【課題】新しい隔壁材料を用いることで、優れた特性の隔壁を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
また、新しい隔壁材料を用いることで、環境への負担が少ない隔壁を備えるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１及び第２基板１００，３００の間の放電セルを分離する隔壁２００を含み、前記隔壁２００の組成物は、Ｎｏｎ−Ｐｂ系マトリックスガラス粉末及び前記マトリックスガラス粉末に対して約５〜４５ｗｔ％のＮｏｎ−Ｐｂ系充填剤を含むプラズマディスプレイパネルを構成する。 （もっと読む）

【課題】 酸化鉛及び酸化テルルを実質的に含有せず、高屈折率・高分散であって、Ｔｇが低くモールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量％で、Ｐ₂Ｏ₅：７〜１７％、Ｂ₂Ｏ₃：０．１〜１０％、Ｎｂ₂Ｏ₅：１０〜４０％、ＷＯ₃：３〜３０％、Ｂｉ₂Ｏ₃：１１〜５５％、ＴｉＯ₂：０〜１０％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜１５％、ただし、Ｎｂ₂Ｏ₅＋ＷＯ₃＋Ｂｉ₂Ｏ₃＋ＴｉＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅：６０〜８０％、ＭｇＯ：０〜５％、ＣａＯ：０〜５％、ＳｒＯ：０〜５％、ＢａＯ：０．１〜１９％、ＺｎＯ：０〜５％、ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ：０．１〜１９％、Ｌｉ₂Ｏ：０〜３％、Ｎａ₂Ｏ：０〜３％、Ｋ₂Ｏ：０．１〜６％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：０．１〜６％の各ガラス成分を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】接着特性が優秀な低誘電膜を形成するためのスピンオンガラス組成物、その製造方法、及びそれを用いた多孔性シリコン酸化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】構造式１を有する３〜２０質量％のシルセスキオキサンオリゴマー、３〜２０質量％の気孔生成剤、及び残余の溶媒を含むスピンオンガラス組成物。そして、前記多孔性シリコン酸化膜を形成するために、前記スピンオンガラス組成物を基板上に塗布してスピンオンガラス薄膜を形成した後、前記薄膜を硬化して多孔性シリコン酸化膜を形成する。したがって、前記多孔性シリコン酸化膜は、接着特性が優秀であるのみならず、後続工程で過剰エッチングを招かない。
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【課題】Ｎｄ：ＹＡＧレーザ及びＭＬＢＡ法で従来方法よりも急速に加熱可能、従って切断可能な、表示目的用の薄板ガラスを提供する。
【解決手段】表示目的のための薄板ガラスであって、
板ガラスのガラス組成が、波長１．０６４μｍの放射を有効に吸収してレーザ切断ビームによるその切断性を向上させる添加ガラス成分を含んで成ることを特徴とする薄板ガラス。 （もっと読む）

【課題】消色されて鮮やかな色調を有するガラスを、特定の生産ラインだけで安価に製造することができる消色性に優れたガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】溶解炉においてセレンまたはコバルトにより消色したガラスをカラーフィーダーへ導き、次いでカラーフィーダーに酸化エルビウムを含有したフリットを添加して鮮やかな色調のガラスとする。また、前記酸化エルビウムの含有量が５〜２５重量％であるフリットを、カラーフィーダー中に０．０５〜０．５重量％の範囲で添加する。更に、酸化エルビウムの消色作用によって、波長が３７９ｎｍの透過率を２〜１０％、５２４ｎｍの透過率を２〜１０％、６５４ｎｍの透過率を０．１〜５％下げることにより鮮やかな色調のガラスとすることができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス固化による廃棄物の閉じ込めプロセスに関する先行技術に対し改良を提供する。
【解決手段】本発明は、少なくとも一つの易酸化性または易還元性化学種を含む材料のガラス固化による閉じ込めのためのガラス原料の製造プロセスと、ガラス固化による前記材料の閉じ込めプロセスに関する。ガラス原料の製造プロセスは、前記少なくとも一つの化学種を酸化または還元状態に維持することができる性質と量を有する少なくとも一つの酸化還元対の生ガラス原料への投入ステップを含む。閉じ込めプロセスは、得られたガラス原料と閉じ込める材料との混合物および熱溶解物を含む。本発明は、放射性核物質、金属、半金属などの汚染物質の閉じ込めの最適化を可能とする。材料は、核廃棄物または家庭ごみの焼却から得られる材料であってもよい。 （もっと読む）

【課題】鉛酸化物を含まないが、ＰｂＯ的な所望の技術的ガラス特性を経済的に再現するガラスを含む電子素子を提供する。
【解決手段】ガラス被覆電子素子の製造方法であって、１．以下の組成を（重量％で）含む無鉛ガラスを液体で処理して懸濁液を生成する工程とＳｉＯ_２３〜１２％、Ｂ_２Ｏ_３ ２４〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％、 Ｃｓ_２Ｏ ０〜５％、 ＭｇＯ ０〜５％、ＢａＯ ０〜５％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜５％、ＣｅＯ_２ ０．１〜１％、ＭｏＯ_３ ０〜１％、Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜２％、ＺｎＯ ５０〜６５％２．この懸濁液を素子体に塗布する工程と３．この素子体を焼結する工程とを含んで成る方法。 （もっと読む）

【課題】 鉛や砒素などの化合物を実質的に含有せず、所定の光学恒数を有し、Ｔｇ及びＴ_Lが低く、耐失透性に優れた、プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量％で、ＳｉＯ₂：１０〜３０％、Ｂ₂Ｏ₃：１５〜３５％、Ｌｉ₂Ｏ：０〜１０％（ただし、ゼロを含む）、Ｎａ₂Ｏ：０〜５％（ただし、ゼロを含む）、Ｋ₂Ｏ：０〜５％（ただし、ゼロを含む）、ただし、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：０〜１５％、ＭｇＯ：０〜２５％（ただし、ゼロを含む）、ＣａＯ：０〜２５％（ただし、ゼロを含む）、ＢａＯ：０〜２５％（ただし、ゼロを含む）、ＳｒＯ：０〜２５％（ただし、ゼロを含む）、ＺｎＯ：１８〜５５％、ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ：１８〜５５％、Ｌａ₂Ｏ₃：５〜２０％の各ガラス成分を有する構成とする。 （もっと読む）

本発明は、粉末の形態の原料から、炉中でガラスを精製する方法に関し、炉は３つの側壁、頭頂部、端壁および気体もしくは液体燃料注入器に結合された少なくとも１つの空気注入器を含んでおり、これらの注入器の少なくとも１つは該側壁、頭頂部または端壁上に配置されている。該方法は次のステップ、空気および気体もしくは液体燃料を該注入器を通して注入すること、および粉末形態の原料がガラス浴を覆っている帯域の直ぐ近くで少なくとも１つの火炎を発生させること、含んでいる。
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【課題】 ガラス中のＡｌ₂Ｏ₃含有量が多くても、ガラスの歪点の上昇や熱膨張係数の低下を抑えることができる陰極線管用ファンネルを提供することである。
【解決手段】 本発明の陰極線管用ファンネルは、ＰｂＯ含有量が１０〜３０質量％であり、０．６ÅにおけるＸ線吸収係数が４０ｃｍ^-1以上である鉛含有ガラスからなる陰極線管用ファンネルにおいて、前記鉛含有ガラスが、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを必須成分として含み、Ａｌ₂Ｏ₃含有量が５超〜１０質量％、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ）／Ａｌ₂Ｏ₃の値が０．６０〜１．６０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、薄肉のガラス基板であっても、製造工程におけるカセットへの出し入れが容易で、また実開平５−１２０９８号に開示されているような梱包体への収納も容易であり、しかも電子機器に装着した時の画像面の歪みが少ない無アルカリガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 縦寸法が５００ｍｍ以上、横寸法が６００ｍｍ以上、厚みが０．７ｍｍ以上であり、重量％で、ＳｉＯ₂ ５０〜６８％、Ａｌ₂Ｏ₃ １４〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ３〜１５％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％、ＺｒＯ₂ ０〜５％、ＴｉＯ₂ ０〜５％、Ｙ₂Ｏ₃ ０〜５％の組成を有し、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃を合量で１６重量％以上含有し、密度が２．６ｇ・ｃｍ^-3以下、ヤング率／密度が２９ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^-3以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を８〜２０、Ｂ_２Ｏ_３を１６〜３２、ＺｎＯを３７〜５２、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０〜１５、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１かつ（ＣｕＯ＋Ｌa_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ＋ＭｎＯ_２）を０．１〜３含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラスである。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９０）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６００℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、減圧条件下で気密に、充分な強度で封着することが出来る封着方法を提供することである。
【解決手段】本発明の封着方法は、複数の部材を封着材料を用いて５００ｔｏｒｒ以下の減圧条件下で封着するにあたり、封着材料として低融点ガラス粉末とチタン酸鉛固溶体粉末とを使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】テルライトガラス組成物、それを利用した光導波路及び光増幅器を提供する。
【解決手段】ＴｅＯ_２、ＭｏＯ_３またはＷＯ_３、ＺｎＯ、Ｍ_２Ｏ及びＢｉ_２Ｏ_３を主成分からなるテルライトガラス組成物である。Ｍ_２Ｏは、Ｌｉ_２ＯまたはＮａ_２Ｏであるか、またはＭ_２Ｏは、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｒｂ_２Ｏ及びＣｓ_２Ｏのように＋１の価電子を有する金属を含む金属酸化物のうち２つ以上の金属酸化物で構成され、Ｍ_２Ｏ及びＺｎＯの添加量は、同時に「０」とならないように構成される。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を０〜６、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜４０、ＺｎＯを１５〜２８、ＰｂＯを２０〜３４、ＢaＯを１０〜２５、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＢａＯ−ＰｂＯ系低融点ガラス。
重量％で、Ｂ_２Ｏ_３/ＺｎＯの比が、１以上であり、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が４８０℃以上５８０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

約１．６以上の高い屈折指数（ｎＤ）、スペクトルの近赤外線部分での高透過率、および広範なガラス形成域を有する、レーザー用のドープまたは共ドープされたフルオロリン酸ビスマスガラスの、新しい、改良された組成物が開示される。開示されているガラスシステムＡｌ（ＰＯ３）３‐Ｂａ（ＰＯ３）２‐Ｂｉ（ＰＯ３）３‐ＢａＦ２＋ＲＦｘ＋ドーパントは、ガラスベース組成物の１００パーセント（重量％）を超えて、ＭｎＯおよびその混合物に加え、希土類元素Ｎｄ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｔｍ、Ｔｂ、Ｈｏ、Ｓｍ、ＥｕおよびＰｒの酸化物およびまたはフッ化物の群からのドーパントを使用する。これらのガラスは、高い化学的耐久性、放射線抵抗、赤外線および青色スペクトルにおけるレーザー使用の効率、ならびに、改良された発光持続時間を有する。 （もっと読む）

【課題】 白色誘電体層に好適な耐酸性に優れ且つ軟化点の低い無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】 オーバ・コートがZrO₂を1〜10(％)程度含むのに対し、リブ材層がZrO₂を含まないことから、その組成の相違に応じた程度だけ耐酸性が相違する。すなわち、上記エッチング処理におけるエッチング速度はオーバ・コートがリブ材層よりも低く、例えば1/10〜1/3程度の速度になっている。そのため、エッチング処理の酸濃度および処理時間を調節することにより、リブ材層をレジスト膜の開口パターンに従って溶解させ、その開口部内の部分を完全に除去しながら、オーバ・コートを殆ど溶解させられない当初の状態に略維持できる。すなわち、レジスト膜の開口パターンに従った所期の寸法および形状を備えた隔壁１４が形成される。 （もっと読む）

【課題】 低温で焼成しても各種電気特性を損なうことなく緻密化しており、かつ誘電体粒子の粒径を微細化でき、薄層化に対応した誘電体磁器組成物を得ることができる焼結助剤を用いた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 誘電体酸化物を含む主成分と、焼結助剤とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、ＺｒＯ_２ 及びＳｉＯ_２ を主成分とするガラスで構成されており、前記ガラス中の各含有量が、１モルのＳｉＯ_２ に対して、ＺｒＯ_２ ：０．７〜１．３モルである焼結助剤を、前記主成分１００モルに対して１〜７モル（但し１モルと７モルを除く）添加して、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
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【課題】 鉛を含有しないにもかかわらず、十分に低融点で、耐水性・耐久性にも優れ、安価に製造可能な低融点封着ガラス及び低融点封着剤を開発する。
【解決手段】 鉛を含有しないリン酸スズガラスであって、Ｐ_２Ｏ_５を２６．５〜２７．５mol％、Ａｌ_２Ｏ_３を１．５〜２．５mol％、ＳｎＯを７０．５〜７１．５mol％含有することを特徴とする低融点封着ガラスである。Ｐ_２Ｏ_５量を極力抑え、ＳｎＯを多量に配合すると共にＡｌ_２Ｏ_３を少量加えることで低融点と高い耐水性・耐久性を実現している。低融点封着ガラスの粉末にペースト化剤を加えて低融点封着剤とする場合、ペースト化剤はエチレングリコール、ポリエチレングリコール又はグリセリンとすることが、緻密なガラス層が形成できて好ましい。 （もっと読む）

特に約１９３ｎｍで低フルエンス依存性透過率を持つ合成シリカ材料およびその製造方法が本願に開示されている。このガラスは、約２４８ｎｍで稼働されたときに、２９０および３９０ｎｍで低レベルの蛍光を発することが望ましいであろう。このガラスは、低レベルのＬＩＷＦＤ、［ＳｉＨ^*］および／または［ＯＤＣ］を示すことが望ましいであろう。
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