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Fターム[4G062DC02]の内容

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Fターム[4G062DC02]に分類される特許

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【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約75重量%の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび/またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が1.78以上、アッベ数(ν)が30以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比(θg,F)が0.624以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO、Nbを含有し、質量%の比率でNbが40%より多いことを特徴とする光学ガラス。質量%の比率でKOが2%未満、TiO/(ZrO+Nb)が0.32未満、かつSiO、B、TiO、ZrO、Nb、WO、ZnO、SrO、LiO、NaOの合計含有量が90%より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量%表示で、SiO:50〜70、Al:1〜22、ZrO:0〜8、B:0〜8、RO:10〜30(RはLi、Na及びKからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、MO:0〜20、(MはMg、Ca、Sr及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はROとしてLiOを少なくとも1質量%有し、AlとZrOとを少なくとも合計で6質量%有し、軟化点温度が650℃以下であること。 (もっと読む)


【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを66〜77%、Alを7〜17%、Bを0〜7%、LiOを0〜9%、NaOを0〜8%、KOを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiOを0〜5%、ZrOを0〜5%含有し、SO、AlおよびBの含有量の合計SiO+Al+Bが81〜92%、LiO、NaOおよびKOの含有量の合計LiO+NaO+KOが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、NaO、KOおよびCaO含有量の合計NaO+KO+CaOが0〜10%、TiOおよびZrOの含有量の合計TiO+ZrOが0〜5%である基板用ガラス。 (もっと読む)


【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl、RTiO、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO40%〜60%、Al7%〜23%、TiO1〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P0%〜7%、B0%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO+Al)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜70%、Al 12〜21%、B 0〜6%、LiO 0〜1%、NaO 7〜20%、KO 0〜4%を含有し、質量比KO/NaOが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い導電性と機械的強度を備える接合部を形成可能な導電性接合材を提供し、該導電性接合材によって形成された接合部を有する固体酸化物形燃料電池(SOFC)システムを提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるSOFCシステム(110)に形成される接合部(120)は、以下の二つの成分:
(a)Ag;および、
(b)クリストバライト結晶、リューサイト結晶及びフォーステライト結晶のうちから選択される少なくとも1種の結晶がガラスマトリックス中に析出していることを特徴とするガラス;
が混在して形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高温粘度が低いガラス(特にガラス板)を創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 45〜55%(但し、55%を含まず)、Al 10.0超〜15%、B 0〜15%、MgO 0〜3.7%未満、CaO 2.9超〜8%、SrO 4.0超〜15%、BaO 2.0超〜14%未満(但し、14.0%を含まず)、LiO 0〜10%、NaO 4.0超〜15%、KO 0〜10%、ZrO 0〜7%、Fe 0.01〜1%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】紫外スペクトルにより環境中の有害細菌を有効的に抑制又は殺滅する方法。
【解決手段】類地紫外スペクトル自体放出のガラスセラミックス材を利用して抗菌する新方法であり、前記ガラスセラミックスは電源を要らずに地球自然環境中の赤外線、可視光線又は紫外線により励起され、自体から類地紫外スペクトルを放出するものであることを特徴とする方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】250℃以上での耐熱性と絶縁性を保持しつつ、−50℃〜200℃の熱サイクルでも、半導体素子と封止材、および、半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離することがなく、しかも、封止するために封止材を1mm以上の厚さで用いた場合でもクラックが生じることのない、ガラスフリット複合材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性シリコーン樹脂3〜40重量%、1〜1000ppmのアルカリ金属を含有するシリカ1〜20重量%、鉛を含有しないガラスフリット1〜30重量%、コージライト30〜90重量%、を含有することを特徴とするガラスフリット複合材料。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さRaを3〜50000Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が100ギガビット/平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低出力のレーザにより、適正にレーザ封着が可能な封着材料ペースト及び封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機EL素子パッケージを備える有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料ペーストは、無機粉末とビークルを含む封着材料ペーストにおいて、無機粉末がSnO含有ガラス粉末を含み、ビークルが樹脂バインダーと溶剤を含み、質量比で無機粉末/ビークルの値が0.45〜1.65であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】一体感があり、漏水を生じるような隙間がなく、角張った屈曲角部にも施工可能であり、更なる軽量化を図ることができる結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス物品10は、互いに融着した複数のガラス小領域同士の界面から内部に向かって針状結晶が析出した結晶化ガラスよりなる第一焼結体11と、同様な結晶化ガラスよりなる第二焼結体12とを備え、第一焼結体11の一の面11aの一部11bに第二焼結体12が融着一体化されてなる。 (もっと読む)


【課題】従来よりも発光強度の高い蛍光体複合部材を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】無機基材上に、ガラス粉末および無機蛍光体粉末を含有する混合粉末を載置する工程、および、金型を用いて加熱しながら混合粉末をプレス成型し、無機基材表面に無機粉末焼結体層を形成する工程、を含むことを特徴とする蛍光体複合部材の製造方法。無機基材が、YAG系セラミックス、結晶化ガラス、ガラス、金属または金属とセラミックスの複合体であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有し、前記ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなる基板である。そして、前記研磨工程は、一次粒子の平均粒子径が1〜80nmのシリカ粒子を含有し、pHが3.5〜5.5で電気伝導率が7mS/cm以下である研磨液と、研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有する。 (もっと読む)


【課題】ガラス組成中に鉛を含まなくても、放射線遮蔽性能が高いガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 15〜55%、B 0〜10%、SrO 0.001〜35%、ZrO+TiO 0.001〜30%、La+Nb 0〜10%を含有し、質量比BaO/SrOが0〜40、質量比SiO/SrOが0.1〜40であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ELデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より3.5mm以上外周側でかつ外周端面より3.5mm以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が0.5nm未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラス基板の表面を研磨処理しなくても、表面品位が良好な太陽電池用ガラス基板を得ることにより、太陽電池の品質向上を図ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、平均表面粗さ(Ra)が20Å以下、好ましくは10Å以下であることを特徴とし、更にその表面が未研磨であることを特徴とする。 (もっと読む)


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