【課題】２００℃以下のいわゆる常温において、ステンレス鋼等の金属の表面に塗布し、耐候性、防汚性及び難燃性に優れた金属を容易に得ることのできる常温ガラスコーティング剤を提供する。
【解決手段】酸化物化に必要な触媒としてホウ素イオン及びハロゲンイオンを含み、アルコールに溶融した加水分解可能な有機金属化合物の単一組成もしくは複合組成からなる常温ガラスコーティング剤である。該ガラスコーティング剤を金属板の表面に塗布することで２００℃以下のいわゆる常温で乾燥させることができ、かつ、耐候性、防汚性及び難燃性に優れたものとできる。 （もっと読む）

【課題】 耐失透性の優れた高屈折率低分散光学ガラスおよび該光学ガラスからなるガラス成形体と光学素子を提供する
【解決手段】 質量％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２を合計量で１２〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＷＯ_３を合計量で５５〜８０％、ＺｒＯ_２を２〜１０％、Ｎｂ_２Ｏ_５を０〜１５％、ＺｎＯを０〜１５％、Ｔａ_２Ｏ_５を０％以上１３％未満含み、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＷＯ_３の合計含有量に対するＴａ_２Ｏ_５含有量の比が０．２３以下、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の合計含有量に対するＬａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３およびＹｂ_２Ｏ_３の合計含有量の比が２〜４であり、かつ屈折率ｎｄが１．８６以上で、アッベ数νｄが３８以上である光学ガラス、および該光学ガラスからなる棒状のガラス成形体と光学素子である。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦリソグラフィ用ミラーに適した特性を有する光学部材、および、該光学部材を用いたＡｒＦリソグラフィ用ミラーの提供。
【解決手段】光学面が下記（１）〜（５）を満たし、２２℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）が０±２００ｐｐｂ／℃であるＡｒＦリソグラフィ用光学部材。
１ｍｍ≦λ（空間波長）≦１０ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （１）
１０μｍ≦λ（空間波長）≦１ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （２）
２５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦１０μｍにおけるＲＭＳが０．０５ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （３）
１００ｎｍ≦λ（空間波長）≦１μｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （４）
５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦２５０ｎｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （５） （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながらも、高価な材料の使用が低減され、且つ耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％を含有し、且つ、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が１０．０％以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあり、且つ、高価な材料の使用が低減されても耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％を含有し、酸化物換算組成の質量比Ｌａ_２Ｏ_３／（Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３）が０．６９０以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあり、且つ低いガラス転移点（Ｔｇ）を有しながらも、耐失透性が高く安価に製造することができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％を含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が２０．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を１．０〜３１．０％及びＬｎ_２Ｏ_３成分を４０．０〜６５．０％を含有し、ＴｉＯ_２成分の含有量が３０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が３０．０％以下である。レンズプリフォームは、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機ＥＬ素子パッケージを利用した有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともＳｎＯ含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、（ＳｎＯ含有ガラス粉末の平均粒径Ｄ_５０）／（耐火性フィラーの平均粒径Ｄ_５０）比が０．６〜４であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法であって、溶融したガラスの塊ＧＧを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面１２１ａ，１２２ａで前記塊ＧＧを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Ｇを加工する加工工程と、を有し、前記塊ＧＧの落下方向の速度成分について、前記一対の型１２１，１２２に対する前記塊ＧＧの相対速度を０に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊ＧＧが落下する方向に前記一対の型１２１，１２２が移動しながら、前記塊ＧＧを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 （もっと読む）

【課題】セラミックメタルハライドランプにおいて、シール部材であるガラスフリットに発生する気泡が原因となる接合部の折れやリークを抑制するセラミックメタルハライドランプ用ガラスフリットを提供すること。
【解決手段】ガラスフリットの製造工程において、１１００℃以上の温度で１０時間以上保持する炭素除去工程を設けることにより、シール工程における一酸化炭素や二酸化炭素などのガスの発生を抑え、気泡を抑制する。またガラスフリットに発生した気泡が原因となるリークの発生も抑制する。 （もっと読む）

【課題】所望の光学特性を有し、かつ、耐失透性に優れ量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．７５〜１．９５、アッベ数（νｄ）が１５〜３５のＳｉＯ_２−Ｎｂ_２Ｏ_５−ＴｉＯ_２系ガラスからなり、作業温度範囲（ΔＴ）＝（１０^０．５ポイズでの温度−液相温度）が２０℃以上であることを特徴とする光学ガラス。ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １５〜４５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ １５〜４０％（ただし、４０％を含まない）、ＴｉＯ_２ １〜３０％を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、「ＪＯＧＩＳ０９−１９７５光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、２５０以上のヌープ硬さ（Ｈｋ）を有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜５であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式ＹＺを有し、ここで、ＹはＧｅ，Ａｓ，Ｓｂまたはこれら２つ以上の混合物であり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅまたはこれら２つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Ｙは１５〜７０％の範囲にあり、Ｚは３０〜８５％の範囲にあり、ＧｅがＡｓおよびＳｂの内の一方または両方と混合された場合には、Ｇｅの量は、０＜Ｇｅ＜２５％の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、５００℃以下で１０，０００ポアズ以下の粘度を有し、１０００〜１０，０００ｓ^-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】 放射線遮蔽能力を十分に確保した上で、被検体の視認性をも十分なものとするための適切な透明性を確保できる放射線遮蔽ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％表示で、ガラス組成として、ＳｉＯ₂ １０〜３５％、ＰｂＯ ５５〜８０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％を含有し、且つ厚さ１０ｍｍについての波長４００ｎｍにおける全光線透過率が５０％以上である放射線遮蔽ガラス。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】１０^６ｄＰａ・ｓの粘度に相当する温度が６５０℃以下であり、Ｂ_２Ｏ_３が１５．５モル％以上の組成を有するＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をｐＨ３〜６の酸性溶液又はｐＨ８〜１２のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 （もっと読む）