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低硼素含量マイクロガラス繊維の濾過媒質
【課題】
硼素をベースにしたガスの放出を起こさず、粒子および/またはオイルを保持し且つ湿った環境に耐え、折り目強さを著しく失うことなく長期間に亙って増加した耐湿性を有するガラス繊維の不織布ウエッブ、例えば複合体を提供する。
【解決手段】
本発明によれば実質的に硼素を含まないガラスウールと補強材料として使用される実質的に硼素を含まない切断ガラス繊維から成る不織布ガラス複合体が提供される。本発明の不織布ガラス複合体は空気濾過装置に適しており、クリーンルームから硼素を除去することが重要な半導体工業において使用することができる。
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記録媒体用ガラス基板
【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が10〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が1〜9.9質量%であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。
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フラットパネルディスプレイ用カバーガラス
【課題】自発的に破壊しにくいフラットパネルディスプレイ用カバーガラスの提供。
【解決手段】フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が40μm以上の欠点を含まず、内部引張り応力が30MPa以上、且つ厚さが1.5mm以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。
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記録媒体用ガラス基板
【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2およびP2O5の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0.1〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2およびP2O5の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0〜0.1質量%であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。
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高屈折率ガラス
【課題】有機発光素子やITOの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、SiO2+Al2O3+B2O3を0.1〜60質量%含有し、質量比(BaO+La2O3+Nb2O5+TiO2+ZrO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)が0.1〜50、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(BaO+La2O3+Nb2O5+TiO2+ZrO2)が0〜10、質量比(TiO2+ZrO2)/(BaO+La2O3+Nb2O5)が0.001〜40、屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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高屈折率ガラス
【課題】本発明は、耐熱性が高く、且つ有機発光素子やITOの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 10〜60%、B2O3 0〜5%、BaO 0.1〜60%、La2O3+Nb2O5 0.1〜40%、Li2O+Na2O+K2O 0〜10%を含有すると共に、質量比(MgO+CaO)/(SrO+BaO)の値が0〜0.5、歪点が600℃以上、屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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