【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を２０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を０％〜４０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を０％〜２０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％〜３０．０％含有し、ＴｅＯ_２／（Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３）が１．０以上、Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｌａ_２Ｏ_３が０％より多く６０％以下であり、摩耗度が２００以上８００以下、ヌープ硬度が２５０以上６５０以下、粉末法耐水性クラス（RW）が１以上３以下、粉末法耐酸性クラス（RA）が１以上３以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高周波電子部品の回路基板材料等の用途に利用可能な、誘電率εが高く、温度特性τεの絶対値が小さい誘電体材料を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２を５〜５０％、ＳｒＯを３〜５０％、及び、ＳｉＯ_２を１５〜８５％を含有し、ＳｒＴｉＯ_３結晶及び／又はその固溶体を含有する。ガラスセラミックスは、好ましくは誘電率εが２０以上であり、Ｑ値が１０００より大きく、誘電率εの温度特性τεの絶対値が３００未満である。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が携帯機器用カバーガラスの高いガラス基材を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されない形状であり、前記一対の主表面及び前記端面には、イオン交換処理により化学強化されることによって圧縮応力層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、耐ソラリゼーションが良好であり、可視光に対する透明性が高く、部分分散比が小さく、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易い光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る。
【解決手段】 酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を３０．０〜７０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を０％〜２５．０％、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を０％〜２０．０％以下含有し、ソラリゼーションが５．０％以下であることを有する。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、ＷＯ_３成分及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群から選択される１種以上を合計で７５．０％未満含有し、０．６２以上０．６９以下の部分分散比［θｇ，Ｆ］を有し、１５以上２７以下のアッベ数（ν_ｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するＬＴＣＣ基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】２５〜６０質量％のガラス粉末と１５〜５０質量％のアルミナ粉末および１０〜４０質量％の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を０〜５０質量％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜５０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０質量％、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる１種以上を合計で３〜６５質量％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選ばれる１種以上を合計で０〜２０質量％、Ｂｉ_２Ｏ_３を０〜５０質量％含有し、「（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量）の３倍」＋「（ＺｎＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量）の２倍」＋「（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量）の１０倍」の値が２００を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ製造プロセスにおけるガラス板の寸法変化を減少させる。
【解決手段】 プロセス中にガラス板のガラスのピーク膨張を増加させるようにガラスの組成を変更する工程を有してなる。変更工程が、ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度が少なくとも０．２５モル％だけ増加されることが好ましく、１．０モル％だけ増加させることがより好ましい。変更工程が、ガラスの水濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ディスプレイ装置を製造する製造プロセスにおいて基板として使用するためのガラス板も提供される。 （もっと読む）

【課題】４５０℃以下の低温域で良好に軟化流動し、且つ耐候性も良好なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスを創案することにより、近年の環境的要請を満たしつつ、電子部品や表示装置の長期信頼性を高めること。
【解決手段】本発明のＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％で、ＳｎＯ ５０〜７０％、Ｐ_２Ｏ_５ １５〜２５％（但し、２５．０％を含まない）、Ｂ_２Ｏ_３ ０．１〜５％（但し、５．０％を含まない）、ＺｎＯ １〜１５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎｄが１．８９以上、アッベ数νｄが２８〜３６であり、組成にＢ，Ｚｎ，Ｌａ，Ｓｉ，Ｇｄ，Ｔｉ，Ｗを必須として含み、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、Ｙ，Ｙｂ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｅ，Ｇｅ，Ｂｉ，Ａｌを０〜５％含んでおり、これら成分のカチオン比が、（Ｂ³⁺／（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺））が０．７０〜０．９６、（Ｂ³⁺／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜２．０、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜３．０、（Ｂ³⁺／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．８〜４．０、、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が１．５〜５．０、等となる光学ガラスとする。 （もっと読む）

【課題】粘性状態でプレスすることによって、プロセスが実質的に亀裂も傷も含まないコーティングを形成するプロセスで、酸化ジルコニウムセラミックにコーティングされ得るガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】特に粘性状態でプレスすることによって、酸化ジルコニウムセラミックに有利に塗布され得、そしてこの酸化ジルコニウムセラミックとしっかりした結合を形成し得る、ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスが提供される。 （もっと読む）

【課題】低膨張のガラス基板上に亀裂や崩れを生じさせることなく高さの高い隔壁を形成することが可能な隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料は、ガラス粉末とフィラー粉末を含む隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であって、質量％で、ガラス粉末が３０〜６０％、フィラー粉末が４０〜７０％からなり、ガラス粉末がＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスからなり、フィラー粉末が球状シリカからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラス、前記光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子と、前記光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】前記光学ガラスは、屈折率ｎｄが１．８６以上、アッベ数νｄが２８〜３６、液相温度が１０００℃以下であり、カチオン％表示で、
Ｓｉ⁴⁺ ０〜５％
Ｂ³⁺ ２５〜４５％、
Ｌｉ⁺ ０〜２０％、
Ｎａ⁺ ０〜５％、
Ｋ⁺ ０〜５％、
Ｍｇ²⁺ ０〜５％、
Ｃａ²⁺ ０〜５％、
Ｓｒ²⁺ ０〜５％、
Ｂａ²⁺ ０〜５％、
Ｚｎ²⁺ ５〜４０％、
Ｌａ³⁺ ５〜２５％、
Ｇｄ³⁺ １〜１５％、
Ｙ³⁺ ０〜５％、
Ｙｂ³⁺ ０〜５％、
Ｚｒ⁴⁺ ０〜３％、
Ｔｉ⁴⁺ １〜１５％、
Ｎｂ⁵⁺ ０〜５％、
Ｔａ⁵⁺ ０〜５％、
Ｗ⁶⁺ １〜３０％、
Ｔｅ⁴⁺ ０〜５％、
Ｇｅ⁴⁺ ０〜５％、
Ｂｉ³⁺ ０〜５％、
Ａｌ³⁺ ０〜５％、
を含む。以下のカチオン比を有する。（Ｂ³⁺／（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺））が０．８５〜１．００、（Ｂ³⁺／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜３．０、（Ｂ³⁺／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．５〜４．０、（Ｚｎ²⁺/（Ｚｎ²⁺＋Ｍｇ²⁺＋Ｃａ²⁺＋Ｓｒ²⁺＋Ｂａ²⁺））が０．８〜１．０、（（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺）／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．３〜２．５、Ｔｉ⁴⁺／Ｗ⁶⁺が０．１〜１．５、（（Ｔｉ⁴⁺＋Ｗ⁶⁺）（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．８〜１．０。 （もっと読む）

【課題】屈折率が容易に変更可能であるが、他の特性は実質的に損なわれない、ケイ酸リチウムベースのガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックであって、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、４１〜７９の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、ケイ酸リチウムガラスセラミックを提供する。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着に好適な封着材料、具体的にはレーザ光を吸収しやすく、且つ軟化点が低い封着材料を創案することにより、有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、ＳｎＯ含有ガラス粉末を含む無機粉末 ８０〜９９．７質量％と、顔料 ０．３〜２０質量％とを含有し、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．９以上で、アッベ数が１９〜２２の光学恒数を有し、しかも光透過特性に優れたリン酸塩系光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物基準のｍｏｌ％で、酸化物基準のｍｏｌ％で、Ｐ_２Ｏ_５２０．０−３０．０Ｂ_２Ｏ_３３．５−１０．０ＳｉＯ_２０−５．０ＢａＯ ０−５．０Ｎａ_２Ｏ １６．２−２５．０Ｋ_２Ｏ ０−８．０ Ｂｉ_２Ｏ_３ １０．０−２０．０ＴｉＯ_２ ３．０−１５．０Ｎｂ_２Ｏ_５ １０．０−２０．０ＷＯ_３ ５．０−１５．０ＺｎＯ ０−５．０を含有し、かつ、Ｌｉ_２Ｏを実質的に含まず、液相粘性(η_ＴＬ)が７ｄＰａ・ｓ以上で、屈折率ｎ_ｄ：１．９０以上、である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で、Ｐ_２Ｏ_５成分、ＳｉＯ_２成分及びＢ_２Ｏ_３成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。 （もっと読む）

【課題】塩素もしくは塩化物と反応し難く、耐塩化物性に優れ、かつ耐熱性を有したガラス組成物に関するもので、塩素成分を含む高温の溶融塩による腐食から、ステンレス鋼等を保護する皮膜を形成するための皮膜形成用ガラス組成物及びその利用方法を提供すること。
【解決手段】モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５が３０〜８０、Ｆｅ_２Ｏ_３が０〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜３０、Ｂ_２Ｏ_３が０〜１５、ＴｉＯ_２が０〜４０、ＺｒＯ_２が０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選択される１種以上の合計）が０〜１５、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種以上の合計）が０〜１５で、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が１〜６５、Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏが０〜２０からなる軟化点が５５０℃以上で、かつ、塩素または塩化物に対する耐性に優れた皮膜形成用ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】それ自身白色乃至青色に発光するガラス、また、そのようなガラスを被覆した発光素子及び発光装置を提供する。
【解決手段】発光ガラスは、紫外線領域の光による励起によって蛍光を発するガラスであって、ＳｎＯ_ｘ及びＰ_２Ｏ_５を含有し、かつＳｎ原子の全量に対するＳｎ^２＋の存在率が５〜９５％である。発光素子及び発光装置は、そのようなガラスで半導体発光素子の主表面を被覆してなる。 （もっと読む）

【課題】焼成後にガラス膜内に発生する気孔を抑制ないしは防止できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量１０万以上の有機高分子及びガラス粉末を含み、前記有機高分子及びガラス粉末の総重量を１００重量％としたときの有機高分子の含有量が０．０５２〜０．２５重量％であることを特徴とするガラス組成物に係る。 （もっと読む）

【課題】内部の気泡が少ないため薄型化しても配線の断線を引き起こしにくく、かつ高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック誘電体に好適な結晶性ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜６５％、ＣａＯ ２０超〜２７％（ただし、モル比でＣａＯ／ＳｉＯ_２が０．５未満または０．５５以上）、ＭｇＯ １２〜２５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．０１〜０．５％未満を含有し、主結晶としてディオプサイド結晶を析出することを特徴とする結晶性ガラス。 （もっと読む）