説明

Fターム[4G062DC06]の内容

ガラス組成物 (224,797) |  (6,118) | 50−70 (176)

Fターム[4G062DC06]に分類される特許

141 - 160 / 176


【課題】樹脂の劣化による白色LEDの発光強度の低下や短寿命化を抑制でき、演色性が高く、しかも、色温度の低い白色光(電球色)を得ることが可能な発光色変換部材を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス基材とガラス焼結層とを有する発光色変換部材であって、結晶化ガラス基材の片面若しくは両面にガラス焼結層が形成されてなり、励起光が照射されたときに、結晶化ガラス及びガラス焼結層が互いに異なる波長の蛍光を発する性質を有する発光色変換部材。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、B 15〜65%、SiO 2〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 5〜45%、LiO+NaO+KO 2〜25%、Al 0〜30%、Bi 0.1〜15%、P 0〜15%、から本質的になり、ZnOを含有する場合その含有量が5モル%未満であり、PbOを含有しない電極被覆用ガラス。前面基板または背面基板に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているプラズマディスプレイ装置。 (もっと読む)


【課題】鉛、すなわち環境に有害な物質を排除したシーリングガラス組成物、また、同物質を用いたフラットパネルディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】本発明のシーリングガラス組成物は、Sb2320モル%乃至50モル%、B2330モル%乃至70モル%、SiO25モル%乃至15モル%、及びAl230モ
ル%乃至15モル%を含む。本発明のフラットディスプレイ装置は前面パネルと背面パネルを有し、それらはその間に所定の間隔を有してシーリングガラス組成物と一緒に組み合わせられる。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板電極を被覆したときにその電極近傍に大きな泡が残存しにくくなるもの、または結晶が析出しにくいものの提供。
【解決手段】軟化点が650℃以下かつ150℃における比抵抗が1012Ω・cm以上でありPbOおよびBiのいずれも含有しない酸化物ガラスからなり、ZnOを含有しない、またはZnOを含有する場合その含有量が10モル%以下である電極被覆用ガラス。前記電極被覆用ガラスであって、そのガラスの質量平均粒径が5μm以下である粉末について(軟化点−50℃)以上(軟化点+30℃)以下の温度に30分間保持する焼成を行ったときに結晶析出が認められない電極被覆用ガラス。50〜350℃における平均線膨張係数が70×10−7〜90×10−7/℃である前記電極被覆用ガラス。1MHzにおける比誘電率が9以下である前記電極被覆用ガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が1.75以上で、アッベ数(ν)が15〜40の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル%で、B+SiOを10〜70%、Biを5%以上かつ25%未満、RO+RnOを5〜60%(RはZn、Ba、Sr、Ca、Mgからなる群より選択される1種以上を示す。また、RnはLi、Na、K、Csからなる群より選択される1種以上を示す。)の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性が高く、転移点(Tg)が520℃以下であることを特徴とする光学ガラス。波長が550nmで10mm厚の分光透過率が70%以上であること特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が1.85以上で、アッベ数(ν)が10〜30の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル%で、B+SiOを3〜60%、Biを25〜80%、RO+RnOを5〜60%(RはZn、Ba、Sr、Ca、Mgからなる群より選択される1種以上を示す。また、RnはLi、Na、K、Csからなる群より選択される1種以上を示す。)の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性が高く、転移点(Tg)が480℃以下であることを特徴とする光学ガラス。波長が600nmで10mm厚の分光透過率が70%以上であること特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】 高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】 必須成分として、B23、La23、Gd23およびZnOを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83、アッベ数が45〜55、ガラス転移温度が630℃以下および液相温度における粘度が0.6Pa・s以上である光学ガラス、並びにモル%表示で、B23 45〜65%、La23 5〜22%、Gd23 1〜20%(ただし、La23とGd23の合計含有量が14〜30%)、ZnO 5〜30%、SiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6.5%およびSb23 0〜1%を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83およびアッベ数が45〜55の光学ガラスである。 (もっと読む)


【課題】低融点で、しかもAgによる着色が生じにくい非鉛ガラスからなるプラズマディスプレーパネル用透明誘電体層の形成方法及びプラズマディスプレーパネル前面ガラス板を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレーパネル用透明誘電体層の形成方法は、Ag電極上に、少なくともK2Oを含むアルカリ含有非鉛ガラス粉末からなる材料を形成し、焼成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 Pbフリーで、TCRに優れた厚膜抵抗体を実現し得る厚膜抵抗体用ガラス組成物及び厚膜抵抗体ペーストを提供する。
【解決手段】 下記に組成を示すように、AgやPd等の貴金属元素を含有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ガラス組成物は、導電性材料及び有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これを例えば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
CaO,SrO,BaOから選択される1種若しくは2種以上:13〜45モル%
,SiOから選択される1種若しくは2種:35〜80モル%
ZrO,Alから選択される1種若しくは2種:0〜11モル%
Ta,Nbから選択される1種若しくは2種:0〜8モル%
MnO:0〜15モル%
貴金属元素から選択される1種若しくは2種以上:0.1〜10モル% (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiOを12〜25、Bを45〜65、ZnOを5〜15、RO(LiO+NaO+KO)を10〜18、BaOを0.1〜3、ZrOを0.1〜7、CuOを0.1〜2含み、更にB/ZnOの重量比が3以上7以下であることを特徴とするSiO−B−ZnO−RO−BaO−ZrO−CuO系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上630℃以下である特徴を有す。 (もっと読む)


【課題】 例えば10kΩ/□以上の高い抵抗値を有し、温度特性(TCR)及び耐電圧特性(STOL)の両立を図ることができ、さらには充分な信頼性を実現する。
【解決手段】 ガラス組成物、導電性材料及び添加物を含有し、これらが有機ビヒクルと混合されてなる厚膜抵抗体ペーストであって、前記添加物として、非晶質構造を有しアルカリ土類金属酸化物と酸化チタンとを少なくとも含む複合酸化物を含有する。複合酸化物は、例えばBaO−TiO、CaO−TiO、SrO−TiO、BaO−CaO−TiO、BaO−CaO−TiO−ZrOから選択される1種又は2種以上である。 (もっと読む)


【課題】 植物の成長を促進または抑制する効果が得られる光条件の環境を形成することができると共に、優れた耐候性、耐紫外線性および機械的強度を有する植物成長制御用光透過材料、並びに、植物成長制御用透光性材料およびその製造方法の提供。
【解決手段】 植物成長制御用光透過材料(植物成長促進用光透過材料または植物成長抑制用光透過材料)は、植物育成空間の光条件を調整するための光透過材料であって、低融点ガラスよりなる基材中に遷移金属イオンよりなる光吸収材がドープされてなり、光合成有効光量子束透過率が50%以上であり、かつ波長領域700〜800nmの近赤外光の光量子束に対する波長領域600〜700nmの赤色光の光量子束の比が、成長促進用では0.9以下とされ、成長抑制用では1.3以上とされる。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルタ層の形成を不要とすることが可能になり得る電極被覆用ガラス。
【解決手段】CuおよびCoを含有し、CuのCuO換算含有量が0.05〜2モル%かつCoのCoO換算含有量が0.05〜2モル%である電極被覆用ガラス。下記酸化物基準のモル百分率表示で、B 20〜60%、SiO 5〜50%、PbO+ZnO 10〜40%、Al 0〜15%、SrO+BaO 0〜20%、TiO 0〜10%、Bi 0〜9%、LiO+NaO+KO 0〜16%、CuO 0.05〜2%、CoO 0.05〜2%、CeO 0〜2%、MnO 0〜2%、から本質的になる電極被覆用ガラス。 (もっと読む)


本発明は一般式aを有する窒化ガラスに関し、式中、aは少なくとも一種の陽性元素を含むガラス変性剤であり、bはSi,B,Ge,Ga及び/又はAlでありgはN又はOを伴うNであり、O:Nの原子比は65:35〜0:100である。また、本発明は窒化ガラスの製造方法及びそのガラスの用途に関する。結果は硬度、弾性率、破壊靱性、及びガラス転移温度の如き酸化ガラスの物理的及び機械的特性がネットワークの原子構造が酸素原子を窒素原子によって置き換えることによって強化されるときに改良/増加されることを明らかに示す。さらに、結果は極めて高い屈折率を達成できることを示す。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiOを2〜18、Bを25〜55、ZnOを10〜45、RO(LiO+NaO+KO)を20.1〜35、CuOを0.1〜2含み、MnOを0〜2、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を0〜10含み、更にCo又はMnを酸化物として0〜2含むことを特徴とするSiO−B−ZnO−RO−CuO系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(95.1〜120)×10−7/℃、軟化点が450℃以上600℃以下である特徴を有す。 (もっと読む)


【課題】 高い耐熱性と絶縁性を有し、温度変化によっても絶縁皮膜の破断が生じない無機系の絶縁材料で被覆されたモータ用耐熱絶縁コイルを提供する。
【解決手段】 (1)P酸化物及びB酸化物、特にP及びB、並びに(2)2種類以上のアルカリ金属酸化物、特にLiO、NaO及びKOから選ばれる金属酸化物を含有し、ガラス転移点における熱膨張率が8〜23×10−6/℃であるガラスからなる絶縁皮膜を有することを特徴とするモータ用耐熱絶縁コイル。 (もっと読む)


【課題】 比較的低い融点を有する、高いガラス転移点等を有し耐熱性に優れる、熱膨張率が銅に近い、そして絶縁性も高い、との特性を全て満たす耐熱絶縁被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】 (1)P酸化物及びB酸化物、並びに(2)2種類以上のアルカリ金属酸化物を含有し、ガラス転移点における熱膨張率が8〜23×10−6/℃であることを特徴とする耐熱絶縁被覆用ガラス、特にP酸化物及びB酸化物が、それぞれ、P及びBである耐熱絶縁被覆用ガラス。 (もっと読む)


【課題】 ガラス粉末を溶剤に分散した分散液に導体を浸漬し、引上げ、その後熱処理を行う耐熱絶縁被覆の製造方法であって、導体表面に均一にガラス被覆が形成され、ガラス被覆内にボイドが生じることもない耐熱絶縁被覆の製造方法を提供する。
【解決手段】 最大粒径が60μm以下のガラス粉末を、30〜70重量%の濃度で溶剤に分散してなる分散液に、導体を浸漬して引上げ、導体表面に前記分散液の塗布膜を形成し、その後加熱することにより、前記塗布膜中の溶剤を除去するとともに、ガラス粉末を溶融してガラス層を形成することを特徴とする耐熱絶縁被覆の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 表面にクモリやヤケなどの変質層の発生による品質低下を起こしにくい精密プレス成形用の光学ガラス、および該光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームと光学素子を提供する。
【解決手段】 BO、LaOおよびZnOを含み、精密プレス成形のガラス素材として用いられる光学ガラスにおいて、モル%表示で、BO 20〜60%、SiO 0〜20%、ZnO 22〜42%、LaO 5〜24%、GdO 0〜20%(ただし、LaOとGdOの合計量が10〜24%)、ZrO 0〜10%、TaO 0〜10%、WO 0〜10%、NbO 0〜10%、TiO 0〜10%、BiO 0〜10%、GeO 0〜10%、GaO 0〜10%、AlO 0〜10%、BaO 0〜10%、YO 0〜10%およびYbO 0〜10%、を含み、かつアッベ数(ν)が40以上で、実質的にリチウムを含まない光学ガラス、および該光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームと光学素子である。 (もっと読む)


【課題】開口数のより大きなレンズを得るべくより屈折率の高いガラスが求められている。
【解決手段】モル%で、B 25〜57%、ZnO 5〜25%、La 5〜30%、Ga 1〜20%、TiO+WO 1〜15%、LiO 0〜15%、GeO 0〜20%、TeO 0〜20%、Ta 0〜10%、ZrO+In+Y+Gd 0〜20%、B+GeO 30〜60%である光学ガラス。また、ガラス転移点が600℃以下である前記光学ガラス。また、波長405nmの光に対する屈折率が1.85以上、アッベ数が35以上である前記光学ガラス。前記光学ガラスからなるレンズ。 (もっと読む)


141 - 160 / 176