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厚盛り印刷絵具及び厚盛り印刷方法並びに厚盛り印刷製品
【課題】重ね塗りをせずに良好な厚盛り印刷をすることができる厚盛り印刷絵具及び厚盛り印刷方法並びに厚盛り印刷製品を提供する。
【解決手段】無機系材料に酸窒化チタンを有する発泡性材料が0.5〜10重量%の割合で混合された厚盛り印刷用絵具を被印刷物11表面に塗布し焼付温度400〜1000℃で所定時間加熱して、厚盛り印刷用絵具の無機系材料を被印刷物11表面に融着させるとともに酸窒化チタン中の窒素をガス化発泡させて発泡印刷層21を有する印刷部20を形成することを特徴とする。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を1.0%以上12.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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無機系の中空微粒子粉末原料の分離精製方法、高純度微粒子粉末および分離精製装置
【課題】無機系の中空微粒子粉末原料から、小孔や欠け等の欠陥のある中空微粒子や破壊された微粒子を高純度に含む微粒子粉末と、欠陥や破壊のない完全球体の中空微粒子を高純度に含む微粒子粉末とに分離し精製する分離精製方法を提供すること、簡単な操作により効率よく分離精製する方法を提供すること、それらの分離精製された微粒子粉末を提供すること。
【解決手段】無物系の中空微粒子粉末原料1を100℃以上の温度で加熱する加熱工程と、加熱された中空微粒子粉末原料1を室温以下の温度に保持された水107に投入して急冷し、水107中で沈降する沈降性成分2と水107中で浮上する浮上性成分3に分離する分離工程と、分離された浮上性成分3と沈降性成分2をそれぞれ回収する回収工程と、回収された浮上性成分3と沈降性成分2をそれぞれ乾燥させる乾燥工程を有する。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を5.0%以上30.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を0%以上5.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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光学用ガラス
【課題】 光学ガラスに求められる要求特性を全て満足し、しかも、金型や金属製ホルダーに近似した熱膨張係数と高い屈折率と高い硬度を兼ね備えた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、モル百分率で、B2O3 10〜30%、ZnO 5〜30%、La2O3 5〜15%、TeO2 10〜45%、Nb2O5 5〜20%、TiO2 2〜10%、WO3 0〜10%、SiO2 0〜5%、Al2O3 0〜5%、CaO 0〜7%、BaO 0〜7%、SrO 0〜7%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜5%、K2O 0〜5%を含有することを特徴とする。
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合成シリカガラス及びその製造方法
【課題】耐失透性に優れ、各種合成シリカ材料に好適で、特に、放電灯用のバルブ材として好適に用いられる耐失透性合成シリカガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。また、ランプ寿命を長く保持できる放電灯用合成シリカガラス製バルブ、該バルブを用いた放電灯装置、及び放電灯用合成シリカガラス製バルブの製造方法を提供する。
【解決手段】250nmでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で0.01〜2/cm、Cl含有量が10ppmを超え10000ppm以下、OH基含有量が10ppm以下、アルカリ金属の合計含有量が10ppm以下、水素分子濃度が1×1016分子/cm3以下、及び1100℃での粘度が1014〜1016ポアズであるようにした。
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歯科用途および歯列矯正用途におけるセラミックの使用
【課題】歯科用途および歯列矯正用途における非晶質ガラスおよびガラス−セラミック材料、硬化性樹脂と非晶質ガラスまたはガラス−セラミックとの混合物を含む歯科材料その使用方法、を提供する。
【解決手段】Al2O3と、B2O3、GeO2、P2O5、SiO2、TeO2、V2O5などあるいはREO、Y2O3、あるいはZrO2、HfO2を含む非晶質ガラスおよびガラス−セラミックを含む物品。ここでREOという用語は、希土類酸化物を示す。
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ガラスレンズ製造方法
【課題】本発明によればBi2O3を含むガラス材料を用い、かつ、ガラスレンズ表面の白濁発生を低減するガラスレンズ製造方法を提供する。
【解決手段】上型と下型と胴型を含む成形型を用いたガラスレンズ製造方法であって、Bi2O3を含むプリフォーム原材料を成形型の加工面形状に合わせて研削・研磨加工するステップと、その後、プリフォーム硝材をプリフォーム硝材のガラス転移温度(Tg)以上、屈伏温度(Ts)以下の温度でアニールするステップと、その後、プリフォーム硝材2を成形型で加圧加工するステップと、を含む。
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ガラス組成物及びそれを用いた光学装置
【課題】本発明によれば、紫外光において、真性複屈折率が低いかあるいは存在しないガラス化状態を安定して得ることができるガラス組成物を提供する。
【解決手段】Lu、Si及びAlを含有する酸化物であり、LuとSiとAlを陽イオン%で示した三相図において、以下に記す陽イオン%で示した6組成点で囲まれた組成域(記号“◎”で囲まれた範囲)に含まれるガラス組成物。
32.3LuO3/2・30.0SiO2・37.7AlO3/2、
32.3LuO3/2・37.7SiO2・30.0AlO3/2、
20.8LuO3/2・55.0SiO2・24.2AlO3/2、
10.0LuO3/2・45.0SiO2・45.0AlO3/2、
20.8LuO3/2・24.2SiO2・55.0AlO3/2、
及び30.0LuO3/2・25.0SiO2・45.0AlO3/2
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光触媒ガラスおよびその製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 TiO2成分、WO3成分、ZnO成分、Nb2O5成分、及びTa2O5成分からなる群より選択される1種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、10〜75%含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。
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光学ガラス
【課題】本発明の目的は、屈折率1.90〜2.10、アッベ数15〜27の範囲の光学定数を有するような高屈折率高分散領域で、部分分散比が小さい光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%、及びLa2O3成分を5.0〜30.0%、Nb2O5成分を5.0〜30.0%、Ta2O5成分を0.5〜15.0%含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00562×νd+0.75663)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00260×νd+0.68100)の関係を満たす光学ガラス。
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ガラスペースト
【課題】本発明は、SnO含有ガラス粉末との適合性が良好なビークル、特にバインダーを創案することにより、焼成時にSnO含有ガラス粉末のガラス組成中のSnOがSnO2に酸化し難く、電子部品等に必要な気密性や封着強度を確保し得るガラスペーストを作製すること。
【解決手段】本発明のガラスペーストは、封着材料とビークルを含有するガラスペーストにおいて、封着材料がSnO含有ガラス粉末を含み、且つビークルが脂肪族ポリプロピレンカーボネートと溶媒を含むことを特徴とする。
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白光LED光源に用いられる発光ナノ微結晶ガラス及びその製造方法
本発明は、白光LED光源に用いられる発光ナノ微結晶ガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。該ガラスは、発光ナノ微結晶が分散された無孔且つ緻密なSiO2ガラスであり、前記発光ナノ微結晶の化学式はYxGd3−xAl5O12:Ce(0≦x≦3)である。該ガラスは、安定性がよく、発光が均一である。該製造方法は、化合物原料を溶媒に溶解して混合溶液を調製し、SiO2ナノ微小孔ガラスを混合溶液中に浸漬し、取り出して乾かした後、温度を徐々に1100〜1300℃に昇温し1〜5時間焼成して製品を得る工程を含む。該方法は、その製造プロセスが簡単で、作業が便利であり、コストが低い。
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TiO2を含有するシリカガラスおよびその製造法
【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiO2を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】TiO2を含有するシリカガラスの製造方法であって、(a)ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、(b)多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、(c)フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、(d)フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、(e)成形ガラス体を500℃を超える温度にて5時間以上保持した後に500℃まで10℃/hr以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。
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反応性セラミック化によるゼノタイムセラミックの製造
YP−ガラスとY原料物質との反応を含む、YPO4セラミックを製造するための反応性セラミック化方法。本発明は、とりわけ、比較的低温、比較的短時間、および低コストで、純粋相のYPO4セラミック材料を合成するのに用いることができる。本発明は、例えば、大きい寸法のガラスシートを製造するためのフュージョンダウンドロー法におけるアイソパイプに適した大きいYPO4ブロック片の製造に使用することができる。
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TiO2を含有するシリカガラスおよびその製造法
【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiO2を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】TiO2を含有するシリカガラスの製造法であって、(a)ガラス形成原料であるSi前駆体およびTi前駆体を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、(b)多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して透明ガラス体を得る工程と、(c)透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、成形ガラス体を得る工程と、(d)成形ガラス体を500℃を超える温度にて5時間以上保持した後に500℃まで10℃/hr以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程と、を含む製造法。
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TiO2を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
【課題】EUVL用露光装置の光学系部材として使用した場合に、室温における熱膨張係数がほぼゼロとなり、ガラスから水素を放出させることで多層膜の物性を長時間維持させることが可能なTiO2−SiO2ガラスの提供。
【解決手段】仮想温度が1100℃以下であり、水素分子濃度が5×1017分子/cm3以上であり、線熱膨張係数が0ppb/℃となる温度が12〜40℃の範囲にあることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
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光学用ガラス
【課題】 光学ガラスに求められる要求特性を全て満足し、しかも、金型や金属製ホルダーに近似した熱膨張係数と高い屈折率と高い硬度を兼ね備えた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、モル百分率で、B2O3 10〜30%、ZnO 5〜30%、La2O3 5〜15%、TeO2 10〜45%、Nb2O5 5〜20%、TiO2 0〜10%、WO3 2〜10%、SiO2 0〜5%、Al2O3 0〜5%、CaO 0〜7%、BaO 0〜7%、SrO 0〜7%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜5%、K2O 0〜5%を含有することを特徴とする。
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導電性被膜の製造法および該被膜を備えた支持体
【課題】金属粉末およびガラスフリットを含有するペーストの使用下に、ガラスおよび琺瑯鋼支持体上に、導電性被膜を製造することのできる方法を呈示する。
【解決手段】本発明は、スクリン印刷可能なアルミニウムペーストの使用下にガラスおよび琺瑯鋼上に導電性被膜を製造する方法に関し、使用すべきペーストはアルミニウム粉末40〜80質量%、殊に50〜75質量%、400〜700℃、殊に420〜580℃の軟化開始温度を有するガラスフリット5〜40質量%、殊に9〜25質量%、液状または熱可塑性の媒体10〜35質量%および焼結助剤0〜10質量%を含有する。ペーストで塗布された支持体は、500〜750℃、殊に590〜690℃で焼付けられる。支持体上の被膜は、100μオーム・cmより小さい、殊に10〜70μオーム・cmの範囲内の低い抵抗率および良好な接着により優れている。
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