【課題】耐熱性に優れた伝熱性部材を提供する。
【解決手段】低軟化点を有する非晶質体（Ａ）を含むバインダから少なくとも形成された基材と、前記基材中に含有された熱伝導性粒子（Ｂ）とを有する伝熱性部材。前記バインダは、有機高分子材料を実質的に含まないことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた太陽電池セル等の電子部品の高性能化と高信頼化を達成できるアルミニウム電極用導電性ペースト及びそれに含有するガラス組成物、並びにそれらにより性能と信頼性が向上した電子部品を提供する。
【解決手段】アルミニウム電極５にＶ−Ｐ−Ｂ−Ｏ系低融点ガラスを含有することによって、シリコン基板１へのアルミニウム拡散量を増加でき、一方酸素拡散量を減少できるため、電子部品を高性能化できる。また、このガラスとアルミニウムが良好なぬれ性、反応性を有するため、電極５の信頼性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を２５．０％以上５５．０％以下、Ｌｎ_２Ｏ_３成分を６．０％以上３０．０％以下（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂからなる群より選択される１種以上）、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０より多く２５．０％以下含有し、ＺｒＯ_２成分の含有量が１５．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）を満たし、νｄ＞３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）を満たす。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸（表面粗さやうねりや平坦度）及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇであって、溶融したガラスＬＧの塊を落下させる落下工程と、ゴブＧＧの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面でゴブＧＧを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、を有し、一対の型１２１，１２２の少なくとも一方は、ゴブＧＧの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を２５．０％以上５５．０％以下、Ｌｎ_２Ｏ_３成分を６．０％以上３０．０％以下（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂからなる群より選択される１種以上）、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０％超２５．０％以下含有し、ＺｒＯ_２成分の含有量が１０．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）を満たし、νｄ＞３１の範囲で（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）を満たす。 （もっと読む）

【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ＺｒＯ_２含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Ｚｒ源として、Ｐ_２Ｏ_５含有量が０．４質量％以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｐ^５＋ ２５〜３７％、Ａｌ^３＋ １６．２〜２５％、 Ｒ^＋ ０．５〜４０％（ただし、Ｒ^＋は、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、及びＫ^＋の合量を表す）、Ｒ^２＋ ０．５〜４５％（ただし、Ｒ^２＋は、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋、Ｂａ^２＋、及びＺｎ^２＋の合量を表す）、Ｃｕ^２＋ ２〜１０％、Ｓｂ^３＋ ０〜１％を含有すると共に、アニオン％表示で、Ｏ^２− ３０〜８５％、Ｆ⁻ １５〜７０％、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃およびＺｎＯを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３、アッベ数が４５〜５５、ガラス転移温度が６３０℃以下および液相温度における粘度が０．６Ｐａ・ｓ以上である光学ガラス、並びにモル％表示で、Ｂ₂Ｏ₃ ４５〜６５％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜２２％、Ｇｄ₂Ｏ₃ １〜２０％（ただし、Ｌａ₂Ｏ₃とＧｄ₂Ｏ₃の合計含有量が１４〜３０％）、ＺｎＯ ５〜３０％、ＳｉＯ₂ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜６．５％およびＳｂ₂Ｏ₃ ０〜１％を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３およびアッベ数が４５〜５５の光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃およびＺｎＯを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３、アッベ数が４５〜５５、ガラス転移温度が６３０℃以下および液相温度における粘度が０．６Ｐａ・ｓ以上である光学ガラス、並びにモル％表示で、Ｂ₂Ｏ₃ ４５〜６５％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜２２％、Ｇｄ₂Ｏ₃ １〜２０％（ただし、Ｌａ₂Ｏ₃とＧｄ₂Ｏ₃の合計含有量が１４〜３０％）、ＺｎＯ ５〜３０％、ＳｉＯ₂ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜６．５％およびＳｂ₂Ｏ₃ ０〜１％を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が１．７２〜１．８３およびアッベ数が４５〜５５の光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を６０．０％以下、及び、Ｔａ_２Ｏ_５成分を２５．０％以下含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】ケイ酸塩ガラス中のシードの濃度を低減するための清澄剤を提供する。
【解決手段】本清澄剤は、水源として作用する、水和物または水酸化物など、少なくとも１種類の無機化合物を含む。１つの実施の形態では、清澄剤は、さらに、少なくとも１種類の多価金属酸化物、および、随意的に酸化剤を含む。約１シード／ｃｍ³未満のシード濃度を有する、溶融形成かつイオン交換可能なケイ酸塩ガラスも提供する。ケイ酸塩ガラスのシード濃度を低減する方法、および約１シード／ｃｍ³未満のシード濃度を有するケイ酸塩ガラスを製造する方法についても記載する。 （もっと読む）

【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす１００μｍ以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が１０〜２００μｍのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、（徐冷点＋２００℃）〜（徐冷点＋５０℃）の温度範囲における平均冷却速度を３００〜２５００℃／分の範囲に調節することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときの熱収縮率の絶対値が５０ｐｐｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】原料の一部が未反応になる事態を防止しながら、従来よりも低温で作製可能であり、しかも封着材料等の熱膨張係数を適正に低下させ得る耐火性フィラーを創案する。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーは、主結晶（最も析出量が多い結晶）として、ウイレマイトが析出している耐火性フィラーにおいて、組成として、モル％で、ＺｎＯ ５０〜８０％、ＳｉＯ_２ １０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．１〜１０％を含有すると共に、ウイレマイト：Ａｌ系結晶の割合が、モル比で、１００：０〜９９：１であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率特性を達成しやすい、（４）可視光透過率に優れている、（５）モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、（６）耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル％で、ＳｎＯ ４３．５〜９０％、Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２ ０．１〜５６．５％を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層２が形成された無機材料基板１からなり、この銀導体層２の上に発光素子６が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層２が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層２を覆うように無機材料基板２に焼き付けて形成した厚み５〜２０μｍのオーバーコート層３を有しており、このオーバーコート層３が酸化物基準のモル％表示でＳｉＯ_２を６２〜８４％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２５％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５％、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１以上を合計で０〜５％、含有し、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が６２〜８４％、ＭｇＯを０〜１０％、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのいずれか１以上を含有する場合にその含有量の合計が５％以下のホウケイ酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のＣｓ又はＳｒ、例えば、塩化物系使用済電解質融液中に残留するＦＰであるＣｓ又はＳｒを選択的に収着することで、電解質の再生が簡便化出来る収着材料が求められている。
【解決手段】Ｆｅ_２Ｏ_３を必須成分とし、モル％で表して、Ｆｅ_２Ｏ_３が１〜５０、Ｐ_２Ｏ_５が５０〜８０、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｅＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３から選択される１種以上の合計が１〜４０のＦｅ_２Ｏ_３−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなり、塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のＣｓ又はＳｒを選択的に収着することを特徴とする収着材料。ガラス転移点が４５０℃以上である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）