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光加熱封着用ガラス、封着材料層付きガラス部材、及び電子デバイスとその製造方法
【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、27〜33%のP2O5、50〜70%のSnO、0.5〜3%のTeO2、0〜10%のZnO、0〜5%のCaO、0〜5%のSrO、0〜5%のB2O3、0〜5%のGa2O3、0〜3%のGeO2、0〜3%のIn2O3、0〜3%のLa2O3、及び0〜3%のWO3を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス1の封着層6の形成に使用される。
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ガラス体を製造する方法及びEUVリソグラフィ用の光学部材を製造する方法
【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル(A)に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル(B)に供給し、さらにノズル(A)、(B)とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル(A)以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの50%以上90%以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。
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封着用ガラス
【課題】低温での信頼性に優れる封着性を維持しつつ、封着後のガラス(封着部)の耐候性を向上させた封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、30〜33%のP2O5と、63〜69%のSnOと、0〜3%のZnOと、0.1〜3%のWO3、TeO2、GeO2、Ga2O3、In2O3、La2O3、CaO、及びSrOからなる群より選ばれる少なくとも1種とを含むガラス組成物からなり、ガラス転移温度が250℃以下である。
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ガラス組成物および基板上にそれを具備する部材
【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率(nd)が1.88以上2.20以下、ガラス転移温度(Tg)が450℃以上515℃以下、および50℃から300℃までの平均熱膨張係数(α50−300)が60×10−7/K以上90×10−7/K以下であって、Bi2O3の含有量は酸化物基準のモル%表示で5〜30%であり、ZnOの含有量は酸化物基準のモル%表記で4〜40%であることを特徴とする。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、SiO2成分と、Ta2O5成分、Nb2O5成分、Na2O成分及びBaO成分からなる群から選択される1種以上と、を含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
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ガラスの製造方法
【課題】溶融ガラスMによる耐熱容器1の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器1に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器1内の溶融ガラスMを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器1を、この耐熱容器1の外側面を支える支持部材2を介して底部12を浮かせた状態で載置面3の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。
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光学ガラス
【課題】一般の光学ガラスでは実現できなかった、高い硬度と高いヤング率とを有し、かつ高屈折率で低分散の光学ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、mol%で示す組成が次の条件を満たす:40%≦Al2O3≦54%;20%≦La2O3+Y2O3≦30%;0%≦La2O3≦30%;0%≦Y2O3≦30%;16%≦ZrO2+Nb2O5+Ta2O5+MgO≦30%;0%≦ZrO2≦25%;0%≦Nb2O5≦10%;0%≦Ta2O5≦10%;0%≦MgO≦15%;0%≦Sc2O3≦10%;0%≦Yb2O3≦5%;0≦SiO2≦15%。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数(νd)を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を5.0%以上40.0%以下、Nb2O5成分を10.0%以上60.0%以下含有し、100以上400以下の磨耗度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。
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電子デバイス及びその製造方法
【課題】2枚のガラス基板間にスペーサを配置して封止する際に、レーザ封着によるスペーサやガラス基板のクラックや割れ等の発生を抑制することによって、封止性やその信頼性を高めた電子デバイスとその製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイスは、第1のガラス基板2と第2のガラス基板3とこれらガラス基板2、3間に設けられる電子素子部とを具備する。第1のガラス基板2と第2のガラス基板3との間は、スペーサ6と第1の封着層7と第2の封着層8とで封着される。第2の封着層8はレーザ光を吸収する第2の封着用ガラス材料のレーザ光による溶融固着層からなる。第2の封着層8はガラス基板2、3の積層方向を含む断面において、第1の封着層7と該積層方向に重ならないように配置されている。
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ガラスフリット、およびこれを用いた導電性ペースト、電子デバイス
【課題】腐食性ガス等に対する耐久性に優れた導電層(電極)を形成することができる導電性粒子バインダー用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】このガラスフリットは、実質的にPbおよびMnを含まず、酸化物換算で、V2O5を20mol%以上80mol%以下、ZnOを5mol%以上45mol%以下、BaOを0mol%以上40mol%以下、Sb2O3を0mol%以上15mol%以下、P2O5を0mol%以上40mol%以下含有し、50%粒径D50が0.1μm以上5.0μm以下である。このガラスフリットを、導電性金属粉末100質量部に対して0.1質量部以上10質量部以下の割合で含有し、さらに有機ビヒクルを含有することで導電性ペーストを提供する。
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空調施設用混合抗菌性ガラス
【課題】空調施設のドレイン水における抗菌性ガラスからの銀イオン溶出量を安定的に制御して、ドレイン水における微生物の発生を効果的に抑制できる空調施設用混合抗菌性ガラスを提供する。
【解決手段】空調施設において、銀イオンを放出することによって抗菌効果を発揮する空調施設用混合抗菌性ガラスであって、溶解した場合にアルカリ性を示す抗菌性ガラスと、溶解した場合に酸性を示す抗菌性ガラスと、を含み、アルカリ性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量、および、酸性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量がそれぞれ所定の範囲内の値であり、アルカリ性を示す抗菌性ガラスの配合量が、酸性を示す抗菌性ガラス100重量部に対して、10〜100重量部の範囲内の値であり、かつ、所定測定条件にて測定される総銀イオン溶出量が所定の範囲内の値である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を40.0%未満、並びに、Ln2O3成分(式中、LnはY、La、Gd、Ce、Eu、Dy、Yb及びLuからなる群より選択される1種以上)を合計で60.0%未満含有し、1.75以上の屈折率(nd)と10以上のアッベ数(νd)を有する。
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合成石英ガラス基板及びその製造方法
【課題】光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。
【解決手段】表面中央132mm×132mm角の外周から表面外周縁へ向かって傾斜している6インチ角の合成ガラス基板であって、表面中央132mm×132mm角の平坦度が50nm以下、表面中央148mm×148mm角内であって表面中央132mm×132mm角部分を除いた額縁部分の平坦度が150nm以下である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)の小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でSiO2成分を10.0〜40.0%、及び、Nb2O5成分を1.0〜50.0%含有し、15以上30以下のアッベ数(νd)を有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00480×νd+0.73500)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00250×νd+0.67750)の関係を満たす。
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耐火性フィラーの製造方法
【課題】製造コストを低廉化するとともに、原料の一部が未反応になる事態を防止し得る耐火性フィラーの製造方法を創案すること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーの製造方法は、原料バッチを融解した後、得られた融液を冷却することにより、主結晶相として、ウイレマイトを析出させることを特徴とする。
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光学ガラスの製造方法、光学素子及び光学素子
【課題】特に遷移金属であるNb2O5成分を含有し、且つ着色が少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】Nb2O5成分を必須成分として含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料Sを溶融する溶融槽11と、この溶融槽11に連通され且つガラスを清澄する清澄槽12と、この清澄槽12に連通され且つガラスを撹拌する撹拌槽13と、を用い、ガラス原料Sを前記溶融槽11で溶融する工程(溶融工程)、溶融したガラス原料Sを前記清澄槽12で清澄させる工程(清澄工程)、清澄した溶融ガラスGを前記撹拌槽13で撹拌する工程(撹拌工程)、撹拌した溶融ガラスGを流出させる工程(流出工程)、及び流出したガラスを成形する工程(成形工程)を有する。
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電極用ペーストに適したガラス組成物およびこれを用いた電極用ペースト
【課題】電極用ペーストを構成するための新たな低融点ガラスを提供する。
【解決手段】モル%で表示して、実質的に、P2O5:25〜55%、T−SnO:30〜65%、T−FeO:5〜20%の成分からなり、SnO比が50%以上であるガラス組成物とする。ただし、T−SnOおよびT−FeOは、当該ガラスに含まれる全ての錫または鉄の酸化物をSnOまたはFeOに換算した全酸化錫量または全酸化鉄量を示す。SnO比は、T−SnOに対するSnOの比率である。このガラス組成物の比重は、アルミニウム金属微粒子の比重に近い。したがって、本発明によるガラス組成物は、アルミニウム金属微粒子を含む電極用ペーストにおけるガラスフリットとしての使用に適している。
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ガラスセラミックス、その製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ナシコン型構造を有する結晶を含有する光触媒ガラスセラミックスが提供される。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式AmB2(XO4)3(式中、第一元素AはLi、Na、K、Cu、Ag、Mg、Ca、Sr及びBaからなる群から選択される1種以上とし、第二元素BはZn、Al、Fe、Ti、Sn、Zr、Hf、V、Nb及びTaからなる群から選択される1種以上とし、第三元素XはSi、Ge、P、S、Mo及びWからなる群から選択される1種以上とし、係数mは0以上3以下とする)で表される。
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隔壁形成用無鉛ガラス
【課題】従来材料に対して、プラズマディスプレイに使用したときに衝撃による欠け落ちが起こりにくい隔壁材料の提供を目的とする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3とSiO2とAl2O3の含有量の合計が72%以上、Li2Oが5〜19%であり、K2O/(Li2O+Na2O)のモル比が1以下であり、室温でのヤング率が80GPa以下である隔壁形成用無鉛ガラス。詳細なガラス組成としては、B2O3を20〜55%、SiO2を10〜50%、Al2O3を4〜20%、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1種以上を含み含有量の合計が5〜20%、ZnOを0〜20%含有するものである。
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結晶性封着材料
【課題】二次焼成工程で良好に軟化流動した後に、結晶が十分に析出する結晶性封着材料を提供する。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラーを含む結晶性封着材料において、ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、Bi2O330〜40%、B2O315〜25%、ZnO30〜40%、CuO0〜25%、Fe2O30〜5%を含有し、且つ耐火性フィラーとして、ZnO含有耐火性フィラー及びコーディエライトを含むことを特徴とする結晶性封着材料。
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