【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の紫外域での透過性に優れた紫外域透過ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２ １０％〜４０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０％〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２％〜７．０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜８％、Ｋ_２Ｏ ０〜８．０％（但し、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＝０％〜１０％）、ＣａＯ ０％〜４０％、ＢａＯ ０％〜４０％、ＺｎＯ ０〜１０％（但し、ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＭｇＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ＝１％〜４０％）、Ｙ_２Ｏ_３ ０％〜１７％、 ＺｒＯ_２ ０％〜１８．０％（但し、Ｙ_２Ｏ_３又はＺｒＯ_２の一方以上を含む）、Ｓｂ_２Ｏ_３ ０％〜０．５％を含有し、微細結晶を析出させることで、肉厚２．０ｍｍの試料における２５０ｎｍの透過率を６０％以上とした。 （もっと読む）

【課題】高効率、コンパクトで、均一な光分布を有する紫外線殺菌装置を提供する。
【解決手段】被処理気体および／または液体の流通する中空の内部空間４０、管内壁７０と管外壁６０を備える石英ガラスおよびホウケイ酸ガラスから選択される紫外線透過性のガラス管１０、リフレクタ３０、および少なくとも１つの紫外光源２０により紫外線殺菌装置を構成し、紫外線透過性ガラス管の少なくとも１つの個所に内部空間への湾入部２５を作成し、該湾曲部に紫外光源を配置する。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、ＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下であり、塩素の含有量が３０ｐｐｍ以下で、厚さ２ｍｍの波長１９０ｎｍでの透過率が５０％以下であり、１２８０℃での粘度（Ｌｏｇη）が１２．０poise以上であり、低圧水銀ランプの２５４ｎｍの紫外線を照射した場合に４００ｎｍ〜６５０ｎｍの可視光領域に０．０１秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】
焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とＣＴＥの絶対値の調整の両方を同時に生じる、ＣＴＥの絶対値を調整する手段。
【解決手段】
１つの実施の形態では、本開示は、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９０％／ｃｍ、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９３％／ｃｍ、または、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９５％／ｃｍの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、本開示は、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８４％、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８６％、または３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８８％である、シリカ・チタニアガラスを対象とする。さらなる実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ⁺³濃度レベルを有する。 （もっと読む）

【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル（Ａ）に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル（Ｂ）に供給し、さらにノズル（Ａ）、（Ｂ）とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル（Ａ）以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの５０％以上９０％以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。
【解決手段】表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角の外周から表面外周縁へ向かって傾斜している６インチ角の合成ガラス基板であって、表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角の平坦度が５０ｎｍ以下、表面中央１４８ｍｍ×１４８ｍｍ角内であって表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角部分を除いた額縁部分の平坦度が１５０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 高出力の紫外光線や３００〜４００ｎｍ領域のレーザ光線の照射により生じる屈折率変化を抑制した、耐光線性の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラスに、波長＝３５１ｎｍのパルスレーザー光（平均出力（Average Output Power）＝０．４３Ｗ，パルス繰り返し数（Pulse Repetition Rate）＝５ｋＨｚ，パルス幅（Pulse Width）＝４００ｎｓ）を１時間照射した後の屈折率の変化量（Δｎ：照射前後の屈折率の差）が５ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である合成シリカガラス体５０の歪除去及び純化を行う熱処理方法であって、前記被処理物の外表面の全てをＡｌ濃度１０ｐｐｍ〜３０ｐｐｍ、且つＮａ濃度５０ｐｐｂ未満のＳｉＯ_２質粉体２０によって接触状態で被覆し、９００℃〜１３００℃の温度範囲で３０分〜８００時間の熱処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ実施時において、光学部材全体の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＥＵＶＬ光学部材用基材の提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスからなり、対向する２つの面における、線熱膨張係数（ＣＴＥ）が０ｐｐｂ／℃となる温度（クロスオーバー温度：Ｃｒｏｓｓ−ｏｖｅｒ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ＣＯＴ）の差が５℃以上である、ＥＵＶリソグラフィ光学部材用基材。 （もっと読む）

【課題】ドーパント濃度分布が小さい金属ドーパント含有多孔質石英ガラス体の製造方法の提供。
【解決手段】複数のガス供給ノズルが同心円状に配置された多重管バーナーの中央ノズルから、金属ドーパント前駆体、および、ＳｉＯ₂前駆体と、を供給し、該多重管バーナーの酸水素火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質石英ガラス体を製造する方法であって、前記多重管バーナーは、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置における火炎温度の最高点Ｔ₁（℃）が該多重管バーナーの中心軸の延長線上にはなく、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置において、該火炎温度の最高点Ｔ₁（℃）となる部位（基端）と該多重管バーナーの中心軸の延長線（先端）とを結ぶ仮想線を引いた場合に、該仮想線の先端方向の延長線上における火炎温度の最高点をＴ₂（℃）とするとき、Ｔ₁−Ｔ₂≧３０℃であり、前記基材の回転軸と、前記多重管バーナーの中心軸と、が一致しないように前記多重管バーナーを配置し、製造される多孔質石英ガラス体におけるドーパント濃度分布に応じて、前記回転軸からの前記Ｔ₁となる部位までの距離と、前記回転軸からの前記Ｔ₂となる部位までの距離と、の大小関係を調整することを特徴とする多孔質石英ガラス体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】９００℃，１００時間の熱処理によるＯＨ基濃度の減少量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】火炎加水分解により合成微粒子を回転するターゲット上に堆積すると同時に溶融ガラス化してチタニアドープ石英ガラスを製造する方法において、バーナーの中心管に供給される酸素ガスがケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスの和のモル比で５以上であること、水素ガスがバーナーの一又は複数の水素ガス供給管から噴射されるに際しての線速がそれぞれ１００ｍ／ｓｅｃ以下であること、各ガスの供給流量の変動を±１％以内に制御すると共に、炉内に吸入する空気、炉からの排気及び炉周囲の外気の各々の温度の変動を±２．５℃以内に制御して、上記ターゲットを５ｒｐｍ以上の回転数で回転させ、上記微粒子をターゲット上に付着させるようにした製造条件による。 （もっと読む）

【解決手段】硫黄をドープしたチタニアドープ石英ガラス部材。
【効果】本発明によれば、ＥＵＶリソグラフィの実用機に適したゼロ膨張となる温度を有し、広い低熱膨張温度域を有する、硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材、その製造方法、及びこの硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材からなるＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用光学部材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．７０〜１．９０であり、屈伏温度が４６０℃以下と低く、紫外域の透過性が良好であり、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、
（１）Ｂ_２Ｏ_３：７〜２８重量％、Ｂｉ_２Ｏ_３：３０〜７７重量％及びＧａ_２Ｏ_３：２１〜３５重量％、
（２）Ｒ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ又はＫ）の少なくとも１種：０．１〜２０重量％、並びに
（３）Ｒ_２Ｆ_２（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ又はＫ）の少なくとも１種：０．１〜５重量％を含有し、
屈折率が１．７０〜１．９０であり、且つ、屈伏温度が４６０℃以下である、
ことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 シリカ−チタニアガラス製のＥＵＶＬ鏡（または、他の）基材のＴｚｃを、所望の特定の範囲に調節できるようにする。
【解決手段】 ＥＵＶＬ鏡基材のＴｚｃを、基材のＴｚｃを所望のＴｚｃ値にシフトさせる選択された最終アニールを行うことによって、特定の範囲になるように調節することができる方法が記載されている。また、セットを構成する個々の鏡が、異なる値のＴｚｃに指定され得ることから、この方法は異なるＴｚｃ値を有する部品を単一のガラスブールから製造するためのガラスサンプルまたはガラス片の製造に使用することができ、これにより、注文に応えるために要求される個々のブール数を低減することができる。 （もっと読む）

一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）

【課題】光透過特性に優れ、屈折率ｎ_ｄが２．０以上で、アッベ数ν_ｄが１９以下と、高分散で高屈折率の光学恒数を有し、精密プレス成形しやすく、寸法精度の高い光学素子を製造できる光学ガラスの提供を目的とする。
【解決手段】屈折率ｎ_ｄが２．０以上、アッべ数ν_ｄが１９以下、かつ内部透過率５％（１０ｍｍ）を示す波長λ_５が４１０ｎｍ以下である、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５を必須成分とする光学ガラスであって、好ましくは、酸化物基準のｍｏｌ％で、Ｂｉ_２Ｏ_３：３２〜５５、Ｂ_２Ｏ_３：２４〜３４、ＴｅＯ_２：１０〜２０、Ｐ_２Ｏ_５：８〜１２、Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｔａ_２Ｏ_５：０．１〜４、ＴｉＯ_２：０〜１０、ＺｎＯ：０〜７、を含有する。 （もっと読む）

【課題】宇宙で異なる飛行対象の使用のための異なるガラス種のレンズを持つ空間節減の設計、および軽量画像光学部品に対して増大する屈折率を有する光学ガラスの提供。
【解決手段】重量％で次の成分：SiO2：12−45、B2O3： 0−4、Al2O3：0−4、TiO2：0−5、PbO：50−82、Na2O：0−4、K2O：0−8を含む宇宙ガラスであって、前記ガラスはCeO2, MoO3, Bi2O3, WO3, AgO, SnO2, Sb2O3およびAs2O3からなる群から選ばれる少なくとも３つのドーピング剤を含み、かつ合計でこれらのドーピング剤は前記宇宙ガラスの少なくとも0.1重量％である。前記光学ガラスは、宇宙使用に対して決定的である低総重量を有する光学部品の製造に適している。 （もっと読む）