【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２ ７５〜８５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％の組成を含有し、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３）が０．０４５〜０．０５５であり、内部の残留応力が５ＭＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式ＹＺを有し、ここで、ＹはＧｅ，Ａｓ，Ｓｂまたはこれら２つ以上の混合物であり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅまたはこれら２つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Ｙは１５〜７０％の範囲にあり、Ｚは３０〜８５％の範囲にあり、ＧｅがＡｓおよびＳｂの内の一方または両方と混合された場合には、Ｇｅの量は、０＜Ｇｅ＜２５％の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、５００℃以下で１０，０００ポアズ以下の粘度を有し、１０００〜１０，０００ｓ^-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。 （もっと読む）

【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層１１の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層１２が配設され、この回路層１２上にはんだ層２を介して半導体素子３が配設されるパワーモジュール用基板１０であって、回路層１２の一方の面には、ＺｎＯ含有の無鉛ガラスを含有するＡｇペーストの焼成体からなるＡｇ焼成層３０が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高出力の紫外光線や３００〜４００ｎｍ領域のレーザ光線の照射により生じる屈折率変化を抑制した、耐光線性の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラスに、波長＝３５１ｎｍのパルスレーザー光（平均出力（Average Output Power）＝０．４３Ｗ，パルス繰り返し数（Pulse Repetition Rate）＝５ｋＨｚ，パルス幅（Pulse Width）＝４００ｎｓ）を１時間照射した後の屈折率の変化量（Δｎ：照射前後の屈折率の差）が５ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】約１１００℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約９００℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】２０℃〜３００℃の温度範囲での線熱膨張α_(20-300)を８×１０^-6Ｋ^-1〜１１×１０^-6Ｋ^-1の範囲で有し、質量％で１０〜４５％未満のＢａＯ、０〜２５％のＳｒＯ（２０〜６５％のＢａＯ＋ＳｒＯ）、１０〜３１％のＳｉＯ_２、２％未満のＡｌ_２Ｏ_３、０〜１０％のＣｓ_２Ｏ、０〜３０％のＲＯ、０〜３０％のＲ_２Ｏ_３、０〜２０％のＲ_２Ｏからなるガラスソルダー。（ＲＯはアルカリ土類金属酸化物、Ｒ_２Ｏ_３はＢ_２Ｏ_３等からなる酸化物、Ｒ_２ＯはＴｉ_２Ｏ等の酸化物からなる。） （もっと読む）

【課題】従来の粉末焼成プロセスによって作製された光反射基材のように製造プロセスが煩雑ではなく、当該光反射基材より高い光反射率を有し、かつ大面積の光反射基材用途にも対応可能な光反射基材を提供する。
【解決手段】バルク状ガラスを結晶化させてなり、屈折率が１．７以上の析出結晶を含有する結晶化ガラスからなる光反射基材であって、波長４００〜８００ｎｍにおける平均光反射率が９０％以上であることを特徴とする光反射基材。 （もっと読む）

【課題】先行技術の欠点を排除すること、特に、上記の全てが、コンピューター支援削合およびトリミングプロセスによって容易に成形され得、続いて高強度の歯科用製品に変換され得る材料を提供すること。
【解決手段】ケイ酸リチウムガラスセラミック材料であって、以下の成分：
成分 重量％
ＳｉＯ_２ ６４．０〜７３．０
Ｌｉ_２Ｏ １３．０〜１７．０
Ｋ_２Ｏ ２．０〜５．０
Ａｌ_２Ｏ_３ ０．５〜５．０
Ｐ_２Ｏ_５ ２．０〜５．０
を含有する、ケイ酸リチウムガラスセラミック材料。 （もっと読む）

【課題】青色ＬＥＤ素子、特に高出力の青色ＬＥＤ素子を使用しても、高信頼性、長寿命の白色照明光源を得ることが可能な発光色変換用複合部品を提供する。
【解決手段】青色光源から発せられる青色光の一部を黄色光に変換し、残部の青色光と合成して白色光を得るための発光色変換部材であって、軟化点が５００℃より高いガラス中に無機蛍光体が分散してなることを特徴とする発光色変換部材と、発光色変換部材を支持する支持部材とからなることを特徴とする発光色変換用複合部品。 （もっと読む）

【課題】透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消する半導体パッケージ用カバーガラスを提供する。
【解決手段】半導体パッケージ用カバーガラス１０は、板厚方向に相対向する第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂと、周縁を構成する側面１０ｃとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス１０の寸法は、１４×１６×０．５ｍｍであり、第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂは無研磨面であり、その表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも０．５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】環境上有害な物質を含まず、５００℃以上の高い耐熱温度を有し、しかもジュメット等の酸化され易い金属を封止可能な金属被覆用ガラス及び半導体封止材料を提供する。
【解決手段】歪点（Ｐｓ）が４８０℃以上、１０^４ｄＰａ・ｓの粘度に相当する温度（Ｔ（１０^４））が１１００℃以下、３０〜３８０℃における熱膨張係数（α_{３０―３８０}）が７０〜１１０×１０^―７／℃のガラスからなる。 （もっと読む）

本発明は、ケイ素半導体デバイスおよび光起電力電池用導電性ペーストに有用なガラス組成物に関する。厚膜導体組成物は、１つ以上の電気機能性粉末と、有機媒体に分散された１つ以上のガラスフリットとを含む。厚膜組成物はまた１つ以上の添加剤を有していてもよい。例示の添加剤としては、金属、金属酸化物または焼成中、これらの金属酸化物を生成することのできる任意の化合物を挙げることができる。 （もっと読む）

赤外線（ＩＲ）窓、導波管ファイバ、または発光ドーパント用のホストガラスとしてなどの用途を有しうる、Ｇａ−Ｐ−Ｓ型のガラス組成物について記載する。本ガラスの組成範囲は、原子百分率で、４５〜８５％の硫黄、＞０〜２５％のガリウム、＞０〜２０％のリンである。本ガラスは、セレニウム（Ｓｅ）、テルリウム（Ｔｅ）、０〜２０％のインジウム、０〜４０％のヒ素、０〜１５％のゲルマニウム、０〜１０％のアンチモン、および０〜５％のスズ、タリウム、鉛、ビスマス、またはそれらの組合せを含みうる。ＳｅおよびＴｅは、Ｓ／２以下でなければならない。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオードがガラスで封止されており、その封止をゾルゲル法を用いることなく行えるような発光ダイオード素子。
【解決手段】発光ダイオード１を封止するガラス７がモル％で、ＴｅＯ_２ ２０〜７０％、ＺｎＯ ５〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５５％、ＳｉＯ_２＋ＧｅＯ_２ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、その他の成分０〜７％からなる発光ダイオード素子。 （もっと読む）

【課題】Ｎａ成分を含有することによって溶射対象にした熱膨張係数の設計を容易とし、溶射後のガラス質表面を平滑にできるガラス質被膜形成ロール体の製造方法及びこれに用いるガラス質溶射材料、さらに当該製造方法により製造したオゾン発生装置の無声放電用電極を提供する。
【解決手段】主成分：｛ＳｉＯ₂，Ｂ₂Ｏ₃，Ｌｉ₂Ｏ，Ｎａ₂Ｏ，ＢａＯ，ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃の全て｝及び補助成分を含む粒状のガラス質溶射材料を用い、被塗物表面にブラスト処理で表面の算術平均粗さを２〜７μｍとする表面粗し工程、この表面を２００〜１０００℃に加熱する加熱工程、表面から４〜８ｃｍの距離よりガラス質溶射材料をプラズマ溶射して少なくとも３層以上からなるガラス質被膜を形成すると共にプラズマ溶射後に形成されるガラス質被膜表面の算術平均粗さを０．２〜３．０μｍとするガラス質被膜を得るプラズマ溶射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】非線形の発生効率の減少および広帯域化を可能にする非石英系ガラスにより構成された導波路を提供すること。
【解決手段】本発明に一実施形態は、フツリン酸ガラスにより構成されたコアとクラッドを有するフツリン酸ガラス導波路であって、コアとクラッドに含まれる燐酸（Ｐ₂Ｏ₅）のｍｏｌ％Ｃ_P1およびＣ_P2とそれぞれにおける屈折率ｎ₁およびｎ₂との関係を数式（１）のように定式化し、その範囲を数式（２）のように明確にする。数式（１）：ｎ₁＝α₁＋β₁・Ｃ_P1，ｎ₂＝α₂＋β₂・Ｃ_P2、数式（２）：１．４４＜ｎ₁，ｎ₂＜１．４６，１．４０＜α₁，α₂＜１．４３，０．００２＜β₁，β₂＜０．００３５，３＜Ｃ_P1，Ｃ_P2＜２０。ここでα₁、α₂、β₁、およびβ₂は、コアおよびクラッドの組成によって決定されるパラメータである。 （もっと読む）

ガラスから物品を製造するための本発明の方法は、外側表面を備える基材を供給する工程と、少なくとも２種の異なる金属酸化物を含む、少なくとも第１のガラスを供給する工程であって、第１のガラスがＴ_ｇ及びＴ_ｘを有し、第１のガラスのＴ_ｇとＴ_ｘとの間の差異が少なくとも５Ｋであり、第１のガラスが２０重量％未満のＳｉＯ_２、２０重量％未満のＢ_２Ｏ_３、４０重量％未満のＰ_２Ｏ_５、及び５０重量％未満のＰｂＯを含有する、少なくとも第１のガラスを供給する工程と、ガラスの少なくとも一部が基材の外側表面の少なくとも一部を濡らすように、第１のガラスを周囲気圧以下でそのＴ_ｇ超まで加熱する工程と、ガラスを冷却して、基材の外側表面の少なくとも一部に付着したガラスを含むセラミックを含む物品を供給する工程と、を含む。このセラミックの気孔率は、２０体積％未満である。 （もっと読む）

【課題】光学設計が容易であり、簡便な方法により目的の光学素子が得られる、紫外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属成分と紫外線吸収成分とをガラス構成成分として含むガラス基材に、リチウム化合物、カリウム化合物、ルビジウム化合物、セシウム化合物、銀化合物、銅化合物及びタリウム化合物からなる群から選択される少なくとも１種、有機樹脂並びに有機溶剤を含有するペーストを塗布し、前記ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする紫外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイの隔壁に好適な、比誘電率が低い無鉛低融点ガラスペーストを提供する。
【解決手段】酸化亜鉛および酸化ホウ素を必須成分とし、熱線膨張係数が１００×１０^−７／Ｋ以上、軟化温度が６００℃未満で、ガラスの粒子およびガラス以外の無機粒子を含むガラスペーストとする。無機粒子はシリカ、アルミナ、ジルコニアからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ガラスの粒子とガラス以外の無機粒子の重量比率を２０／８０〜８０／２０とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレーまたはスクリーンの背景照明のためのシステムにおいて、簡易に製造できて、照明密度の経時的低下に対して、より修復し易いバックライトシステムを提供する。
【解決手段】少なくとも１つのカバーガラス付き照明体１１０およびその上に配置された透明素子１３０を持ち、該素子の少なくとも１つの面に、少なくとも部分的には平面状に蛍光層１２０が付与されている。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮断性能を有するガラスについて、特定波長以下の紫外線のみをシャープに遮断する優れた透過特性を維持した上で、アルカリ成分による悪影響を低減することができる新規な改質方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化銅微粒子が全体又は一部に分散し且つＳｉＯ₂を含有する相を含む分相ガラスを酸溶液に接触させて、該分相ガラス表面の少なくとも一部に高ケイ酸層を形成することを特徴とする紫外線遮断ガラスの改質方法。 （もっと読む）