低膨張性かつ高透過性のチタニア・ドープ・シリカガラス
【課題】
焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とＣＴＥの絶対値の調整の両方を同時に生じる、ＣＴＥの絶対値を調整する手段。
【解決手段】
１つの実施の形態では、本開示は、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９０％／ｃｍ、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９３％／ｃｍ、または、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９５％／ｃｍの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、本開示は、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８４％、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８６％、または３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８８％である、シリカ・チタニアガラスを対象とする。さらなる実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベルを有する。
焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とＣＴＥの絶対値の調整の両方を同時に生じる、ＣＴＥの絶対値を調整する手段。
【解決手段】
１つの実施の形態では、本開示は、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９０％／ｃｍ、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９３％／ｃｍ、または、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９５％／ｃｍの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、本開示は、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８４％、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８６％、または３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８８％である、シリカ・チタニアガラスを対象とする。さらなる実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベルを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、透過性が改善された、チタニアをドープしたシリカガラスおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
低熱膨張性のチタニアをドープした溶融シリカガラス（以後、シリカ・チタニアガラス）は、茶色がかった外観を有することが頻繁にあり（Ｔｉ+3の存在に起因）、透過性の高さとしては知られていない。しかしながら、Ｉｍｐｒｉｎｔ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙなどの用途の透過性が改善された、低熱膨張性のシリカ・チタニアガラスが依然として必要とされている。
【０００３】
例えば「ＵＬＥ」ガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ社製）などの膨張性が低いシリカ・チタニアガラスは、調整することができる低熱膨張挙動を有するが、熱膨張挙動は、温度に伴って、特定の製品および用途にとって望ましくない値にまで変化してしまう。例えば、ＥＵＶＬ（極紫外線リソグラフィ）反射光学系およびマスクは、使用の間に、最小限の歪みしか生じないことが望ましく、温度は、典型的には、２０℃〜８０℃またはそれ以上の範囲である。ＥＵＶＬマスクおよび光学系に用いられるガラスの膨張曲線がより平らになれば、マスクおよびレンズ素子における使用中の歪みが少なくなるであろう。ＥＵＶＬ系の設計者には、生産工程の間に加熱される際に、リソグラフィ系を特定の性能レベルで保持するために、熱変形を注意深く予算に計上することが要求される。本開示は、改善された膨張性（平らな膨張曲線）を有し、改善された透過特性も有するシリカ・チタニアガラスを特定する。このガラスは、システム設計者にとって、より高いスループット、より良好なオーバーレイおよび解像度を有するＥＵＶＬ系の製造を可能にする。
【０００４】
現在、大きいシリカ・チタニアガラスのブールの製造方法は、結果的に、ブール全体のＣＴＥの変動が３〜１０ｐｐｂ／°Ｋのガラスを生じさせる。加えて、このようなガラスのＣＴＥの絶対値は、わずか±３〜５ｐｐｂ／°Ｋに制御することができる。結果として、ブールのさまざまな部分から採取したガラスは、ある程度のＣＴＥ変動を有しうる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とＣＴＥの絶対値の調整の両方を同時に生じる、ＣＴＥの絶対値を調整する手段を開示する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、３４０ｍｍ〜８４０ｍｍの全範囲にわたり、＞９０％／ｃｍの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、内部透過性は、３４０ｍｍ〜８４０ｍｍの全範囲にわたり、＞９３％／ｃｍである。さらなる実施の形態では、内部透過性は、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長の全範囲にわたり、＞９５％／ｃｍである。
【０００７】
別の実施の形態では、本開示は、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が＞８４％であるシリカ・チタニアガラスを対象とする。１つの実施の形態では、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性は、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において８６％より大きい。さらなる実施の形態では、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性は、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８８％より大きい。
【０００８】
別の実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベル［Ｔｉ3+］を有する。
【０００９】
追加の実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、２×１０17分子／ｃｍ3未満の水素濃度レベル［Ｈ2］を有する。別の実施の形態では、水素濃度レベル［Ｈ2］は２×１０16分子／ｃｍ3未満である。さらなる実施の形態では、水素濃度レベル［Ｈ2］は２×１０15分子／ｃｍ3未満である。
【００１０】
本開示は、透過性を改善し、ＣＴＥを所望のレベルまで調整し、ガラスの熱膨張性を調整するため、空気中、３００℃〜１２００℃の温度で、不活性ガスまたは他のＨ2を含有しない環境で１日〜１００日間、溶融シリカ・チタニアガラスを熱処理（アニーリング）する方法を対象とする。本明細書に記載するように、アニーリングは、空気、酸素、Ｎ2、またはアルゴン、またはそれらの混合物からなる群より選択される環境下で行い、透過特性、本明細書に記載の［Ｈ2］および／または［Ｔｉ3+］レベルを有するシリカ・チタニアガラスの生産に用いられる。
【００１１】
本明細書に記載のシリカ・チタニアガラスは、放射によって生じる透過性の損失および寸法変化に対し耐久性である。ガラスは、６００重量ｐｐｍより大きい［ＯＨ］、本明細書に記載の低い［Ｈ2］レベル、本明細書に記載の低い［Ｔｉ3+］レベル、および高い内部透過性の値と共に、９００℃未満の仮想温度（ＴF）を有する。１つの実施の形態では、６００ｐｐｍより大きい［ＯＨ］、本明細書に記載の低い［Ｈ2］レベル、本明細書に記載の低い［Ｔｉ3+］レベル、および高い内部透過性の値と共に、８９０℃未満のＴFを有する。別の実施の形態では、６００ｐｐｍより大きい［ＯＨ］、本明細書に記載の低い［Ｈ2］レベル、本明細書に記載の低い［Ｔｉ3+］レベル、および高い内部透過性の値と共に、８８０℃未満のＴFを有する。これらの特性を有するシリカ・チタニアガラスは、７重量％〜１０重量％のチタニア含有量ＴｉＯ2を有する。１つの実施の形態では、チタニア含有量ＴｉＯ2は、７．５重量％〜８.５重量％の範囲である。シリカ・チタニアガラスは、低レベルの粗さを有するインプリントマスクの作製を可能にする、浅い溝を有する。１つの実施の形態では、本開示のシリカ・チタニアガラスは、１．５ｐｐｂ／°Ｋ2未満の２０℃における膨張率勾配を有する。さらなる実施の形態では、２０℃における膨張率勾配は１．４ｐｐｂ／°Ｋ2未満である。別の実施の形態では、２０℃における膨張率勾配は１．２ｐｐｂ／°Ｋ2未満である。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】ＴｉＯ2濃度が公称上７．６重量％であり、膨張率が焼きなましサイクルを介してガラスの構造を変化させることによって調整された、シリカ・チタニアガラスの温度に対する膨張率のグラフ；膨張率の曲線は図３に例証されるＣＴＥのシフト量によって垂直にシフトしている。
【図２】シリカ・チタニアガラスのゼロ・クロスオーバー温度Ｔzcを、ガラスの仮想温度ＴFを変化させることによって、シフトさせることができることを例証するグラフ。
【図３】異なるアニーリング手順では、アニーリングし、０.８７℃／時間の速度で冷却した、公称上７．６重量％のＴｉＯ2を有するチタニアをドープした溶融シリカガラスのＴzcが変化するであろうことを例証するグラフ。
【図４】熱処理の影響および公称７．３重量％シリカ・チタニアガラスのサンプルにおける内部透過性の改善を示すグラフ。
【図５】ＴFがほぼ直線的に低下するにつれて、勾配がいかに改善されるかを示す、膨張性プロットの２０℃における勾配に対するＴFの影響を例証するグラフ。
【図６】直接法によってシリカ・チタニアガラスを製造するための装置。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本開示では、シリカ・チタニアガラスの構造、例えば、限定はしないが、「ＵＬＥ」ガラスは、ガラスのアニーリング・サイクルを変えることによって変化させることができることが見出された。シリカ・チタニアガラスのアニーリング・スケジュールの変更が、シリカ・チタニアガラスの仮想温度（ＴF）を著しく変化させる結果を生じうることが分かった。本開示は、より遅いアニーリング・サイクルがシリカ・チタニアガラスの膨張性を改善する手段であることを特定し、加えて、目標値に見合うようにガラスのＣＴＥを調整する手段としても特定する。米国特許出願公開第２００６／０１７９８７９号明細書は、チタニアをドープしたシリカガラスにおける膨張性の調整方法として、ドーピングおよびアニーリングを開示するが、本開示は、米国特許出願公開第２００６／０１７９８７９号明細書を凌ぎ、改善された膨張性、改善された透過性、ガラス中の少ない［Ｔｉ3+］イオン、および５℃未満までの制御可能なＣＴＥクロスオーバーなど、多くの改善を有するガラス；および、これらの改善を達成する方法を特定する。
【００１４】
図１は、アニーリング・サイクルを調整することによってＴF値を調整したガラスを示している。図１は、公称上７．６重量％のＴｉＯ2の所定のガラス組成物について、温度に伴う膨張性の変化を比較している。プロットは、得られたそれぞれ異なるＴFについての勾配の変化を比較するために用いられる。クロスオーバー温度Ｔzc（膨張率が０ｐｐｍ／℃における温度）をこの図について２０℃に調整した。図１は、以前の標準的なシリカ・チタニアガラス（番号５４で表示）に対して膨張性の改善を実証しており、改善について表１にまとめた。
【表１】
【００１５】
膨張率のパーセント改善は、ガラスに生じる温度変化に依存している。標準的なアニーリング１０を用いてアニーリングしたＵＬＥガラス対照と比較して、所定のＴFについて、０〜３６％の改善が確認されている。表１および図１に示した結果に基づいて、ＴFがさらに低下するにつれて、膨張性におけるさらなる改善が予想できる。しかしながら、難点は、より低いＴFでは、ますます長いアニーリング時間を必要とすることである。図１に例証するガラスの膨張曲線は、図３に示すＣＴＥ量によって垂直にシフトし、ここで、番号１０は本明細書に記載の標準的なアニーリング・サイクルを表し；番号１１、１３および１５は、本明細書に記載される、より長いアニーリング時間を表し、番号１２、１４および１６は、より短いアニーリング時間を表している。したがって、図１の番号５８は、標準的なサイクルより長い時間でアニーリングしたガラスを表し、番号５０は、標準的なアニーリング・サイクルより短い時間でアニーリングしたガラスを表している。
【００１６】
２０１０年８月１６日出願の米国特許出願第１２／８５６７２８号明細書は、例えば、限定はしないがＵＬＥガラスなどのシリカ・チタニアガラスにおけるＣＴＥゼロ・クロスオーバー温度を得ることができる方法について開示しており、その方法は、さらに、調節可能なゼロ・クロスオーバー温度を有するガラスを特定している。本明細書の図２は、ＴFの所定のシフトについてのＣＴＥのシフト間の正確な関係を例証している。アニーリング・スケジュールを変化させることによって、ＴFのシフトの大きい同調が可能になる。例えば、本明細書の図３は、あるガラスに対するガラス（１０）のＣＴＥを±５ｐｐｂ／℃変化させるために、本明細書に記載のアニーリング・スケジュールをいかに調節したか、および、それによって、およそ９９０℃〜８５０℃の臨界温度条件を通して、公称上、０.８７℃／時間の速度で冷却されることを例証している。図３の番号１０で表すガラスを生産するために用いられるアニーリングの工程条件は、次の通りである：
（１）温度を、５０℃／時間の速度で２５℃から９９０℃まで上昇させる；
（２）その温度を９９０℃で１００時間保持する；
（３）１００時間保持後、その温度を、０.８７／時間の速度で９９０℃から８５０℃まで低下させる；
（４）その温度を、２５℃／時間の速度で８５０℃から２５℃まで低下させる。
【００１７】
図３において、番号１２〜１４は、表１にまとめた、アニーリング条件を表し、これを、前述の条件にしたがってアニーリングしたガラス１０と比較する。標準的な条件では、開始から終了までの総アニーリング時間は、２２０〜２５０時間の近似の範囲である。
【表２】
【００１８】
本開示は、結果的に、光透過性が改善されたガラスも生じる。Carson and Mauer, “Optical Attenuation in Titania−Silica Glasses,” J. Non−Crystalline Solids, Vol. 11 (1973), pages 368-380は、光吸収体として［Ｔｉ3+］を特定し、光透過性を改善する手段として、さらに［Ｔｉ3+］のＨ2除去を特定している。Ｈ2の除去工程は、拡散工程である。本開示は、アニーリングが、任意の起源（例えば、アニーリング雰囲気における水蒸気など）に由来する低い水素含量（Ｈ2として）を有する雰囲気下で行われる場合、より長いアニーリング時間は透過性の改善に有益であることを例証している。１つの実施の形態では、Ｈ2含有量は１０％未満である。別の実施の形態では、Ｈ2含有量は１％未満である。別の実施の形態では、Ｈ2含有量は０．０１％未満である。例えば、図４は、３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において約５％のガラスの内部透過性の改善を示し、ここで、［Ｈ2］は、１％未満のＨ2Ｏを含む乾燥窒素流雰囲気下、ガラスを９５０℃で４００時間熱処理することによって、５．６×１０17分子／ｃｍ3から０．１×１０17分子／ｃｍ3未満に低減した。この特定のガラスのアニーリング条件は以下の通りであった：
（１）温度を、５０℃／時間の速度で２５℃から９５０℃まで上昇させる；
（２）その温度を９５０℃で４００時間、窒素流下で保持する；
（３）４００時間保持後、その温度を、３℃／時間の速度で９５０℃から８５０℃まで低下させる；
（４）その温度を、２５℃／時間の速度で８５０℃から２５℃まで低下させる。
【００１９】
正確な保持時間は、アニーリングされているガラス片の大きさに依存する。上記条件を、約１５０ｃｍの直径および約２０ｃｍの厚さを有する大きいガラスブールについて使用した。例えば、直径１６ｃｍ厚さ４ｃｍの物品をなど、より小さいガラス物品では、アニーリング保持時間を１００時間以下に低減することができる。このガラスの仮想温度ＴFは、前述の段落に記載する方法に従って調節することができる。
【００２０】
図５は、異なる仮想温度（ＴF）を有するガラスの膨張性の２０℃における勾配のグラフである。図５に示すデータは、勾配とガラスのＴFの間に本質的な直線関係を示す。加えて、データは、ＴFが低下するにつれて膨張性が改善されることを明確に示唆しており、改善が、実際にほぼ直線を示すことを示唆している。その結果、勾配または改善の程度は、例えば、本明細書に開示されるより遅いアニーリング速度など、どのようなＴFが得られたかにかかわらず、ガラスの仮想温度によって予想できる。さらなるＯＨ種のガラスへの添加、またはＦなどの他のドーパントの内包物もまた、ＴFを変化させ、したがって膨張性も変化させうる。
【００２１】
上記論述は、一定速度のアニーリング・サイクルにおける冷却速度の変化によって所望のＴFを達成するという観点から構成されているが、本開示は、異なるタイプのアニーリング・サイクルを用いて処理したガラスにも同様に適用される。例えば、所望のＴFを短時間で達成する目的で、変速サイクルを使用して差し支えない。加えて、アニーリング・サイクルのある時点で等温保持を使用することも望ましい場合がある。等温保持は、ガラスのＯＨ含有量などの要因の影響を受けうることから、ＴFのさらに均一な分布を得るため、および、ガラスの構造緩和動力学の変化に対するＴFの一貫性を確実にするため、アニーリング・サイクルの終わりの方で行うことが好ましいであろう。アニーリング・スケジュールは、最終的な等温保持を含める（または等温保持からなる）ことができ、これは、シリカ・チタニアガラスの膨張特性を予想通りに調整することを目的として、さらに容易に成し遂げることができることから、製造業の観点から有利でありうる。
【００２２】
図６は、シリカ−チタニア・スートを製造し、堆積し、容器内で固化するための装置を例証しており、ここで、破線矢印１１０は、本開示に従った、水蒸気を含む気体雰囲気の導入を示している。この装置を使用して、スートは、（ａ）１つの工程において収集および固化される（直接法）か、または（ｂ）第１の工程で収集し、第２の工程で固化されうる。図６に例証する装置は、一般に、０.２メートル〜２メートルまたはそれより大きい直径、および１０〜３０ｃｍの厚さを有するブールを形成するために用いられる。直接法の一例として、シリカ前駆体４８の起源４６およびチタニア前駆体６０の起源５８が提供される。シリカ前駆体４８およびチタニア前駆体６０は、典型的には、シロキサン、アルコキシド、および四塩化物である。特に一般に用いられるシリカ前駆体の１つにＯＭＣＴＳがある。特に一般に用いられるチタニア前駆体の１つにＴｉ(ＯＰｒｉ)4がある。起源４６、５８は、噴霧器、蒸発槽、または前駆体４８、６０を蒸気の状態に転換するのに適した他の装置であって差し支えない。窒素などの搬送ガス５０は、起源４６の基部またはその近くに導入される。搬送ガス５０は、シリカ前駆体４８の蒸気を同伴し、分配システム５４を通過して混合マニホルド５６に達する。搬送ガスのバイパス流は、蒸気質のシリカ前駆体流れの飽和を回避するために５２において導入される。例えば窒素などの不活性ガス６２の流れは、蒸気の飽和を回避するために、蒸気質のチタニア前駆体と接触した状態にすることができる。例えば窒素などの不活性の搬送ガス６４は、チタニア前駆体６０の蒸気を同伴し、分配システム６６を通じて混合マニホルド５６まで蒸気を運び、ここで、それらはシリカ前駆体４８の蒸気と混合される。あるいは、チタニア前駆体６０およびシリカ前駆体４８は、液体の状態で混合マニホルド５６に送達されてもよい。混合マニホルド５６における混合物は、加熱されたヒュームライン６８を通過して、炉クラウン７２上に取り付けられたバーナー７０に達する。この図では、２つのバーナー７０が示されている。しかしながら、３つ以上のバーナーを使用して、より良好な熱制御および、堆積空洞７４全体にわたる材料の分布を可能にすることもできる。加熱炉７６は、回転および振動能力を有していて差し支えなく、クラウン７２を支持する静止壁７８を含みうる。格納容器８０は、静止壁７８内に配置される。格納容器８０は、回転のために支持され、振動台８４への取り付けを通じて振動する、基部８２を備える。格納容器８０は、振動台８４上に取り付けられた気流壁８６に取り囲まれる。動作制御用シール８８は、静止壁７８と格納容器８０の間に形成される。堆積空洞７４は、静止壁７８の上部に形成された複数のドラフトポート９４によって通気される。ドラフトポート９４は、周囲圧力に関して堆積空洞７４内に陰圧を生じるダクトによって、適切な排気システム（図示せず）に接続される。燃料９３および酸素９５は予混合チャンバ９７内で予混合され、その後、ヒュームライン９９を通じてバーナー７０に移される。バーナー７０は燃料／酸素混合物に着火して、堆積空洞７４を加熱する炎を生じる。バーナー７０に注入された蒸気質の反応物質は、バーナー７０で反応し、火炎加水分解または熱分解を介してチタニアがドープされたシリカ粒子を形成し、そこから出る。スートは下方に向かい、１０２に示す平面１００上に堆積する。平面１００は、格納容器８０のライナー１０４を清潔なカレット１０６で満たすことによって提供されうるが、ガラス板などの平面を提供する他の手段も使用して差し支えない。スートが堆積するにつれて、シリカの均質性の指数を改善するために、格納容器８０、したがって平面１００も基部８２を通じて回転させ、振動させる。スート堆積の間、加熱炉７６は、周囲空気でドラフトされる。堆積空洞７４の温度はモニタされ、格納容器８０の垂直位置を調整することによって、所望の処理温度で保持される。直接法では、温度は、シリカ−チタニア粒子が形成され、実質的に同時にガラスへと固化するように、固化温度で維持される。このような時間は、一般に３秒未満、典型的には２秒未満である。本開示に従い、ガラスにおける高い［ＯＨ］濃度が望ましい場合、水蒸気の分圧は、破線矢印１１０によって例証される図６の加熱炉の一部の上部に、選択量の水蒸気を含む気体を注入することによって装置内で維持することができる。ガラスは、固化された後、本明細書に記載のアニーリング・サイクルに従って同一の加熱炉内でアニーリングすることができ、あるいは、ガラスを、加熱炉から取り出し、その後にアニーリングすることもできる。
【００２３】
典型的な実施の形態について、例証の目的で記載してきたが、上述の説明は、本開示の範囲を限定すると見なされるべきではない。したがって、本開示の精神および範囲から逸脱することなく、さまざまな変更、適合、および代替が、当業者によって想起されよう。
【技術分野】
【０００１】
本開示は、透過性が改善された、チタニアをドープしたシリカガラスおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
低熱膨張性のチタニアをドープした溶融シリカガラス（以後、シリカ・チタニアガラス）は、茶色がかった外観を有することが頻繁にあり（Ｔｉ+3の存在に起因）、透過性の高さとしては知られていない。しかしながら、Ｉｍｐｒｉｎｔ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙなどの用途の透過性が改善された、低熱膨張性のシリカ・チタニアガラスが依然として必要とされている。
【０００３】
例えば「ＵＬＥ」ガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ社製）などの膨張性が低いシリカ・チタニアガラスは、調整することができる低熱膨張挙動を有するが、熱膨張挙動は、温度に伴って、特定の製品および用途にとって望ましくない値にまで変化してしまう。例えば、ＥＵＶＬ（極紫外線リソグラフィ）反射光学系およびマスクは、使用の間に、最小限の歪みしか生じないことが望ましく、温度は、典型的には、２０℃〜８０℃またはそれ以上の範囲である。ＥＵＶＬマスクおよび光学系に用いられるガラスの膨張曲線がより平らになれば、マスクおよびレンズ素子における使用中の歪みが少なくなるであろう。ＥＵＶＬ系の設計者には、生産工程の間に加熱される際に、リソグラフィ系を特定の性能レベルで保持するために、熱変形を注意深く予算に計上することが要求される。本開示は、改善された膨張性（平らな膨張曲線）を有し、改善された透過特性も有するシリカ・チタニアガラスを特定する。このガラスは、システム設計者にとって、より高いスループット、より良好なオーバーレイおよび解像度を有するＥＵＶＬ系の製造を可能にする。
【０００４】
現在、大きいシリカ・チタニアガラスのブールの製造方法は、結果的に、ブール全体のＣＴＥの変動が３〜１０ｐｐｂ／°Ｋのガラスを生じさせる。加えて、このようなガラスのＣＴＥの絶対値は、わずか±３〜５ｐｐｂ／°Ｋに制御することができる。結果として、ブールのさまざまな部分から採取したガラスは、ある程度のＣＴＥ変動を有しうる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とＣＴＥの絶対値の調整の両方を同時に生じる、ＣＴＥの絶対値を調整する手段を開示する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、３４０ｍｍ〜８４０ｍｍの全範囲にわたり、＞９０％／ｃｍの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、内部透過性は、３４０ｍｍ〜８４０ｍｍの全範囲にわたり、＞９３％／ｃｍである。さらなる実施の形態では、内部透過性は、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長の全範囲にわたり、＞９５％／ｃｍである。
【０００７】
別の実施の形態では、本開示は、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が＞８４％であるシリカ・チタニアガラスを対象とする。１つの実施の形態では、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性は、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において８６％より大きい。さらなる実施の形態では、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性は、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８８％より大きい。
【０００８】
別の実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベル［Ｔｉ3+］を有する。
【０００９】
追加の実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、２×１０17分子／ｃｍ3未満の水素濃度レベル［Ｈ2］を有する。別の実施の形態では、水素濃度レベル［Ｈ2］は２×１０16分子／ｃｍ3未満である。さらなる実施の形態では、水素濃度レベル［Ｈ2］は２×１０15分子／ｃｍ3未満である。
【００１０】
本開示は、透過性を改善し、ＣＴＥを所望のレベルまで調整し、ガラスの熱膨張性を調整するため、空気中、３００℃〜１２００℃の温度で、不活性ガスまたは他のＨ2を含有しない環境で１日〜１００日間、溶融シリカ・チタニアガラスを熱処理（アニーリング）する方法を対象とする。本明細書に記載するように、アニーリングは、空気、酸素、Ｎ2、またはアルゴン、またはそれらの混合物からなる群より選択される環境下で行い、透過特性、本明細書に記載の［Ｈ2］および／または［Ｔｉ3+］レベルを有するシリカ・チタニアガラスの生産に用いられる。
【００１１】
本明細書に記載のシリカ・チタニアガラスは、放射によって生じる透過性の損失および寸法変化に対し耐久性である。ガラスは、６００重量ｐｐｍより大きい［ＯＨ］、本明細書に記載の低い［Ｈ2］レベル、本明細書に記載の低い［Ｔｉ3+］レベル、および高い内部透過性の値と共に、９００℃未満の仮想温度（ＴF）を有する。１つの実施の形態では、６００ｐｐｍより大きい［ＯＨ］、本明細書に記載の低い［Ｈ2］レベル、本明細書に記載の低い［Ｔｉ3+］レベル、および高い内部透過性の値と共に、８９０℃未満のＴFを有する。別の実施の形態では、６００ｐｐｍより大きい［ＯＨ］、本明細書に記載の低い［Ｈ2］レベル、本明細書に記載の低い［Ｔｉ3+］レベル、および高い内部透過性の値と共に、８８０℃未満のＴFを有する。これらの特性を有するシリカ・チタニアガラスは、７重量％〜１０重量％のチタニア含有量ＴｉＯ2を有する。１つの実施の形態では、チタニア含有量ＴｉＯ2は、７．５重量％〜８.５重量％の範囲である。シリカ・チタニアガラスは、低レベルの粗さを有するインプリントマスクの作製を可能にする、浅い溝を有する。１つの実施の形態では、本開示のシリカ・チタニアガラスは、１．５ｐｐｂ／°Ｋ2未満の２０℃における膨張率勾配を有する。さらなる実施の形態では、２０℃における膨張率勾配は１．４ｐｐｂ／°Ｋ2未満である。別の実施の形態では、２０℃における膨張率勾配は１．２ｐｐｂ／°Ｋ2未満である。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】ＴｉＯ2濃度が公称上７．６重量％であり、膨張率が焼きなましサイクルを介してガラスの構造を変化させることによって調整された、シリカ・チタニアガラスの温度に対する膨張率のグラフ；膨張率の曲線は図３に例証されるＣＴＥのシフト量によって垂直にシフトしている。
【図２】シリカ・チタニアガラスのゼロ・クロスオーバー温度Ｔzcを、ガラスの仮想温度ＴFを変化させることによって、シフトさせることができることを例証するグラフ。
【図３】異なるアニーリング手順では、アニーリングし、０.８７℃／時間の速度で冷却した、公称上７．６重量％のＴｉＯ2を有するチタニアをドープした溶融シリカガラスのＴzcが変化するであろうことを例証するグラフ。
【図４】熱処理の影響および公称７．３重量％シリカ・チタニアガラスのサンプルにおける内部透過性の改善を示すグラフ。
【図５】ＴFがほぼ直線的に低下するにつれて、勾配がいかに改善されるかを示す、膨張性プロットの２０℃における勾配に対するＴFの影響を例証するグラフ。
【図６】直接法によってシリカ・チタニアガラスを製造するための装置。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本開示では、シリカ・チタニアガラスの構造、例えば、限定はしないが、「ＵＬＥ」ガラスは、ガラスのアニーリング・サイクルを変えることによって変化させることができることが見出された。シリカ・チタニアガラスのアニーリング・スケジュールの変更が、シリカ・チタニアガラスの仮想温度（ＴF）を著しく変化させる結果を生じうることが分かった。本開示は、より遅いアニーリング・サイクルがシリカ・チタニアガラスの膨張性を改善する手段であることを特定し、加えて、目標値に見合うようにガラスのＣＴＥを調整する手段としても特定する。米国特許出願公開第２００６／０１７９８７９号明細書は、チタニアをドープしたシリカガラスにおける膨張性の調整方法として、ドーピングおよびアニーリングを開示するが、本開示は、米国特許出願公開第２００６／０１７９８７９号明細書を凌ぎ、改善された膨張性、改善された透過性、ガラス中の少ない［Ｔｉ3+］イオン、および５℃未満までの制御可能なＣＴＥクロスオーバーなど、多くの改善を有するガラス；および、これらの改善を達成する方法を特定する。
【００１４】
図１は、アニーリング・サイクルを調整することによってＴF値を調整したガラスを示している。図１は、公称上７．６重量％のＴｉＯ2の所定のガラス組成物について、温度に伴う膨張性の変化を比較している。プロットは、得られたそれぞれ異なるＴFについての勾配の変化を比較するために用いられる。クロスオーバー温度Ｔzc（膨張率が０ｐｐｍ／℃における温度）をこの図について２０℃に調整した。図１は、以前の標準的なシリカ・チタニアガラス（番号５４で表示）に対して膨張性の改善を実証しており、改善について表１にまとめた。
【表１】
【００１５】
膨張率のパーセント改善は、ガラスに生じる温度変化に依存している。標準的なアニーリング１０を用いてアニーリングしたＵＬＥガラス対照と比較して、所定のＴFについて、０〜３６％の改善が確認されている。表１および図１に示した結果に基づいて、ＴFがさらに低下するにつれて、膨張性におけるさらなる改善が予想できる。しかしながら、難点は、より低いＴFでは、ますます長いアニーリング時間を必要とすることである。図１に例証するガラスの膨張曲線は、図３に示すＣＴＥ量によって垂直にシフトし、ここで、番号１０は本明細書に記載の標準的なアニーリング・サイクルを表し；番号１１、１３および１５は、本明細書に記載される、より長いアニーリング時間を表し、番号１２、１４および１６は、より短いアニーリング時間を表している。したがって、図１の番号５８は、標準的なサイクルより長い時間でアニーリングしたガラスを表し、番号５０は、標準的なアニーリング・サイクルより短い時間でアニーリングしたガラスを表している。
【００１６】
２０１０年８月１６日出願の米国特許出願第１２／８５６７２８号明細書は、例えば、限定はしないがＵＬＥガラスなどのシリカ・チタニアガラスにおけるＣＴＥゼロ・クロスオーバー温度を得ることができる方法について開示しており、その方法は、さらに、調節可能なゼロ・クロスオーバー温度を有するガラスを特定している。本明細書の図２は、ＴFの所定のシフトについてのＣＴＥのシフト間の正確な関係を例証している。アニーリング・スケジュールを変化させることによって、ＴFのシフトの大きい同調が可能になる。例えば、本明細書の図３は、あるガラスに対するガラス（１０）のＣＴＥを±５ｐｐｂ／℃変化させるために、本明細書に記載のアニーリング・スケジュールをいかに調節したか、および、それによって、およそ９９０℃〜８５０℃の臨界温度条件を通して、公称上、０.８７℃／時間の速度で冷却されることを例証している。図３の番号１０で表すガラスを生産するために用いられるアニーリングの工程条件は、次の通りである：
（１）温度を、５０℃／時間の速度で２５℃から９９０℃まで上昇させる；
（２）その温度を９９０℃で１００時間保持する；
（３）１００時間保持後、その温度を、０.８７／時間の速度で９９０℃から８５０℃まで低下させる；
（４）その温度を、２５℃／時間の速度で８５０℃から２５℃まで低下させる。
【００１７】
図３において、番号１２〜１４は、表１にまとめた、アニーリング条件を表し、これを、前述の条件にしたがってアニーリングしたガラス１０と比較する。標準的な条件では、開始から終了までの総アニーリング時間は、２２０〜２５０時間の近似の範囲である。
【表２】
【００１８】
本開示は、結果的に、光透過性が改善されたガラスも生じる。Carson and Mauer, “Optical Attenuation in Titania−Silica Glasses,” J. Non−Crystalline Solids, Vol. 11 (1973), pages 368-380は、光吸収体として［Ｔｉ3+］を特定し、光透過性を改善する手段として、さらに［Ｔｉ3+］のＨ2除去を特定している。Ｈ2の除去工程は、拡散工程である。本開示は、アニーリングが、任意の起源（例えば、アニーリング雰囲気における水蒸気など）に由来する低い水素含量（Ｈ2として）を有する雰囲気下で行われる場合、より長いアニーリング時間は透過性の改善に有益であることを例証している。１つの実施の形態では、Ｈ2含有量は１０％未満である。別の実施の形態では、Ｈ2含有量は１％未満である。別の実施の形態では、Ｈ2含有量は０．０１％未満である。例えば、図４は、３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において約５％のガラスの内部透過性の改善を示し、ここで、［Ｈ2］は、１％未満のＨ2Ｏを含む乾燥窒素流雰囲気下、ガラスを９５０℃で４００時間熱処理することによって、５．６×１０17分子／ｃｍ3から０．１×１０17分子／ｃｍ3未満に低減した。この特定のガラスのアニーリング条件は以下の通りであった：
（１）温度を、５０℃／時間の速度で２５℃から９５０℃まで上昇させる；
（２）その温度を９５０℃で４００時間、窒素流下で保持する；
（３）４００時間保持後、その温度を、３℃／時間の速度で９５０℃から８５０℃まで低下させる；
（４）その温度を、２５℃／時間の速度で８５０℃から２５℃まで低下させる。
【００１９】
正確な保持時間は、アニーリングされているガラス片の大きさに依存する。上記条件を、約１５０ｃｍの直径および約２０ｃｍの厚さを有する大きいガラスブールについて使用した。例えば、直径１６ｃｍ厚さ４ｃｍの物品をなど、より小さいガラス物品では、アニーリング保持時間を１００時間以下に低減することができる。このガラスの仮想温度ＴFは、前述の段落に記載する方法に従って調節することができる。
【００２０】
図５は、異なる仮想温度（ＴF）を有するガラスの膨張性の２０℃における勾配のグラフである。図５に示すデータは、勾配とガラスのＴFの間に本質的な直線関係を示す。加えて、データは、ＴFが低下するにつれて膨張性が改善されることを明確に示唆しており、改善が、実際にほぼ直線を示すことを示唆している。その結果、勾配または改善の程度は、例えば、本明細書に開示されるより遅いアニーリング速度など、どのようなＴFが得られたかにかかわらず、ガラスの仮想温度によって予想できる。さらなるＯＨ種のガラスへの添加、またはＦなどの他のドーパントの内包物もまた、ＴFを変化させ、したがって膨張性も変化させうる。
【００２１】
上記論述は、一定速度のアニーリング・サイクルにおける冷却速度の変化によって所望のＴFを達成するという観点から構成されているが、本開示は、異なるタイプのアニーリング・サイクルを用いて処理したガラスにも同様に適用される。例えば、所望のＴFを短時間で達成する目的で、変速サイクルを使用して差し支えない。加えて、アニーリング・サイクルのある時点で等温保持を使用することも望ましい場合がある。等温保持は、ガラスのＯＨ含有量などの要因の影響を受けうることから、ＴFのさらに均一な分布を得るため、および、ガラスの構造緩和動力学の変化に対するＴFの一貫性を確実にするため、アニーリング・サイクルの終わりの方で行うことが好ましいであろう。アニーリング・スケジュールは、最終的な等温保持を含める（または等温保持からなる）ことができ、これは、シリカ・チタニアガラスの膨張特性を予想通りに調整することを目的として、さらに容易に成し遂げることができることから、製造業の観点から有利でありうる。
【００２２】
図６は、シリカ−チタニア・スートを製造し、堆積し、容器内で固化するための装置を例証しており、ここで、破線矢印１１０は、本開示に従った、水蒸気を含む気体雰囲気の導入を示している。この装置を使用して、スートは、（ａ）１つの工程において収集および固化される（直接法）か、または（ｂ）第１の工程で収集し、第２の工程で固化されうる。図６に例証する装置は、一般に、０.２メートル〜２メートルまたはそれより大きい直径、および１０〜３０ｃｍの厚さを有するブールを形成するために用いられる。直接法の一例として、シリカ前駆体４８の起源４６およびチタニア前駆体６０の起源５８が提供される。シリカ前駆体４８およびチタニア前駆体６０は、典型的には、シロキサン、アルコキシド、および四塩化物である。特に一般に用いられるシリカ前駆体の１つにＯＭＣＴＳがある。特に一般に用いられるチタニア前駆体の１つにＴｉ(ＯＰｒｉ)4がある。起源４６、５８は、噴霧器、蒸発槽、または前駆体４８、６０を蒸気の状態に転換するのに適した他の装置であって差し支えない。窒素などの搬送ガス５０は、起源４６の基部またはその近くに導入される。搬送ガス５０は、シリカ前駆体４８の蒸気を同伴し、分配システム５４を通過して混合マニホルド５６に達する。搬送ガスのバイパス流は、蒸気質のシリカ前駆体流れの飽和を回避するために５２において導入される。例えば窒素などの不活性ガス６２の流れは、蒸気の飽和を回避するために、蒸気質のチタニア前駆体と接触した状態にすることができる。例えば窒素などの不活性の搬送ガス６４は、チタニア前駆体６０の蒸気を同伴し、分配システム６６を通じて混合マニホルド５６まで蒸気を運び、ここで、それらはシリカ前駆体４８の蒸気と混合される。あるいは、チタニア前駆体６０およびシリカ前駆体４８は、液体の状態で混合マニホルド５６に送達されてもよい。混合マニホルド５６における混合物は、加熱されたヒュームライン６８を通過して、炉クラウン７２上に取り付けられたバーナー７０に達する。この図では、２つのバーナー７０が示されている。しかしながら、３つ以上のバーナーを使用して、より良好な熱制御および、堆積空洞７４全体にわたる材料の分布を可能にすることもできる。加熱炉７６は、回転および振動能力を有していて差し支えなく、クラウン７２を支持する静止壁７８を含みうる。格納容器８０は、静止壁７８内に配置される。格納容器８０は、回転のために支持され、振動台８４への取り付けを通じて振動する、基部８２を備える。格納容器８０は、振動台８４上に取り付けられた気流壁８６に取り囲まれる。動作制御用シール８８は、静止壁７８と格納容器８０の間に形成される。堆積空洞７４は、静止壁７８の上部に形成された複数のドラフトポート９４によって通気される。ドラフトポート９４は、周囲圧力に関して堆積空洞７４内に陰圧を生じるダクトによって、適切な排気システム（図示せず）に接続される。燃料９３および酸素９５は予混合チャンバ９７内で予混合され、その後、ヒュームライン９９を通じてバーナー７０に移される。バーナー７０は燃料／酸素混合物に着火して、堆積空洞７４を加熱する炎を生じる。バーナー７０に注入された蒸気質の反応物質は、バーナー７０で反応し、火炎加水分解または熱分解を介してチタニアがドープされたシリカ粒子を形成し、そこから出る。スートは下方に向かい、１０２に示す平面１００上に堆積する。平面１００は、格納容器８０のライナー１０４を清潔なカレット１０６で満たすことによって提供されうるが、ガラス板などの平面を提供する他の手段も使用して差し支えない。スートが堆積するにつれて、シリカの均質性の指数を改善するために、格納容器８０、したがって平面１００も基部８２を通じて回転させ、振動させる。スート堆積の間、加熱炉７６は、周囲空気でドラフトされる。堆積空洞７４の温度はモニタされ、格納容器８０の垂直位置を調整することによって、所望の処理温度で保持される。直接法では、温度は、シリカ−チタニア粒子が形成され、実質的に同時にガラスへと固化するように、固化温度で維持される。このような時間は、一般に３秒未満、典型的には２秒未満である。本開示に従い、ガラスにおける高い［ＯＨ］濃度が望ましい場合、水蒸気の分圧は、破線矢印１１０によって例証される図６の加熱炉の一部の上部に、選択量の水蒸気を含む気体を注入することによって装置内で維持することができる。ガラスは、固化された後、本明細書に記載のアニーリング・サイクルに従って同一の加熱炉内でアニーリングすることができ、あるいは、ガラスを、加熱炉から取り出し、その後にアニーリングすることもできる。
【００２３】
典型的な実施の形態について、例証の目的で記載してきたが、上述の説明は、本開示の範囲を限定すると見なされるべきではない。したがって、本開示の精神および範囲から逸脱することなく、さまざまな変更、適合、および代替が、当業者によって想起されよう。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
７〜１０重量％のチタニアおよび９０〜９３重量％のシリカからなるシリカ・チタニアガラスであって、
前記ガラスが、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲における９０％を超える内部透過性、６００重量ｐｐｍを超える［ＯＨ］と共に、９００℃未満の仮想温度を有し、
前記ガラスが２×１０17未満の水素分子／ｃｍ3を有する、
シリカ・チタニアガラス。
【請求項２】
前記ガラスが、６〜８重量％のチタニアおよび９２〜９４重量％のシリカからなることを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項３】
前記ガラスが、２０℃における１．５ｐｐｂ／°Ｋ2未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項４】
前記ガラスが、２０℃における１．５ｐｐｂ／°Ｋ2未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項５】
前記ガラスが、２０℃における１．２ｐｐｂ／°Ｋ2未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項６】
前記ガラスが、２０℃における１．２ｐｐｂ／°Ｋ２未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項７】
前記シリカ・チタニアガラスが、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベル［Ｔｉ3+］を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項８】
前記シリカ・チタニアガラスが、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベル［Ｔｉ3+］を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項９】
前記ガラスが、３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において９５％よりも大きい内部透過率を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１０】
前記ガラスが、３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において９５％よりも大きい内部透過率を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１１】
前記ガラスが、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８４％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１２】
前記ガラスが、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８８％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１３】
前記ガラスが、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８６％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１４】
前記ガラスが、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８８％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１５】
前記ガラスが、６００重量ｐｐｍより大きい［ＯＨ］と組み合わせて、８９０℃未満の仮想温度を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１６】
前記ガラスが、６００重量ｐｐｍより大きい［ＯＨ］と組み合わせて、８８０℃未満の仮想温度を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１】
７〜１０重量％のチタニアおよび９０〜９３重量％のシリカからなるシリカ・チタニアガラスであって、
前記ガラスが、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲における９０％を超える内部透過性、６００重量ｐｐｍを超える［ＯＨ］と共に、９００℃未満の仮想温度を有し、
前記ガラスが２×１０17未満の水素分子／ｃｍ3を有する、
シリカ・チタニアガラス。
【請求項２】
前記ガラスが、６〜８重量％のチタニアおよび９２〜９４重量％のシリカからなることを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項３】
前記ガラスが、２０℃における１．５ｐｐｂ／°Ｋ2未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項４】
前記ガラスが、２０℃における１．５ｐｐｂ／°Ｋ2未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項５】
前記ガラスが、２０℃における１．２ｐｐｂ／°Ｋ2未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項６】
前記ガラスが、２０℃における１．２ｐｐｂ／°Ｋ２未満の膨張率勾配を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項７】
前記シリカ・チタニアガラスが、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベル［Ｔｉ3+］を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項８】
前記シリカ・チタニアガラスが、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ+3濃度レベル［Ｔｉ3+］を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項９】
前記ガラスが、３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において９５％よりも大きい内部透過率を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１０】
前記ガラスが、３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において９５％よりも大きい内部透過率を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１１】
前記ガラスが、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８４％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１２】
前記ガラスが、３１０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８８％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項１記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１３】
前記ガラスが、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８６％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１４】
前記ガラスが、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長範囲において、８８％よりも高い光学系部材の全般的な透過性を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１５】
前記ガラスが、６００重量ｐｐｍより大きい［ＯＨ］と組み合わせて、８９０℃未満の仮想温度を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【請求項１６】
前記ガラスが、６００重量ｐｐｍより大きい［ＯＨ］と組み合わせて、８８０℃未満の仮想温度を有することを特徴とする請求項２記載のシリカ・チタニアガラス。
【図１】
【図４】
【図６】
【図２】
【図３】
【図５】
【図４】
【図６】
【図２】
【図３】
【図５】
【公開番号】特開２０１２−４６４０７（Ｐ２０１２−４６４０７Ａ）
【公開日】平成２４年３月８日（２０１２．３．８）
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願２０１１−３９７６９（Ｐ２０１１−３９７６９）
【出願日】平成２３年２月２５日（２０１１．２．２５）
【出願人】（３９７０６８２７４）コーニング インコーポレイテッド (1,222)
【復代理人】
【識別番号】１００１１６５４０
【弁理士】
【氏名又は名称】河野 香
【復代理人】
【識別番号】１００１３９７２３
【弁理士】
【氏名又は名称】樋口 洋
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月８日（２０１２．３．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−３９７６９（Ｐ２０１１−３９７６９）
【出願日】平成２３年２月２５日（２０１１．２．２５）
【出願人】（３９７０６８２７４）コーニング インコーポレイテッド (1,222)
【復代理人】
【識別番号】１００１１６５４０
【弁理士】
【氏名又は名称】河野 香
【復代理人】
【識別番号】１００１３９７２３
【弁理士】
【氏名又は名称】樋口 洋
【Ｆターム（参考）】
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