【課題】 光学ガラスに求められる要求特性を全て満足し、しかも、金型や金属製ホルダーに近似した熱膨張係数と高い屈折率と高い硬度を兼ね備えた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、モル百分率で、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３０％、ＺｎＯ ５〜３０％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜１５％、ＴｅＯ₂ １０〜４５％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ５〜２０％、ＴｉＯ₂ ０〜１０％、ＷＯ₃ ０〜１０％、ＳｉＯ₂ ０〜５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＣａＯ ０〜７％、ＢａＯ ０〜７％、ＳｒＯ ０〜７％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜５％、Ｎａ₂Ｏ ０〜５％、Ｋ₂Ｏ ０〜５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 繊維径を極細にできると共に、発生するショットの数を低下させることができ、要求品質に合致した極細石英ガラス短繊維を連続的、安定的に製造できる極細石英ガラス短繊維の製造方法および極細石英ガラス短繊維を提供する。
【解決手段】 本発明の極細石英ガラス短繊維の製造方法は、直径２ｍｍから１００ｍｍの石英ガラスロッドを、巻取り手段で巻取りながら加熱延伸して直径０．１ｍｍから０．４ｍｍで１ｍ当たりの直径変動率が±１０％以下の石英ガラス連続繊維を作製する工程と、作製した石英ガラス連続繊維を前記巻取り手段から繰り出し、そのバーナー火炎への導入量が４ｍｍ^３／ｍｉｎ以上７０ｍｍ^３／ｍｉｎ以下でその変動率が±１０％以下となるように、線速が５０ｍ／ｓ以上５００ｍ／ｓ以下でその変動率±５％以下であるバーナー火炎に導入して石英ガラス連続繊維を吹き飛ばすことで、直径０．１μｍ以上２．０μｍ未満のものの頻度が５０％以上含む石英ガラス短繊維を作製する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】 化学的耐久性に優れ、肉厚０．３ｍｍ程度の薄板でも７００ｎｍにおける吸収特性が良好で、なおかつガラスの硬度が高く研磨加工時に欠陥が発生しにくいフィルタガラスを供給する。
【解決手段】 質量％で、Ｐ_２Ｏ_５１０〜４５％、ＭｇＦ_２１０〜２５％、ＣａＦ_２０〜２０％、ＳｒＦ_２０〜３０％、ＢａＦ_２０〜３０％、ただし、ＭｇＦ_２＋ＣａＦ_２１０〜４５％、ＳｒＦ_２＋ＢａＦ_２１０〜４５％、ＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦ０．５〜１２％、ＡｌＦ_３０．２〜１％未満、（ただし、フッ化物総合計量の６０％までを酸化物に置換可能）からなる基礎ガラス１００質量部に対し、ＣｕＯを０．５〜６質量％含有した弗燐酸塩系ガラスであって、Ｐｂ，Ｚｎ，Ｌａ，Ｙ，Ｙｂの弗化物または酸化物の含有を不純物としてのみ許容し、肉厚０．３ｍｍに研磨した状態で波長７００ｎｍにおける透過率が３％以下であり、かつビッカース硬度を４５０ｋｇ／ｍｍ^２以上とする。
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【課題】生物学的に高い活性のガラス粉末及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の課題は、ガラス粉末、特に生物学的に活性のガラス粉末であって、多数のガラス粒子を含んでなり、前記ガラス粒子が以下の特徴：＞９０％の比率で非球形の粒子から形成されていること、及び個々の前記非球形の粒子の形状が１．１〜１０^５の長さ対直径の比により特徴付けられること、を有するガラス粉末により解決される。 （もっと読む）

【課題】 化学的耐久性に優れ、肉厚０．３ｍｍ程度の薄板でも７００ｎｍにおける吸収特性が良好で、なおかつ熔融・成形工程を通じて失透や脈理を生じにくい近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】 質量％で、Ｐ_２Ｏ_５１０〜４０％、ＺｎＦ_２１〜１５％、ＭｇＦ_２０〜２０％、ＣａＦ_２０〜２０％、ＳｒＦ_２０〜３０％、ＢａＦ_２０〜３０％、ただしＺｎＦ_２＋ＭｇＦ_２＋ＣａＦ_２＋ＳｒＦ_２＋ＢａＦ_２３０〜７５％、ＬｉＦ０〜２０％、ＮａＦ０〜１０％、ＫＦ０〜１０％、ただしＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦ１〜３０％、ＡｌＦ_３０．８％以下（ただし弗化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）からなるガラス１００重量部に対し、ＣｕＯ８．５〜１６重量部を含有させる。
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【課題】電界印加による帯電が発生しにくく、また破壊靭性が高く欠けやクラックが発生しにくいフィールドエミッションディスプレイ用結晶化ガラススペーサーの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラスに、水素中または水素および窒素混合雰囲気中で６００〜９００℃で還元結晶化熱処理を施すことにより、モル百分率表示で本質的に、ＳｉＯ_２：２０〜５０％、ＴｉＯ_２：２５〜４５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ：２０〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１０％、およびＺｒＯ_２：０〜１０％を含有し、主結晶として、Ｂａ_ＸＴｉ_８Ｏ_１６系結晶（Ｘ＝０．８〜１．５）、Ｂａ_２ＴｉＳｉ_２Ｏ_８系結晶およびＴｉＯ_２系結晶のうち少なくとも１つの結晶を含むことを特徴とするＦＥＤ用結晶化ガラススペーサーを提供する。 （もっと読む）

【課題】 ６００℃以下の軟化点を有し、優れた光透過性を有する無鉛ガラス組成物を提供することにある。
【解決手段】 酸化物換算の質量％でＢｉ₂Ｏ₃：２６〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃：１０〜２５％、ＺｎＯ：２５〜３５％を含んでなることを特徴とするビスマス系無鉛ガラス組成物を提供する。 （もっと読む）

外部電極を有する発光手段のガラス本体のためのガラス組成物であって、損失角（ｔａｎδ［１０^−４］）と誘電率の商が、ｔａｎδ［１０^−４］／ε’＜５、すなわちｔａｎδ／ε’＜５×１０^−４である。このことによって、外部電極を有する発光手段の全電力損を、ガラスの特性によって適切に最小化することができる。
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【課題】 化学的耐久性に優れ、肉厚０．３ｍｍ程度の薄板でも７００ｎｍにおける吸収特性が良好で、なおかつ耐熱衝撃性が高く薄肉への加工が容易なフィルタガラスを供給すること。
【解決手段】 質量％で、Ｐ_２Ｏ_５４６〜７０％、ＭｇＦ_２＋ＣａＦ_２＋ＳｒＦ_２＋ＢａＦ_２１〜５０％、ＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦ０〜２５％、ＡｌＦ_３０．２〜２０％以下、ただし、Ｆ０．５〜３２％、Ｏ２６〜５４％を含有する基礎ガラス１００重量部に対し、ＣｕＯ７．５〜１６重量部を含有させた。
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低い偏光誘起複屈折を有する合成シリカガラス、前記ガラスを製造する方法および前記ガラスから製造された光学要素を含むリソグラフィシステムが開示される。前記シリカガラスは、約４０μＪ・ｃｍ^−２・パルス^−１のフルエンスおよび約２５ｎｓのパルス長を有する約１９３ｎｍのエキシマーレーザーパルスに５×１０^９パルスかけられた時に、約０．１ｎｍ／ｃｍ未満の、６３３ｎｍにおいて測定された偏光誘起複屈折を有する。 （もっと読む）

ＳＯＦＣの用途において使用されるものである、ガラスに対する金属の、金属に対する金属の、及び、セラミックに対する金属の接続を製造する方法であって、前記接続は、ベースのガラス粉末及び金属酸化物の粉末の混合物として生じさせられる。結果として、複合のシールにおいて使用されたガラスの固有の性質は、粘度及び湿潤性を制御するためには、例．ＭｇＯを加えることによって、金属を含有する界面において局所的に変えられると共に、同時に、シール成分に向かったベースのガラスの高い熱膨張係数のようなバルクの性質を維持することもある。 （もっと読む）

【課題】
光学用途に好適に用いられるＯＨ基濃度が最適値に制御され、かつ均質性に優れた合成シリカガラスの製造方法及び該方法により製造されるシリカガラス体を提供する。
【解決手段】
多孔質シリカガラス体を形成する多孔質シリカガラス体形成工程と、前記多孔質シリカガラス体を６００℃以上１２００℃以下の温度範囲で、ハロゲンを含む雰囲気にて熱処理する脱水処理工程と、前記脱水処理後のシリカガラス体を６００℃以上１２００℃以下の温度範囲で水蒸気を含む雰囲気にて熱処理する加水処理工程と、前記加水処理後のシリカガラス体を１４００℃以上２２００℃以下の温度範囲で、不活性ガス雰囲気または減圧雰囲気にて熱処理する透明ガラス化工程とを有するようにした。 （もっと読む）

【課題】高プロトン導電性を維持しつつ、水分雰囲気における減量を抑え、水分雰囲気に対する耐久性を高めるのに有利な高プロトン導電性ガラス、これを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】高プロトン導電性ガラスは、Ｌａ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｐ₂Ｏ₅系を主要成分とする高プロトン導電性ガラスであり、Ｌａ₂Ｏ₃をｂモル％、Ａｌ₂Ｏ₃をｃモル％含み、且つ、ｂは１〜１０モル％、ｃは０．０５〜２モル％に設定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

少なくとも６０重量％のＡｌ_２Ｏ_３および０．５〜１０重量％の範囲内のＳｉ０_２を含んでなる、ガラスおよびガラス−セラミックを製造するための方法。本発明に従って製造されるガラスは、ガラスビーズ、物品（例えば皿）、繊維、粒子、および薄層コーティングとされ、それらとして成形し、またはそれらに変換することができる。ガラスはフレームまたはプラズマ溶融によって製造される。本発明に従って製造されるガラス−セラミック粒子のいくつかの実施形態は、研磨粒子として特に有用であることができる。
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光軸に垂直な平面内に高いＯＨ濃度均一性を有する高純度合成シリカガラス材料およびその製造方法を開示する。ガラスは、高い屈折率均一性を有する。ガラスは、１９３ｎｍにおいて少なくとも９９．６５％／ｃｍの高い内部透過率を有しうる。本方法は、焼結後の均一化工程を必要としない。高い組成均一性、したがって高い屈折率均一性に対する制御因子としては、スートプリフォーム中の高い初期局所スート密度均一性および緩速な焼結、とくに、固結時の恒温処理が挙げられる。
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【課題】耐食性、耐アルカリ性、加工性の観点で優れた磁気ディスク基板を用いた磁気ディスクを得る。
【解決手段】組成が重量％表示で、ＳｉＯ₂ ：５２〜６５、Ａｌ₂ Ｏ₃ ：１０〜１８、Ｂ₂ Ｏ₃ ：０〜８、ＭｇＯ：０〜１０、ＣａＯ：２〜１５、ＳｒＯ：０〜１５、ＢａＯ：０〜１６、ＺｎＯ：０〜１２からなり、実質的にアルカリ金属酸化物を含まないガラスを用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の上に、順次、下地層、磁性層、保護層、潤滑層を設けてなる磁気ディスク。 （もっと読む）

酸化物換算の質量％で、Ｐ_２Ｏ_５３５〜４９％未満、ＢａＯ ３０〜５５％、Ｔｌ_２Ｏを０．５％より多く含有し、鉛成分を含有せず、波長５４６ｎｍにおける光弾性定数（β）が−０．２５×１０^−５ｎｍ・ｃｍ^−１・Ｐａ^−１〜＋０．３０×１０^−５ｎｍ・ｃｍ^−１・Ｐａ^−１の範囲であり、屈折率（ｎｄ）が１．６０以上である光弾性定数が小さいガラス。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（Ｎｄ）１．５６〜１．６２、アッベ数（νｄ）３１．０〜３９．０、ガラス転移点（Ｔｇ）５００℃以下であり、中屈折率高分散性で、有害成分を含まない精密プレス成形用光学ガラスの提供。
【解決手段】 ＳｉＯ₂ ４２．０〜５７．０重量％（以下、％と略記）、Ｂ₂ Ｏ₃ ０〜８．０％、ＮａＦ ０〜１０．０％、ＫＦ １０．０〜３０．０％、但しＮａＦ＋ＫＦとして１８．０〜３０．０％、ＡｌＦ₃ １．０〜１０．０％、Ａｌ₂ Ｏ₃ ０〜５．０％、Ｎｂ₂ Ｏ₅ ０〜１０．０％、ＴｉＯ₂ １５．０％を超え２８．０％以下、ＺｒＯ₂ ０〜８．０％、ＳｒＦ₂ ０〜５．０％、ＢａＦ₂ ０〜８．０％の組成からなり、屈折率（Ｎｄ）が１．５６〜１．６２、アッベ数（νｄ）が３１．０〜３９．０、ガラス転移点（Ｔｇ）が５００℃以下である中屈折率高分散性の精密プレス成形用光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】輸送車両用の低エネルギー透過率のペインを提供すること。
【解決手段】このペインは、全体的に着色された、太陽熱遮断機能を有する少なくとも１枚のガラス板と、紫外線吸収剤を含有している少なくとも１枚のプラスチック材料のシートとを含む積層構造を有し、少なくとも１枚のガラス板と少なくとも１枚のプラスチック材料シートは、光の透過率ＴＬ_A を６０％未満とし、エネルギー透過率ＴＥをＴＬ_A ／ＴＥ比が１より大きくなるようにし、そして紫外線透過率ＴＵＶを０．５％未満とするように選ばれていて、当該ペインの全体の厚みは２．５〜８ｍｍである。 （もっと読む）

【課題】１５５０ｎｍでの２ｍｍ未満の厚さの延伸ガラスからゼロ次の半波長板を製造するための複屈折ガラスを提供する。
【解決手段】Ｒ₂Ｏがアルカリ金属酸化物を表す、Ｒ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂のベース組成を有し、銀、塩素、および臭素を含むガラスバッチであって、銀が少なくとも０．２５質量％の量で存在し、塩素および臭素が少なくとも０．２質量％の総量で存在するガラスバッチを溶融する。少なくとも０．００１の体積分率を構成する量でガラス中にハロゲン化銀の相を析出させる。ガラスに応力を加えて、その中にハロゲン化銀の粒子を延伸させる。ハロゲン化銀の相を析出させる工程が、溶融した前記ガラスを急冷し、再加熱する各工程を含む。 （もっと読む）