【課題】溶融性に優れ、尚且つホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２ ７５〜８５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％の組成を含有し、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜１０％であり、β‐ＯＨ値が０．３〜０．９／ｍｍであることを特徴とする。また、本発明の電子レンジ用耐熱ガラスは、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／β‐ＯＨの値が４〜２０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、プリフォームの生産性、モールドプレス性が良好な光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％でＢｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、屈折率［ｎｄ］が１．７０以上、アッベ数［νｄ］が１０以上の光学恒数を有し、液相温度における粘性が０．４Ｐａ・ｓ以上である光学ガラスである。さらに、ガラスの屈伏点［Ａｔ］が６００℃以下、液相温度が９５０℃以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎｄ）が１．７８〜２．２、アッベ数（νｄ）が１６〜４０未満の範囲であり、ガラス転移点が低くて精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％でＢ_２Ｏ_３を２５〜６０％、ＴｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５の合計量を２〜４５％、ＷＯ_３を１〜２５％含有し、屈折率ｎｄが１．７８〜２．２、アッベ数νｄが１６〜４０未満である光学ガラス。さらに、Ｌａ_２Ｏ_３を５〜３５％、ＺｎＯを１〜４０％を含有する。また、ガラス転移点（Ｔｇ）が７００℃以下である。これによって、ガラスの溶融性、安定性や耐失透性に優れ、また、高い屈折率と光の高分散性を有すると共に、精密プレス成形に優れた光学ガラスとなる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜５５．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５５．０％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３成分及びＦ成分をさらに含有する。この光学ガラスは、１．５７以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、５０以上のアッベ数（ν_ｄ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ材料コストの低減された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分とＦ成分を含有し、Ｌｎ_２Ｏ_３成分（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群より選択される１種以上）の質量和が５０．０％未満である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】 酸化錫を用いて泡品位に優れた珪酸塩ガラスを製造する方法を提供するものである。
【解決手段】 珪酸塩ガラスを製造するに当たり、清澄剤としてメディアン粒径Ｄ_５０が２〜５０μｍの範囲にある酸化錫粉末を用いることを特徴とする。珪酸塩ガラスとしては、無アルカリガラスやリチウムアルミノ珪酸塩系結晶化ガラスを例示することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、レアメタル酸化物（特にＬａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｇｄ_２Ｏ_３）の含有量が少ないにもかかわらず、有機発光素子や透明導電膜の屈折率ｎｄに整合し、しかも耐失透性、耐酸性が良好な高屈折率ガラスを創案することである。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ２０〜６０％、ＴｉＯ_２ ０．０００１〜２０％、ＺｒＯ_２ ０〜２０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％を含有し、屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境への負荷が小さくて化学耐久性に優れ、かつ、表面電荷密度が低く、特に低耐圧用の半導体素子を被覆するために好適なガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＺｎＯ ５２〜６５％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜２０％、ＳｉＯ_２ １５〜３５％およびＡｌ_２Ｏ_３ ３〜６％を含有し、かつ、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体素子被覆用ガラス。さらに、組成として、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５％、ＭｎＯ_２ ０〜５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜５％、ＣｅＯ_２ ０〜３％およびＳｂ_２Ｏ_３を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガラス組成物の焼成後に生じるベース基板との段差を平坦化して、キャビティの内部と外部の導通性を確保することができるガラスパッケージの製造方法、ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】貫通孔２１，２２と金属芯材３１との間に充填された結晶性ガラス体３２は、酸化物換算の質量％表示でＢｉ₂Ｏ₃６０〜８０％、ＳｉＯ₂５〜２０％、Ａｌ₂Ｏ₃０．５〜８％、Ｂ₂Ｏ₃０．５〜１３％、及びＺｎＯ０〜１２％を含有するビスマス系ガラス組成物を焼成により焼結してなるものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｔｚｃに対する許容値、ＣＴＥ対温度の傾き、およびＴｚｃの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ２５ｎｍ未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ２００μｍ以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 （もっと読む）

【課題】ホウケイ酸ガラス粉末を原料とするガラスセラミック誘電体用材料であって、グリーンシート成形時において、スラリーの粘度変化が生じにくく、かつ、流動性が高くレベリング性に優れたガラスセラミック誘電体用材料を提供する。
【解決手段】ホウケイ酸ガラス粉末を４９．９〜８９．９質量％、アルミナ粉末および／または石英粉末を１０〜５０質量％、ならびに、ホウ酸アルミニウム粉末および／またはホウ酸シリカ系化合物粉末を０．１〜４質量％含有することを特徴とするガラスセラミック誘電体用材料。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨粒子として有用なガラス粒子、ガラスセラミック粒子、セラミック粒子を提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３と希土類酸化物とＺｒＯ_２／ＨｆＯ_２を含むセラミック（ガラス、結晶質セラミック、ガラス−セラミックを含む）およびその製造方法に関する。Ａｌ_２Ｏ_３と希土類酸化物とＺｒＯ_２／ＨｆＯ_２を溶融し、ガラスビーズ、ガラス粉末として、熱処理を行いガラスセラミックス粉体として、研磨粒子等に利用が可能である。また該粒子は断熱材、フィラー、または複合材料（セラミック複合材料、金属複合材料、ポリマーマトリクス複合材料など）中の強化材、摩耗を伴う用途での保護コーティング材として利用し得る。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板１１を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板１１上に塗布した後、第一の封着材料膜１２を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜１２上に塗布した後、第二の封着材料膜１３を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板１１上に封着材料層１４を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル％で、Ｐ_２Ｏ_５を５０〜６８％、ＣｅＯ_２を１５〜３９％、Ｂ_２Ｏ_３を２〜７％、Ｐｒ_６Ｏ_１１を０．２〜０．５％含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が１≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２＜４の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはＰ_２Ｏ_５を５０〜６５％、ＣｅＯ_２を５〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３を３〜８％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＢａＯを０〜９％およびＰｒ_６Ｏ_１１を含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が４≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２の関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００モル％とし、酸化物組成として、
（１）Ｐ_２Ｏ_５：４５〜７５モル％、
（２）Ａｌ_２Ｏ_３：３〜２５モル％、
（３）ＲをＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎからなる群から選択される少なくとも１種とし、ＲＯ：５モル％以上３０モル％未満、並びに
（４）Ｂｉ_２Ｏ_３：０．１〜５モル％、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 （もっと読む）