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イオン伝導性薄膜材料及びその製造方法
【課題】加湿しなくても、200〜500℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性薄膜材料、特にプロトン伝導性薄膜材料を創案すること。
【解決手段】本発明のイオン伝導性薄膜材料は、組成として、モル%表示で、P2O5 15〜80%、SiO2 0〜70%、R2O(Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、及びAg2Oの合量) 5〜35%を含有すると共に、薄板形状を有し、その厚みが1〜500μmであることを特徴とする。
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強化板ガラスとその製造方法
【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】強化板ガラス10は、無機酸化物ガラスからなり、板厚保方向に対向する板表面11、12に化学強化による圧縮応力層を有している。板端面13、14、15、16は、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有している。該板端面が、レーザー切断によって形成された面を有する。
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電極形成用ガラス及びこれを用いた電極形成材料
【課題】本発明の技術的課題は、ファイアスルー性が良好であり、またファイアスルーの際にシリコン太陽電池の光電変換効率を低下させ難く、しかも低温で焼結可能なビスマス系ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の光電変換効率を高めることである。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量%で、Bi2O3 65.2〜90%、B2O3 0〜5.4%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+CuO+Fe2O3+Nd2O3+CeO2+Sb2O3(MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、CuO、Fe2O3、Nd2O3、CeO2、及びSb2O3の合量) 0.1〜34.5%を含有することを特徴とする。
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リン酸塩系レーザーガラスにおける希土類イオン発光帯域幅の拡大
【課題】固体レーザー利得媒質としてのリン酸塩系ガラスの使用の開示。
【解決手段】リン酸レーザーガラスであって、P2O535〜65、SiO20〜20、B2O30〜15、Al2O3>0〜10、Nb2O50〜10、TeO20〜5、GeO20〜5、WO30〜5、Bi2O30〜5、La2O30〜5、Ln2O3>0〜10(Ln=周期表の元素58〜71のレーザー発振イオン)、R2O10〜30(R=Li、Na、K、Rb、Cs)、MO10〜30(M=Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)、Sb2O30〜5の組成(mol%)を有し、SiO2、B2O3、TeO2、Nb2O5、Bi2O3、WO3及び/又はGeO2が各々、>0mol%〜約15mol%で存在し、それらの合計が少なくとも1mol%である、リン酸レーザーガラス。
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金属不純物拡散阻止能を有する石英ガラス
【課題】
従来、半導体熱処理治具に一般に使用されてきた天然シリカ熔融石英ガラスは金属不純物、特に銅の拡散阻止能を持たない。金属不純物阻止能を有し、高温粘性の高い石英ガラスを提供する。
【解決手段】
高純度の合成シリカ粉を中性不活性雰囲気中結晶化した後に電気炉中溶解やプラズマ溶解することにより、酸素欠乏欠陥ODCII含有量を10×1015個/cm3以下にし、かつSi孤立電子対含有量を2×1015個/cm3以下にし、さらに含有Na濃度を0.03wt.ppm以下に抑えことにより、金属不純物拡散阻止能を有し、半導体熱処理時に粘性率の高い石英ガラスが得られる。
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樹脂複合体基板用ガラス
【課題】透明樹脂の光学特性(屈折率nd、アッベ数νd)に整合し、且つアルカリ溶出量の少ない充填材やガラス繊維を創案することにより、樹脂複合体基板の透明性や信頼性を高める。
【解決手段】本発明の樹脂複合体基板用ガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量%で、SiO2 50〜65%、Al2O3 0〜20%、B2O3 0〜20%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO(MgO、CaO、SrO、BaO、及びZnOの合量) 5〜20%、Li2O+Na2O+K2O(Li2O、Na2O、及びK2Oの合量) 0〜5%、TiO2 0〜10%、ZrO2 0〜10%、SnO2 0〜2%を含有することを特徴とする。
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無アルカリガラス基板の製造方法
【課題】清澄剤としてAs2O3を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でSiO2 50〜70%、Al2O3 10〜25%、B2O3 5〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜5%を含有し、かつSnO2及び/又はSb2O3を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−OH値が0.485/mm〜0.65/mmとなるようにガラス中の水分量を調節する。
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半導体被覆用ガラス
【課題】環境への負担が小さくて表面電荷密度が大きく、かつ化学耐久性に優れた半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量%で、ZnO 40〜60%、B2O3 5〜25%、SiO2 15〜35%、Al2O3 3〜12%を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス、および当該半導体被覆用ガラスからなるガラス粉末を含むことを特徴とする半導体被覆用材料。
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封止用ガラス
【課題】本発明は、非酸化雰囲気(減圧雰囲気、不活性雰囲気等)であっても、450〜800℃の中温度域で金属製被封止物を良好に封止可能なSnO−P2O5系ガラスからなる封止用ガラスを創案することにより、長期間に亘って、封止部分の気密性を確保することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封止用ガラスは、金属製被封止物を封止するための封止用ガラスであって、ガラス組成として、モル%表示で、SnO 15〜30%(但し、30%を含まず)、P2O5 20〜40%、WO3 5〜20%(但し、5%を含まず)、ZnO 3.4〜30%(但し、30%を含まず)を含有し、モル比SnO/ZnOが1以上4.5以下であることを特徴とする。
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低膨張性シリカ・チタニアガラスにおける膨張性の改善
【課題】
ガラスの[OH]含有量および仮想温度の変化を通じて、低熱膨張性のシリカ・チタニアガラスの膨張性を調整および改善する。
【解決手段】
ガラスにおける[OH]濃度は600〜2500ppmの範囲でありうる。仮想温度TFは900℃未満である。
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光学ガラス
【課題】Bi2O3を成分として含有しながらも、低い屈伏点を有し、且つ広い範囲の屈折率、高屈折率をもつ光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Bi2O3、Ag2O、P2O5からなる3成分の各100モル%をそれぞれ正三角形の頂点とする3元系成分組成図上において、前記3成分が下記A〜Gの7点を結ぶ線で囲まれる領域にある。A:(Bi2O3、Ag2O)=(2.5モル%、60.0モル%)、B:(Bi2O3、Ag2O)=(12.5モル%、50.0モル%)、C:(Bi2O3、Ag2O)=(12.5モル%、42.5モル%)、D:(Bi2O3、Ag2O)=(32.5モル%、2.5モル%)、E:(Bi2O3、Ag2O)=(17.5モル%、2.5モル%)、F:(Bi2O3、Ag2O)=(17.5モル%、10.0モル%)、G:(Bi2O3、Ag2O)=(2.5モル%、25.0モル%)。
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封止ガラス
【課題】減圧雰囲気であっても、500〜800℃の中温度域で金属製二重容器を良好に封止可能なSnO−P2O5系ガラスからなる封止ガラスを創案することにより、長期間に亘って、金属製二重容器の気密性を確保すること。
【解決手段】本発明の封止ガラスは、ガラス組成として、モル%表示で、SnO 15〜30%(但し、30%を含まず)、P2O5 20〜40%、WO3 5〜20%(但し、5%を含まず)、ZnO 3.4〜30%(但し、30%を含まず)を含有し、モル比SnO/ZnOが1以上4.5以下であると共に、金属製二重容器の封止に用いることを特徴とする。
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低膨張性かつ高透過性のチタニア・ドープ・シリカガラス
【課題】
焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とCTEの絶対値の調整の両方を同時に生じる、CTEの絶対値を調整する手段。
【解決手段】
1つの実施の形態では、本開示は、340nm〜840nmの波長において>90%/cm、340nm〜840nmの波長において>93%/cm、または、340nm〜840nmの波長において>95%/cmの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、本開示は、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が、340nm〜840nmの波長において>84%、340nm〜840nmの波長において>86%、または330nm〜840nmの波長において>88%である、シリカ・チタニアガラスを対象とする。さらなる実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、3重量ppm未満のTi+3濃度レベルを有する。
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光学ガラス
【課題】Sb2O3含有量を低減しつつ、可視域にて高透過率を維持することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量%で、SiO2 35%以上、Sb2O3 50ppm未満、Fe2O3 30ppm未満を含有する光学ガラスであって、(Fe2O3含有量/全Pt含有量)の値が5.5〜14であることを特徴とする光学ガラス。10mm厚で測定した透過率の吸収端が310nm以下であることが好ましい。
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封着用ガラスタブレット
【課題】非酸化雰囲気(減圧雰囲気、不活性雰囲気等)であっても、450〜800℃の中温度域で金属材料等を良好に封着可能なSnO−P2O5系ガラスを含むガラスタブレットを創案することにより、長期間に亘って、封着部分の気密性を確保すること。
【解決手段】本発明の封着用ガラスタブレットは、少なくともSnO−P2O5系ガラスを含む封着用ガラスタブレットにおいて、SnO−P2O5系ガラスが、ガラス組成として、モル%表示で、SnO 15〜30%(但し、30%を含まず)、P2O5 20〜40%、WO3 5〜20%(但し、5%を含まず)、ZnO 6〜30%(但し、30%を含まず)を含有し、モル比SnO/ZnOが1以上、4.5以下であることを特徴とする。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B2O3成分、La2O3成分を含有し、1.73以上の屈折率(nd)と、45以上のアッベ数(νd)とを有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で(θg,F)≧(−0.00170×νd+0.63750)の関係を満たす。
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低ストリエーション極紫外光光学素子
【課題】低レベルのストリエーションを有する極紫外光光学素子及び極紫外光光学素子を製造するためのガラスブールを提供する。
【解決手段】研磨され、整形された表面を有し、0.2メガパスカル(MPa)より小さい山対谷ストリエーションレベルを有する、チタニア含有シリカガラスを含み、当該ガラスが、5重量%と10重量%の間のチタニアを含有する。前記ガラスは、20℃と35℃の間で+30ppb/℃から−30ppb/℃の範囲の熱膨張係数(CTE)を有する。
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封着材料層付きガラス部材とそれを用いた電子デバイスおよびその製造方法
【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板3は封止領域5を備える。ガラス基板3の封止領域7上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着材料からなる封着材料層7が設けられている。枠状の封着材料層7は直線部7aとコーナー部7bとで構成されている。封着材料層7はコーナー部7bの幅L12が直線部7aの幅L11より広い。
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電極形成用ガラス及びこれを用いた電極形成材料
【課題】ブリスターやAlの凝集を発生させずに、Al−Si合金層とAlドープ層を適正に形成し得るビスマス系ガラスからなる電極形成用ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の外観不良を低減し、且つ光電変換効率を高めること。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量%で、Bi2O3 56〜76.3%、B2O3 2〜18%、ZnO 0〜11%(但し、11%は含まず)、CaO 0〜12%、BaO+CuO+Fe2O3+Sb2O3(BaO、CuO、Fe2O3、及びSb2O3の合量) 0〜25%を含有し、軟化点が462〜520℃であることを特徴とする。
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希土類アルミノホウケイ酸ガラス組成物
【課題】固体レーザー媒質としての使用に好適なアルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラスはレーザー発振イオン用の希土類イオンの発光帯域幅を示す。完全には分かっていないが、発光帯域幅を拡大することは、ガラスマトリックス中の有効量のランタニドイオンの存在によって達成されると考えられる。加えて、ヤング率、破壊靭性及び硬度の高い値のために、透明な防弾窓材料としても好適である。
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