【課題】相対屈折率の温度係数（ｄｎ／ｄＴ）が高く、結像特性等の影響を補正できる性質を有し、アッベ数（ν_ｄ）が低く、可視光に対する透過率が高く、且つガラス環境への悪影響のない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５５．０〜９５．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を４．０〜３５．０％含有し、相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が３．０×１０^−６（℃^−１）以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ヨウ素電解液に侵食され難く、且つ低融点特性を有する封止材料等を創案することにより、色素増感型太陽電池の長期耐久性を高めると共に、ガラス板の変形を防止することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の色素増感型太陽電池用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ６０〜８７％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜１５％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｐ_２Ｏ_５ ０．０１〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスをより安価に得ることが可能な、光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を１．０〜３０．０％及びＬａ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５５．０％含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が１３．０％未満である。この光学ガラスは、１．７５以上の屈折率（ｎ_ｄ）を有し、３０以上５０以下のアッベ数（ν_ｄ）を有することが好ましい。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、屈折率（ｎｄ）が１．８５以上を有しアッベ数（νｄ）が２５以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供することを目的とする。

【解決手段】 必須成分として、Ｐ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２を含み、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜４４．０％、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を０．１〜５０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を２０．０〜６０．０％、ＴｉＯ_２成分を０．１〜２０．０％含有する光学ガラス。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】高いプロトン伝導性又はプロトン・電子混合伝導性を有すると共に、中温域で動作可能であり、しかも緻密な構造を有する伝導性材料を創案する。
【解決手段】本発明の伝導性材料は、組成として、下記成分換算のモル％表示で、ＳｎＯ₂ ３．５〜２５％、Ｐ₂Ｏ₅ １２〜４０％、ＳｉＯ₂ １０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １〜４０％、Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃＋Ｉｎ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃（Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、及びＹ₂Ｏ₃の合量） ０．１〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散の特性を得ながらも、モールドプレス成形時における金型の消耗を低減し、且つ表面の曲面が滑らかで均一な光学素子を得ることが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５０．０〜８０．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、屈折率（ｎｄ）が１．９０以上であり、液相温度における粘性が０．２５Ｐａ・ｓ以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】所望の修復物に有利に加工され得る、ガラスセラミックおよび／またはガラスが使用され得る、歯科用修復物を調製するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、４１〜７９の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。 （もっと読む）

【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率（ｎ_ＥＬ）から前記基板層の屈折率（ｎ_sub）を減じた数（Δｎ）が０．２以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が１．６以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金製装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスを溶融、成形した後、結晶化させるＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法であって、粘度ｌｏｇηが４．０のときのガラス融液の電気抵抗が４．４Ω・ｃｍ以上、液相粘度がｌｏｇηで４．３５以上、且つＡｓ_２Ｏ_３及びＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しない結晶性ガラスとなるように調製したバッチを使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた太陽電池セル等の電子部品の高性能化と高信頼化を達成できるアルミニウム電極用導電性ペースト及びそれに含有するガラス組成物、並びにそれらにより性能と信頼性が向上した電子部品を提供する。
【解決手段】アルミニウム電極５にＶ−Ｐ−Ｂ−Ｏ系低融点ガラスを含有することによって、シリコン基板１へのアルミニウム拡散量を増加でき、一方酸素拡散量を減少できるため、電子部品を高性能化できる。また、このガラスとアルミニウムが良好なぬれ性、反応性を有するため、電極５の信頼性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇであって、溶融したガラスＬＧの塊を落下させる落下工程と、ゴブＧＧの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面でゴブＧＧを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、を有し、一対の型１２１，１２２の少なくとも一方は、ゴブＧＧの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を２５．０％以上５５．０％以下、Ｌｎ_２Ｏ_３成分を６．０％以上３０．０％以下（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂからなる群より選択される１種以上）、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０より多く２５．０％以下含有し、ＺｒＯ_２成分の含有量が１５．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）を満たし、νｄ＞３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）を満たす。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸（表面粗さやうねりや平坦度）及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】圧縮層測定の容易化を図るとともに、短時間の処理でもイオン交換性能を十分に発揮させることによって効率的に製造することができ、機械的強度を向上させることができるカバーガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主表面に圧縮応力層を有し、ガラス組成として、ＳｉＯ₂：５０〜７０モル％、Ａｌ₂Ｏ₃：３〜２０モル％、Ｎａ₂Ｏ：５〜２５モル％、Ｌｉ₂Ｏ：０モル％より多く、２．５モル％以下、Ｋ₂Ｏ：０〜５．５モル％及びＢ₂Ｏ₃：０〜３モル％未満が含有されてなるカバーガラス及び（１）ガラス原料を熔融して熔融ガラスを得、（２）得られた熔融ガラスを、ダウンドロー法により板状に成形してガラス基板を得、（３）得られたガラス基板表面に圧縮応力層を形成する工程を含むカバーガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を２５．０％以上５５．０％以下、Ｌｎ_２Ｏ_３成分を６．０％以上３０．０％以下（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂからなる群より選択される１種以上）、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０％超２５．０％以下含有し、ＺｒＯ_２成分の含有量が１０．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）を満たし、νｄ＞３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）を満たす。 （もっと読む）

【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したＳｉＯ_２濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、前記熱処理温度がＴｇ〜Ｔｇ＋１００（℃）の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持った化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１５％、Ｎａ_２Ｏを６〜２１％、Ｋ_２Ｏを０〜１５％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜２０％、ΣＲＯ（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）を０〜２１％、ＺｒＯ_２を０〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３を１．５〜６％、Ｃｏ_３Ｏ_４を０．１〜１％含有するガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ＺｒＯ_２含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Ｚｒ源として、Ｐ_２Ｏ_５含有量が０．４質量％以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率（ｎ_ｄ）１．６６〜１．７２、アッベ数（ν_ｄ）２９〜３４の光学恒数を有し、液相温度（Ｌ_Ｔ）が８５０℃以下で、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含有せず、良好な精密プレス成型を可能にする光学ガラス、精密プレス成型用プリフォーム、及び光学素子の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量％で、Ｐ_２Ｏ_５：２５〜４０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：２０〜４２％、Ｎａ_２Ｏ：１０〜２５％、ＷＯ_３：０〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ：０〜５％、Ｋ_２Ｏ：０〜５％、ＣａＯ：０〜５％、ＺｎＯ：０〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜５％、ＴｉＯ_２：０〜１％、を含有し、Ｂ_２Ｏ_３を含有せず、ｎ_ｄ：１．６６〜１．７２、ν_ｄ：２９〜３４の光学恒数を有することを特徴とする光学ガラスに関する。 （もっと読む）