【課題】 高出力の紫外光線や３００〜４００ｎｍ領域のレーザ光線の照射により生じる屈折率変化を抑制した、耐光線性の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラスに、波長＝３５１ｎｍのパルスレーザー光（平均出力（Average Output Power）＝０．４３Ｗ，パルス繰り返し数（Pulse Repetition Rate）＝５ｋＨｚ，パルス幅（Pulse Width）＝４００ｎｓ）を１時間照射した後の屈折率の変化量（Δｎ：照射前後の屈折率の差）が５ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高UV透過率および同時に少なくとも5から10年間に亘って高放射線抵抗性、特にUVおよびVIS放射線ばかりではなく1000 Gyの総ドーズを持つＸ線、エレクトロンおよびプロトンからなる宇宙の典型的放射線領域に対して、耐放射線性を持つ高屈折宇宙ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、重量パーセントでの次の成分：SiO2 5−65、B2O3 0−40、Al2O3 0−12、PbO 25−50、Na2O 0−8、K2O 0−20を含む宇宙ガラスによって解決される。 （もっと読む）

本発明は、シリコン半導体デバイスおよび光起電力セル用の伝導性ペースト中に有用な亜鉛含有ガラス組成物に関する。前記ガラス組成物は：導電性材料と、ＳｉＯ₂、２７〜４５重量％のＺｎＯ、および０．５〜３重量％のＰ₂Ｏ₅を含むガラスフリットと、有機媒体とを含む。 （もっと読む）

【課題】 発光素子が実装されている基板上の複雑な三次元形状に対応したガラス封止部を、周辺の部材へ与えるダメージが少ない状態で、簡易に量産性良く形成する。
【解決手段】一対の電極を有する発光素子１２と、発光素子が搭載される基板１１と、基板に設けられ、発光素子の電極に電気的に接続される基板電極と、発光素子を封止したガラス封止部１６ａと、を有する発光装置であって、ガラス封止部は、基板上で発光素子の周辺部に供給された粉体ガラスあるいはそれと他の材料からなる封止材料が融着されてなり、封止材料を構成する全粒子中の一次粒子の割合が２０％〜１００％の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】 抗菌性を有するファイバオプティックプレートを提供する。
【解決手段】 ＦＯＰ１においては、Ａｇ_２Ｏを含有する抗菌ガラスからなる抗菌ガラス部１０を含んでガラス体８が構成されている。ここで、銀を含有したガラスは、化学的耐久性を有していないため、水分によって容易にＡｇイオンを放出するといった特性を有している。そして、Ａｇイオンは、優れた抗菌効果を有している。そのため、ガラス体８がＡｇ_２Ｏを含有する抗菌ガラス部１０を含んで構成されることにより、ガラス体８がＡｇイオンの作用による殺菌効果を得ることができる。従って、ＦＯＰ１に抗菌性を持たせることができる。 （もっと読む）

【課題】環境上有害な物質を含まず、５００℃以上の高い耐熱温度を有し、しかもジュメット等の酸化され易い金属を封止可能な金属被覆用ガラス及び半導体封止材料を提供する。
【解決手段】歪点（Ｐｓ）が４８０℃以上、１０^４ｄＰａ・ｓの粘度に相当する温度（Ｔ（１０^４））が１１００℃以下、３０〜３８０℃における熱膨張係数（α_{３０―３８０}）が７０〜１１０×１０^―７／℃のガラスからなる。 （もっと読む）

本発明は、ケイ素半導体デバイスおよび光起電力電池用導電性ペーストに有用なガラス組成物に関する。厚膜導体組成物は、１つ以上の電気機能性粉末と、有機媒体に分散された１つ以上のガラスフリットとを含む。厚膜組成物はまた１つ以上の添加剤を有していてもよい。例示の添加剤としては、金属、金属酸化物または焼成中、これらの金属酸化物を生成することのできる任意の化合物を挙げることができる。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオードがガラスで封止されており、その封止をゾルゲル法を用いることなく行えるような発光ダイオード素子。
【解決手段】発光ダイオード１を封止するガラス７がモル％で、ＴｅＯ_２ ２０〜７０％、ＺｎＯ ５〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５５％、ＳｉＯ_２＋ＧｅＯ_２ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、その他の成分０〜７％からなる発光ダイオード素子。 （もっと読む）

【課題】Ｎａ成分を含有することによって溶射対象にした熱膨張係数の設計を容易とし、溶射後のガラス質表面を平滑にできるガラス質被膜形成ロール体の製造方法及びこれに用いるガラス質溶射材料、さらに当該製造方法により製造したオゾン発生装置の無声放電用電極を提供する。
【解決手段】主成分：｛ＳｉＯ₂，Ｂ₂Ｏ₃，Ｌｉ₂Ｏ，Ｎａ₂Ｏ，ＢａＯ，ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃の全て｝及び補助成分を含む粒状のガラス質溶射材料を用い、被塗物表面にブラスト処理で表面の算術平均粗さを２〜７μｍとする表面粗し工程、この表面を２００〜１０００℃に加熱する加熱工程、表面から４〜８ｃｍの距離よりガラス質溶射材料をプラズマ溶射して少なくとも３層以上からなるガラス質被膜を形成すると共にプラズマ溶射後に形成されるガラス質被膜表面の算術平均粗さを０．２〜３．０μｍとするガラス質被膜を得るプラズマ溶射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】非線形の発生効率の減少および広帯域化を可能にする非石英系ガラスにより構成された導波路を提供すること。
【解決手段】本発明に一実施形態は、フツリン酸ガラスにより構成されたコアとクラッドを有するフツリン酸ガラス導波路であって、コアとクラッドに含まれる燐酸（Ｐ₂Ｏ₅）のｍｏｌ％Ｃ_P1およびＣ_P2とそれぞれにおける屈折率ｎ₁およびｎ₂との関係を数式（１）のように定式化し、その範囲を数式（２）のように明確にする。数式（１）：ｎ₁＝α₁＋β₁・Ｃ_P1，ｎ₂＝α₂＋β₂・Ｃ_P2、数式（２）：１．４４＜ｎ₁，ｎ₂＜１．４６，１．４０＜α₁，α₂＜１．４３，０．００２＜β₁，β₂＜０．００３５，３＜Ｃ_P1，Ｃ_P2＜２０。ここでα₁、α₂、β₁、およびβ₂は、コアおよびクラッドの組成によって決定されるパラメータである。 （もっと読む）

ガラスから物品を製造するための本発明の方法は、外側表面を備える基材を供給する工程と、少なくとも２種の異なる金属酸化物を含む、少なくとも第１のガラスを供給する工程であって、第１のガラスがＴ_ｇ及びＴ_ｘを有し、第１のガラスのＴ_ｇとＴ_ｘとの間の差異が少なくとも５Ｋであり、第１のガラスが２０重量％未満のＳｉＯ_２、２０重量％未満のＢ_２Ｏ_３、４０重量％未満のＰ_２Ｏ_５、及び５０重量％未満のＰｂＯを含有する、少なくとも第１のガラスを供給する工程と、ガラスの少なくとも一部が基材の外側表面の少なくとも一部を濡らすように、第１のガラスを周囲気圧以下でそのＴ_ｇ超まで加熱する工程と、ガラスを冷却して、基材の外側表面の少なくとも一部に付着したガラスを含むセラミックを含む物品を供給する工程と、を含む。このセラミックの気孔率は、２０体積％未満である。 （もっと読む）

【課題】ディスプレーまたはスクリーンの背景照明のためのシステムにおいて、簡易に製造できて、照明密度の経時的低下に対して、より修復し易いバックライトシステムを提供する。
【解決手段】少なくとも１つのカバーガラス付き照明体１１０およびその上に配置された透明素子１３０を持ち、該素子の少なくとも１つの面に、少なくとも部分的には平面状に蛍光層１２０が付与されている。 （もっと読む）

【課題】 発光素子が実装されている基板上の複雑な三次元形状に対応したガラス封止部を、周辺の部材へ与えるダメージが少ない状態で、簡易に量産性良く形成する。
【解決手段】基板１１上に実装された発光素子１２がガラスにより封止された発光装置の製造方法であって、基板上に実装された発光素子の周辺部に、粉体ガラスを主成分とする湿潤状態の封止材料を供給し、粉体ガラスのガラス軟化点以上となるように加熱し、プレス成形を行って粉体ガラスを融着させて発光素子を封止させる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１．７の屈折率をもつ高屈折率ガラスの製造において、ガラスに含まれる還元感受性成分の還元が減じられ、さらに好ましくは防止される製造方法を提供する。
【解決手段】清澄槽及び／又は溶融るつぼ・均質化装置へ酸化剤を導入することによって、ガラスの還元感受性成分が清澄処理中に還元されることが減じられ、さらに好ましくは回避されるようにする。酸化剤として、酸素及び／又はオゾンが好ましく用いられる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、輝度の向上に寄与し、焼成後に泡を包含しにくいプラズマディスプレイ用誘電体材料を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ用誘電体材料は、ガラス粉末を５５〜９５質量％、酸化チタン粉末を５〜４０質量％含有するプラズマディスプレーパネル用誘電体材料であって、５０％粒子径（Ｄ₅₀）が０．５〜２．５μｍ、最大粒子径（Ｄ_max）が１５μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化性着色ガラスにおいて、カラーフィーダで着色可能で、所望の黄色系の色を安定して得られるようにする。
【解決手段】エルビウムとプラセオジムをそれぞれＥｒ_２Ｏ_３換算及びＰｒ_６Ｏ_１１換算で合計０．２５〜３２重量％含有し、かつ前記Ｅｒ_２Ｏ_３／Ｐｒ_６Ｏ_１１の重量比が０．１５〜１．７である、レドックスナンバー値がプラスで主波長λｄが５７０〜５９０ｎｍである酸化性着色ガラスとする。フリットにより着色する場合、フリットの比重は３〜３．４とし、エルビウムとプラセオジムをそれぞれＥｒ_２Ｏ_３換算及びＰｒ_６Ｏ_１１換算で合計２６〜３２重量％含有させる。 （もっと読む）

【課題】従来の技術の欠点を回避し、かつ照明手段、特にガス放電ランプの放出による機器の問題及び障害が生じないスクリーン若しくはディスプレイの背景照明のためのバックライトシステムの提供。
【解決手段】本発明によりカバーガラスを有する少なくとも１つの照明手段を含むディスプレイ又はスクリーンの背景照明のためのバックライトシステムにおいて、カバーガラスのガラス組成物がＩＲ放射線を吸収する１個又は複数個のドーピング酸化物でドープされており、及び／又は前記カバーガラスがＩＲ放射線吸収内部及び／又は外部コーティングを有し、及び／又は前記バックライトシステムがカバーガラス以外の素子にＩＲ放射線吸収コーティングを有するバックライトシステム。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】 重量％でＳiＯ_２を０〜６、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜４０、ＺｎＯを０〜１５、ＰｂＯを１８〜３５、ＢaＯを１７〜３７、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１かつ（ＣｕＯ＋Ｌa_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ＋ＭｎＯ_２）を０．１〜３含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＢａＯ−ＰｂＯ系低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が４８０℃以上５８０℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】 重量％でＳiＯ_２を０〜５、Ｂ_２Ｏ_３を１７〜２８、ＺｎＯを２０〜３０、ＰｂＯを１〜２０、ＢaＯを１３〜２２、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、Ｂｉ_２Ｏ_３を５〜３８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１かつ（ＣｕＯ＋Ｌa_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ＋ＭｎＯ_２）を０．１〜３含むことを特徴とするＢ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＢａＯ−ＰｂＯ−Ｂｉ_２Ｏ_３低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が４８０℃以上５８０℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】通常の温／湿度環境下における安定性を有する乾燥剤を含み、およびレオロジー的挙動安定性を有するスクリーン印刷可能なゲッター組成物の提供。
【解決手段】（ａ）ガラスフリット、（ｂ）事前水和された乾燥剤、および（ｃ）有機媒体を含み、（ａ）および（ｂ）が（ｃ）に分散されたゲッター組成物。ガラスフリットは、１〜５０％のＳｉＯ₂、０〜８０％のＢ₂Ｏ₃、０〜９０％のＢｉ₂Ｏ₃、０〜９０％のＰｂＯ、０〜９０％のＰ₂Ｏ₅、０〜６０％のＬｉ₂Ｏ、０〜３０％のＡｌ₂Ｏ₃、０〜１０％のＫ₂Ｏ、０〜１０％のＮａ₂Ｏ、および０〜３０％のＭＯ（ＭはＢａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｍｇおよびそれらの混合物から選択される）を含む低軟化温度ガラスであってもよい。 （もっと読む）