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固体撮像装置用カバーガラス
【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したCSPにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量%で、SiO2 56〜66%、Al2O3 9〜26%、B2O3 1〜11%、MgO 0〜6%、CaO 0〜6%、ZnO 4〜13%、Li2O 0〜4.0%、Na2O 0〜5.0%、K2O 0〜6.0%、ただし、Li2O+Na2O+K2O 1%以上を含有し、30〜300℃の範囲における平均熱膨張係数が30〜38×10−7K−1、ヤング率が78GPa以上の固体撮像装置用カバーガラスである。
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陽極接合用ガラス
【課題】 MEMS(マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム)などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル%で0.1%〜20%のNa2O、0.1%〜50%のP2O5の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル%で、30%〜90%のSiO2、0%〜50%のB2O3、0%〜50%のAl2O3の各成分を含有する請求項1に記載の陽極接合用ガラス。
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ガラスフリット、およびこれを用いた導電性ペースト、電子デバイス
【課題】腐食性ガス等に対する耐久性に優れた導電層(電極)を形成することができる導電性粒子バインダー用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】このガラスフリットは、実質的にPbおよびMnを含まず、酸化物換算で、V2O5を20mol%以上80mol%以下、ZnOを5mol%以上45mol%以下、BaOを0mol%以上40mol%以下、Sb2O3を0mol%以上15mol%以下、P2O5を0mol%以上40mol%以下含有し、50%粒径D50が0.1μm以上5.0μm以下である。このガラスフリットを、導電性金属粉末100質量部に対して0.1質量部以上10質量部以下の割合で含有し、さらに有機ビヒクルを含有することで導電性ペーストを提供する。
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低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料
【課題】
結晶Si太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を2〜10、B2O3を18〜30、Al2O3を0〜10、ZnOを0〜25、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を20〜50、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を10〜17含むSiO2−B2O3−ZnO−RO−R2O系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする導電性ペースト材料である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)の小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でSiO2成分を10.0〜40.0%、及び、Nb2O5成分を1.0〜50.0%含有し、15以上30以下のアッベ数(νd)を有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00480×νd+0.73500)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00250×νd+0.67750)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を40.0%未満、並びに、Ln2O3成分(式中、LnはY、La、Gd、Ce、Eu、Dy、Yb及びLuからなる群より選択される1種以上)を合計で60.0%未満含有し、1.75以上の屈折率(nd)と10以上のアッベ数(νd)を有する。
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光学ガラス、光学素子およびガラス成形体の製造方法
【課題】多量のTa2O5及びNb2O5を含有させなくとも、屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら透過率の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%で、La2O3成分を10.0〜40.0%、B2O3成分を10.0〜40.0%、SiO2成分を0〜15.0%、Nb2O5成分を0〜20.0%、TiO2成分を0〜10.0%含有し、1.75〜1.95の屈折率(nd)を有し、30〜40のアッベ数(νd)を有する光学ガラス。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】ガラスを原料として、光触媒を高濃度に含有して優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、TiO2成分を5〜50%、SrO成分を2〜50%、SiO2成分を10〜85%を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、チタン酸ストロンチウムSrTiO3結晶及びその固溶体結晶を含むことが好ましい。このガラスセラミックスは、バルク体、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。
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ガラスセラミックス、その製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ナシコン型構造を有する結晶を含有する光触媒ガラスセラミックスが提供される。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式AmB2(XO4)3(式中、第一元素AはLi、Na、K、Cu、Ag、Mg、Ca、Sr及びBaからなる群から選択される1種以上とし、第二元素BはZn、Al、Fe、Ti、Sn、Zr、Hf、V、Nb及びTaからなる群から選択される1種以上とし、第三元素XはSi、Ge、P、S、Mo及びWからなる群から選択される1種以上とし、係数mは0以上3以下とする)で表される。
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隔壁形成用無鉛ガラス
【課題】従来材料に対して、プラズマディスプレイに使用したときに衝撃による欠け落ちが起こりにくい隔壁材料の提供を目的とする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3とSiO2とAl2O3の含有量の合計が72%以上、Li2Oが5〜19%であり、K2O/(Li2O+Na2O)のモル比が1以下であり、室温でのヤング率が80GPa以下である隔壁形成用無鉛ガラス。詳細なガラス組成としては、B2O3を20〜55%、SiO2を10〜50%、Al2O3を4〜20%、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1種以上を含み含有量の合計が5〜20%、ZnOを0〜20%含有するものである。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、脈理の少なさと失透の起こり難さとを兼ね備え、径の大きなプリフォーム材を形成することが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜35.0%、La2O3成分を15.0〜50.0%、及びWO3成分を1.0〜25.0%含有し、Li2O成分の含量が5.0%以下である。
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光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら低いアッベ数(νd)を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でTeO2成分を20.0〜70.0%、P2O5成分を0%〜25.0%、B2O3成分を0%〜40.0%、Nb2O5成分を0%〜20.0%、La2O3成分を0%〜30.0%含有し、TeO2/(P2O5+B2O3)が1.0以上、B2O3+Nb2O5+La2O3が0%より多く60%以下であり、摩耗度が200以上800以下、ヌープ硬度が250以上650以下、粉末法耐水性クラス(RW)が1以上3以下、粉末法耐酸性クラス(RA)が1以上3以下である光学ガラス。
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ガラスセラミックス組成物および素子搭載用基板
【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するLTCC基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】25〜60質量%のガラス粉末と15〜50質量%のアルミナ粉末および10〜40質量%の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、SiO2を0〜50質量%、B2O3を15〜50質量%、Al2O3を0〜10質量%、ZnO、CaO、SrOおよびBaOから選ばれる1種以上を合計で3〜65質量%、Li2O、Na2OおよびK2Oから選ばれる1種以上を合計で0〜20質量%、Bi2O3を0〜50質量%含有し、「(B2O3+Bi2O3の含有量)の3倍」+「(ZnO+CaO+SrO+BaOの含有量)の2倍」+「(Li2O+Na2O+K2Oの含有量)の10倍」の値が200を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。
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光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら低いアッベ数(νd)を有し、耐ソラリゼーションが良好であり、可視光に対する透明性が高く、部分分散比が小さく、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易い光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る。
【解決手段】 酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でTeO2成分を30.0〜70.0%、P2O5成分を0%〜25.0%、Bi2O3成分を0%〜20.0%以下含有し、ソラリゼーションが5.0%以下であることを有する。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。
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光学ガラス、プリフォーム、及び光学素子
【課題】アッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を40.0%未満、並びに、WO3成分及びTa2O5成分からなる群から選択される1種以上を合計で75.0%未満含有し、0.62以上0.69以下の部分分散比[θg,F]を有し、15以上27以下のアッベ数(νd)を有する。
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ガラス
【課題】太陽光に対して高い透過率を示し、熱的な寸法安定性も有しており、集光型太陽電池装置等の部材用途に好適な低温溶融性および熱間成型性に優れたガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量%で、B2O3成分、Al2O3成分を含有し、B2O3成分の含有量が30〜65%であり、Al2O3/B2O3が0.18〜0.45であるガラス。より好ましくは、粘度が102.5dPa・sを示すときの温度が1000℃以下である。
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固体撮像素子パッケージ用カバーガラス
【課題】樹脂製の固体撮像素子パッケージに好適なカバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量%で、SiO2 35〜57%、Al2O3 6〜23%、B2O3 0〜20%、Li2O 0〜10%、Na2O 0〜25%、K2O 0〜10%、ただし、Li2O+Na2O+K2O 15〜40%、MgO+CaO+SrO+ZnO 0〜30%、を含有し、実質的にAs2O3、Sb2O3、SnO2を含有しないことを特徴とする固体撮像素子パッケージ用カバーガラス。
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成形型及びその製造方法、並びに、光学素子及び光学機器の製造方法
【課題】特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りを生じ難い成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】成形型10は、成形面211、311を有する型母材21、31と、成形面211、311上に設けられた保護膜23、33と、を備える成形型10であって、保護膜23、33は、Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になる含量で含有し、成形型10は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法
【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ndが1.89以上、アッベ数νdが28〜36であり、組成にB,Zn,La,Si,Gd,Ti,Wを必須として含み、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、Y,Yb,Zr,Nb,Ta,Te,Ge,Bi,Alを0〜5%含んでおり、これら成分のカチオン比が、(B3+/(B3++Si4+))が0.70〜0.96、(B3+/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜2.0、((B3++Si4+)/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜3.0、(B3+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.8〜4.0、、((B3++Si4+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が1.5〜5.0、等となる光学ガラスとする。
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】レーザ封着に好適な封着材料、具体的にはレーザ光を吸収しやすく、且つ軟化点が低い封着材料を創案することにより、有機ELディスプレイ等の信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末を含む無機粉末 80〜99.7質量%と、顔料 0.3〜20質量%とを含有し、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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