【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点（Ｔｇ）で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
Ｂ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点（Ｔｇ）で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リヒートプレス法でも失透しない優れた熱的安定性を有し、接合レンズの作製に好適な高屈折率高分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】質量％表示にて、SiO₂を2〜37％、B₂O₃を0〜25％、GeO₂を0〜10％、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOを合計で18〜55％、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計で27〜55％含み、SiO₂とB₂O₃の合計含有量に対するSiO₂含有量の質量比（SiO₂／（SiO₂+B₂O₃））が0.1〜1の範囲であり、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するLi₂O含有量の質量比（Li₂O／（Li₂O+Na₂O+K₂O+CaO+SrO+BaO）が0〜0.4の範囲であり、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計含有量に対するTiO₂含有量の質量比（TiO₂／（TiO₂+Nb₂O₅+WO₃））が0.35〜1の範囲であり、屈折率ndが1.860〜1.990の範囲であり、かつアッベ数νdが21〜29の範囲であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率（ｎ_ＥＬ）から前記基板層の屈折率（ｎ_sub）を減じた数（Δｎ）が０．２以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が１．６以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇであって、溶融したガラスＬＧの塊を落下させる落下工程と、ゴブＧＧの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面でゴブＧＧを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、を有し、一対の型１２１，１２２の少なくとも一方は、ゴブＧＧの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸（表面粗さやうねりや平坦度）及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｐ^５＋ ２５〜３７％、Ａｌ^３＋ １６．２〜２５％、 Ｒ^＋ ０．５〜４０％（ただし、Ｒ^＋は、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、及びＫ^＋の合量を表す）、Ｒ^２＋ ０．５〜４５％（ただし、Ｒ^２＋は、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋、Ｂａ^２＋、及びＺｎ^２＋の合量を表す）、Ｃｕ^２＋ ２〜１０％、Ｓｂ^３＋ ０〜１％を含有すると共に、アニオン％表示で、Ｏ^２− ３０〜８５％、Ｆ⁻ １５〜７０％、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、厚さのばらつきが６μｍ以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。 （もっと読む）

【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＳとＰを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法であって、溶融したガラスの塊ＧＧを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面１２１ａ，１２２ａで前記塊ＧＧを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Ｇを加工する加工工程と、を有し、前記塊ＧＧの落下方向の速度成分について、前記一対の型１２１，１２２に対する前記塊ＧＧの相対速度を０に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊ＧＧが落下する方向に前記一対の型１２１，１２２が移動しながら、前記塊ＧＧを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機物に対する高い吸着性と光触媒活性とを兼ね備え、かつ使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】アパタイト型結晶と、ＴｉＯ_２結晶、ＷＯ_３結晶、ＲｎＮｂＯ_３結晶、ＲｎＴａＯ_３結晶（ＲｎはＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される１種以上）、ＲＮｂ_２Ｏ_６結晶、ＲＴａ_２Ｏ_６結晶（ＲはＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎから選択される１種以上）、ＺｎＯ結晶、ナシコン型結晶、Ｂｉ_２Ｏ_３結晶、Ｂｉ_２ＷＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｗ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｗ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２ＭｏＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_２Ｏ_７結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_４Ｏ_１１結晶、Ｂｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_１２ＴｉＯ_２０結晶、ＢｉＮｂＯ_４結晶、Ｂｉ_２Ｆｅ_４Ｏ_９結晶、ＢｉＶＯ_４結晶、ＬｉＢｉＯ_３結晶、及びこれらの固溶体から選択される１種以上の結晶と、を含有するガラスセラミックスとする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５〜９５％の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Ｂｉ_２Ｏ_３結晶、Ｂｉ_２ＷＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｗ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｗ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２ＭｏＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_２Ｏ_７結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_４Ｏ_１１結晶、Ｂｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_１２ＴｉＯ_２０結晶、ＢｉＮｂＯ_４結晶、Ｂｉ_２Ｆｅ_４Ｏ_９結晶、ＢｉＶＯ_４結晶、ＬｉＢｉＯ_３結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される１種以上を含有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性薄膜材料、特にプロトン伝導性薄膜材料を創案すること。
【解決手段】本発明のイオン伝導性薄膜材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、薄板形状を有し、その厚みが１〜５００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性材料、特にプロトン伝導性材料を創案することである。
【解決手段】本発明のイオン伝導性材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、Ｒ₂Ｏ成分（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、Ａｇ₂Ｏ）の内、少なくとも２種以上を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、Ｐ₂Ｏ₅ ５〜６０％、ＴｉＯ₂ ０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜３０％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ５〜６０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜 ５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜 ５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ ０〜 ８％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、および上記金属元素の１種または２種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物（Ｆ）として合計０〜８％含有する光学ガラスにおいて、ＭｏＯ_３の含有量を測定し、ＭｏＯ₃の含有量が重量で３０ｐｐｍを超える場合は、ＭｏＯ_３の含有量を重量で３０ｐｐｍ以下に減少させる。 （もっと読む）

【課題】空調施設のドレイン水における抗菌性ガラスからの銀イオン溶出量を安定的に制御して、ドレイン水における微生物の発生を効果的に抑制できる空調施設用混合抗菌性ガラスを提供する。
【解決手段】空調施設において、銀イオンを放出することによって抗菌効果を発揮する空調施設用混合抗菌性ガラスであって、溶解した場合にアルカリ性を示す抗菌性ガラスと、溶解した場合に酸性を示す抗菌性ガラスと、を含み、アルカリ性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量、および、酸性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量がそれぞれ所定の範囲内の値であり、アルカリ性を示す抗菌性ガラスの配合量が、酸性を示す抗菌性ガラス１００重量部に対して、１０〜１００重量部の範囲内の値であり、かつ、所定測定条件にて測定される総銀イオン溶出量が所定の範囲内の値である。 （もっと読む）

【課題】特に遷移金属であるＮｂ_２Ｏ_５成分を含有するガラスにおいて、着色の少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を必須成分として含有するガラス原料を溶解し、溶解したガラス中で非酸化性ガスをバブリングする工程を有する。この製造方法は、ガラス原料Ｓを溶融する溶融槽１１と、この溶融槽１１に連通され且つ溶融ガラスＧを清澄する清澄槽１２と、この清澄槽１２に連通され且つ溶融ガラスＧを撹拌する撹拌槽１３と、を用い、ガラス原料Ｓを溶融槽１１で溶融する溶融工程、溶融したガラス原料Ｓを清澄槽１２で清澄させる清澄工程、清澄した溶融ガラスＧを撹拌槽１３で撹拌する撹拌工程、撹拌した溶融ガラスＧを流出させる流出工程、及び、流出したガラスを成形する成形工程を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガラスを原料として、光触媒を高濃度に含有して優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、ＴｉＯ_２成分を５〜５０％、ＳｒＯ成分を２〜５０％、ＳｉＯ_２成分を１０〜８５％を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、チタン酸ストロンチウムＳｒＴｉＯ_３結晶及びその固溶体結晶を含むことが好ましい。このガラスセラミックスは、バルク体、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 （もっと読む）