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Fターム[4G062ED04]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Mg (6,694) | 10−30 (739)

Fターム[4G062ED04]に分類される特許

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【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともSとPを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量%で
SiOを1〜20、Bを5〜30、Alを0〜10、ZnOを5〜35、RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を5〜30、RO(LiO、NaO、及びKOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を0.1〜6、Biを10〜60、を含むことを特徴とする導電性ペースト。 (もっと読む)


【課題】傷がついても破壊しにくい化学強化ガラスに用いるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを65〜77%、Alを3〜15%、NaOを8〜15%、KOを0〜2%未満、MgOを3〜15%、ZrOを0〜1%含有し、SiOおよびAlの含有量の合計SiO+Alが85%以下であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であり、かつ、各成分の含有量を用いて下記式により算出されるRが0.66以上である化学強化用ガラス。
R=0.029×SiO+0.021×Al+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO+0.029×NaO+0×KO−2.002 (もっと読む)


【課題】屈折率ndが2.02以上、アッベ数νdが19.0以下の高屈折率高分散特性を有しながら、高品質の光学素子の製造に適した機械的特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
酸化物ガラスであって、
カチオン%表示にて、
5+を14〜36%、
Bi3+を12〜34%、
Nb5+を12〜34%、
Ti4+を5〜20%、
6+を0〜22%
含み、
Bi3+、Nb5+、Ti4+およびW6+の合計含有量が50%以上、
ヌープ硬度が370以上、屈折率ndが2.02以上、アッベ数νdが19.0以下である光学ガラス。この光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材及び光学素子。この光学ガラスを機械加工する工程を備えるプレス成形用ガラス素材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来よりも光学特性及び外観品質に優れた透明フィルムを提供する。
【解決手段】ガラス繊維の基材に透明樹脂組成物を含浸し硬化して形成される透明フィルムに関する。前記ガラス繊維において、酸化ホウ素(B)の含有量が12〜22質量%、酸化マグネシウム(MgO)の含有量が2〜12質量%、酸化アルミニウム(Al)の含有量が7〜17質量%、二酸化ケイ素(SiO)の含有量が45〜55質量%、酸化カルシウム(CaO)の含有量が10質量%以下、酸化ストロンチウム(SrO)の含有量が5質量%以下、酸化バリウム(BaO)の含有量が10質量%以下である。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を1.0〜31.0%及びLn成分を40.0〜65.0%を含有し、TiO成分の含有量が30.0%以下、Nb成分の含有量が30.0%以下である。レンズプリフォームは、この光学ガラスを母材とする。 (もっと読む)


【課題】 封着に適した流動性と、熱処理後に高い熱膨張係数を示すと共に、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発による燃料電池の発電特性の劣化が起こり難く、安定した耐熱性を有する材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の高膨張結晶性ガラス組成物は、モル%で、SiO 30超〜50%未満、MgO 10〜50%、BaO 5〜40%、CaO 0〜20%、SrO 0〜10%、B 0〜15%、ZnO 0〜15%、Al 0〜6%、ZrO 0〜3%、SnO 0〜3%からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】省電力のプラズマディスプレイパネルおよびそれを製造するためのガラスペーストを提供する。
【解決手段】 低軟化点ガラス粉末および有機成分を含むガラスペーストであって、前記低軟化点ガラスは、FeOとFeを重量基準で合計1〜1000ppmの範囲内含み、FeOとFeの含有量の合計に対するFeOの含有量の比が重量基準で0.40〜0.95の範囲内であることを特徴とするガラスペーストとする。 (もっと読む)


【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Biを含有し、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であるガラス組成物。Bi−B−ZnO系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示で、5〜50%のB、5〜90%のBi、5〜70%のZnOの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示でZnO/Bの比の値が0.2以上かつZnO/Biの比の値が0.2以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜5であり、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を2回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が5質量%以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。 (もっと読む)


【課題】カレットとしてLCD、PDP用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO 50〜75%、Al 5〜20%、B 0〜8%、NaO 5〜20%、KO 0.1〜10%、MgO 0.1〜15%、SrO+BaO 0.001〜5%を含有し、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+ZrO)が0.3〜1.5であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO 45〜75%、Al 3〜15%、LiO 0〜12%、NaO 0.3〜20%、KO 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al+NaO+P)/SiOが0.1〜1、モル比(B+NaO)/SiOが0.1〜1、モル比P/SiOが0〜1、モル比Al/SiOが0.01〜1、モル比NaO/Alが0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が0.1〜5μmのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】内部の気泡を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有する結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶と長石結晶が析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末。結晶性ガラス粉末は、ガラス組成として質量%で、SiO 20〜65%、CaO 3〜25%、MgO 7〜30%、Al 0〜20%、BaO 5〜40%を含有し、かつ質量比で、1≦SiO/BaO≦4の関係を満たすことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも1種の結晶を含み、厚さが6mm超18mm以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Aと、前記結晶化ガラス層Aの片面および側面から選択される少なくとも1つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Bと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをt1、加工時の前記アモルファスガラスの厚さt2とするとき、t2/t1≦1.2の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+、Al3+およびR2+(R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれる少なくとも1つ)を含み、カチオン%表示で、Ca2+の含有率が14.0〜24.0%、R2+の含有率が32.0〜58.0%であり、アニオン成分として、F-およびO2-を含有し、屈折率(nd)が1.50以上で、アッベ数(νd)が65以上である光学ガラス。 (もっと読む)


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