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電極被覆用低融点ガラス
【課題】600℃以下の温度で使用できるプラズマディスプレイパネル電極被覆に好適な無鉛無ビスマス低融点ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3 0〜40%、ZnO 0〜40%、Al2O3 0〜10%、MgO 0〜40%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜6%、K2O 0〜10%、P2O5 10〜60%、から本質的になり、Li2O+Na2O+K2Oが4〜12%であって、実質的にPbOおよびBi2O3のいずれも含有しない電極被覆用低融点ガラス。ガラス軟化点が580〜650℃、結晶化開始温度が680℃以上である前記電極被覆用低融点ガラス。
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反射鏡
【課題】高価な原料であるTiO2を多く使わない平均膨張係数35以下、歪点640度以上のガラスにより、内面が615度という高温に耐える反射鏡を得る。
【解決手段】重量%でSiO253〜64%、Al2O310〜23%、ZnO及びMgOを各々3%以上合計量で8〜20%、Na2O+K2O0.2〜2%、B2O31〜8%、TiO20〜4%、As2O3+Sb2O32%以下を含み結晶化ガラスではないSiO2−Al2O3−ZnO−MgO系ガラス基材の表面に、薄膜多層反射膜を蒸着して反射鏡を構成する。
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隔壁用ペーストおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】 無鉛または低鉛のアルカリ含有ガラスを使用した場合でも、サンドブラスト法においてアルカリ現像液による現像時に隔壁用ペーストから形成された乾燥膜がガラス基板からはがれるという問題を解消できる隔壁用ペーストおよび該隔壁用ペーストを用いたPDPの製造方法の提供する。
【解決手段】 アルカリ含有ガラス粉末、樹脂および有機溶剤を含有し、サンドブラスト法による隔壁形成に用いられるペーストであって、アミン化合物及び炭素数3以上のオキシアルキレンを含有するポリオキシアルキレン化合物から選ばれる少なくとも1種以上の化合物を含有することを特徴とする隔壁用ペーストおよび該隔壁用ペーストを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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イオン伝導性を示す雲母結晶焼成体、雲母結晶化ガラスおよびフッ素含有ケイ酸塩ガラス並びにそれらの製造方法
【課題】リチウム、ナトリウムあるいはカルシウムが層間イオンである雲母結晶が主結晶相であり、イオン伝導性を示し、しかも空気中や水中でも崩壊しない焼成体および結晶化ガラス、および室温で高いイオン伝導を示す透明なケイ酸塩系のガラスを製造する。さらに、イオン伝導性および空気中や水中でも崩壊しない耐水性のみならず、快削性および透明性を有する結晶化ガラスを製造する。
【解決手段】リチウム、ナトリウムあるいはカルシウムが層間イオンである雲母結晶を主結晶相とした焼成体および結晶化ガラスを製造するにあたり、それらが得られる化学組成の範囲を選定し、熱処理条件を制御する。また、それら焼成体や結晶化ガラスと同組成のフッ素含有ケイ酸塩ガラスを製造する。
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厚膜導電体ペースト
【課題】 変色に対する優れた抵抗性を有する厚膜導電体組成物の提供。
【解決手段】 厚膜組成物であって:(a)導電性金属と、(b)1つまたは複数の無機結合剤と、(c)アンチモン、アンチモン酸化物、焼成の際にアンチモン酸化物を形成することが可能なアンチモン含有化合物と、(d)有機媒体とを含み;(a)、(b)および(c)は(d)に分散されることを特徴とする厚膜組成物。
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低温焼成基板材料及びそれを用いた多層配線基板
【課題】線熱膨張係数を有しつつ、高い比誘電率を有する低温焼成基板材料を提供することである。また、異組成のガラス−セラミックス混合層を積層させた多層配線基板において、非対称の積層構造としても焼成品の反りを小さくすることである。
【解決手段】本発明に係る低温焼成基板材料は、SiO2−B2O3−Al2O3−アルカリ土類金属酸化物系ガラスを60〜78vol%、チタニアを14〜27vol%、及び、コーディエライトを5〜15.5vol%含有し、且つ、線熱膨張係数が5.90×10−6〜6.40×10−6/℃で、比誘電率が10以上であることを特徴とする。多層配線基板とするときは、コーディエライトの含有量を調整し、層間の線熱膨張係数の差を小さくなるように制御する。
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モールドプレス用ガラス素材、その製造方法及び光学素子の製造方法
【課題】 精密モールドプレスにより、成形部材との融着や、モールドプレスにより、成形型部材との融着や、偏肉などが抑制され、光学性能の高い光学素子を製造するのに好適なモールドプレス用ガラス素材及び光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 リン酸塩を含み、所定形状に予備加工したガラス素材の表面にアルカリ処理を施した後に、炭素含有膜を形成してなるモールドプレス用ガラス素材、および前記モールドプレス用ガラス素材を、加熱により軟化した状態でプレス成形する光学素子の製造方法である。
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結晶性ガラス、及び表面研磨が容易で極めて剛性かつ耐破損性なガラスセラミック製造における同ガラスの使用
本発明は、表面研磨容易性に優れ、極めて固く、かつ耐破損性であるガラスセラミックの製造に用いられる結晶性アルミノケイ酸マグネシウム含有ガラスに関する。本発明に係るガラスはSiO2を5〜33質量%、Al2O3を25〜40質量%、MgOを5〜25質量%、B2O3を0〜15質量%、Y2O3、Ln2O3、As2O3及び/またはNb2O5を0.1〜30質量%、及びP2O5を0.1〜10質量%含有する。 (もっと読む)
内視鏡用および蛍光顕微鏡用の各検査デバイス、特に光学的生検用の特殊デバイスのための微小構造光ファイバを有する広帯域光源
本発明は、短コヒーレンス干渉分光法および共焦検鏡法、ならびに、内視鏡短コヒーレンス干渉分光法および内視鏡共焦検鏡法のための光源として特に使用され得る広帯域スペクトルを発生させるための装置に関する。本装置は、波長λpの短い光パルスを発生させるためのレーザ、特にレーザ・ダイオード、および、波長λpの付近での群速度のゼロ分散および異常分散を有する高い非線形性の微小構造光ファイバ(1)、ならびに、微小構造光ファイバ内に光パルスを結合するための手段を含む。
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ナノガラス粉末、特に平均の粒子径が1μm以下の多成分ガラス粉末、並びにその使用
【課題】本発明の課題は、多成分ガラス粉末、特に従来のガラス粉末と比較して改善された活性を示す多成分ガラスを提供すること。更にはその製造方法並びにその使用を提供する。
【解決手段】本発明はガラス粉末、特に少なくとも三つの元素を有する多成分ガラスからなるガラスセラミック粉末。より詳細には、1μm以下、好ましくは0.1μm以下の平均粒子径を有するガラス粉末またはガラスセラミック粉末である。特に10nm以下の平均粒子径が好ましい。そのような構成により、多様な分野への適用が可能となる。
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高逆反射率面のための高反射率ガラスビーズ
ガラス処方物、およびこのようなガラス処方物を、少なくとも1.59の屈折率および高レベルの逆反射率を有するガラスビーズに転換する方法が提供される。これらの方法および処方物は、環境に曝すことによる侵食に対して高レベルの耐性もまた有するビーズを提供する。さらに、本発明は、高い逆反射率、ならびに化学的侵食および物理的侵食に対し良好な耐性をもつガラスビーズを提供し得るプロセスおよびガラス組成物もまた提供する。
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赤外波長域で蛍光を発するガラス組成物、およびこれを用いた信号光の増幅方法
本発明は、広い波長範囲において発光機能や光増幅機能を示すガラス組成物を提供する。このガラス組成物は、ビスマス酸化物、酸化アルミニウム、およびガラス網目形成体を含み、ガラス網目形成体の主成分が二酸化ゲルマニウムであり、ビスマス酸化物に含まれるビスマスが発光種として機能し、励起光の照射により赤外波長域で蛍光を発する。このガラス組成物は、さらに1価または2価の金属の酸化物を含んでいてもよい。 (もっと読む)
屈折率分布型光学素子の製造方法
本発明は、特定の処理雰囲気を必要とせず、また溶融塩を用いることなく、ガラス基材の所望部位に対して容易に屈折率分布を形成できる屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
具体的には、本発明は、アルカリ金属成分をガラス構成成分として含むガラス基材に、銅化合物、有機樹脂及び有機溶剤を含有するペーストを塗布し、ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
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ガラスセラミックの使用方法
【課題】形態及び特性に関して、可視域における透過性、UV域における遮断性、耐露光性、低熱膨張係数、及び優れた耐薬品性等の一定の要求を満たし、かつ新規用途に利用可能な該ガラスセラミック材料、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】P2O5を0〜4重量%未満及び/またはCaOを0〜8重量%未満含むガラスセラミックをUV光遮断ランプの一部として使用する。
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高歪み点ガラス
高い歪み点、透明度、および低い熱膨張係数を示す、SiO2−Al2O3−P2O5三成分系からのガラスの一群が開示されている。これらのガラスは、酸化物基準のガラスバッチから計算して、モルパーセントで表して、以下の組成:55〜80%のSiO2、12〜30%のAl2O3、および2〜15%のP2O5を有する。
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アルミニウムケイリン酸塩ガラス
高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するP2O5−SiO2−Al2O3三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成:33〜75%のP2O5、2〜52%のSiO2、8〜35%のAl2O3を有する。
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情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体
化学強化された情報記録媒体用ガラスにおいて、化学強化による強化層13を、外周面および内周面に存在させるとともに、情報記録層が形成される上面11及び下面12に実質的に存在させないようにする。これにより高精度の基板研磨技術を必要とすることなく、平坦度などの形状精度および強度を向上させることができる。 (もっと読む)
高温耐性ガラス質無機繊維
少なくとも1000℃まで又はそれ以上の使用温度を有し、使用後機械的一体性を有し、生理液中で非耐久性(可溶性)であり、且つシリカ、マグネシア、ランタニド系列元素含有化合物及び任意構成成分としてジルコニアを含有する溶融物から製造される温度耐性ガラス質無機繊維。
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チタニアと酸化ビスマスとを含んでなるミクロスフィア
本発明は、少なくとも50重量%のチタニアと、少なくとも5重量%の酸化ビスマスとを含んでなるミクロスフィア(すなわち、ビーズ)に関する。このガラスミクロスフィアは、ジルコニアをさらに含んでなる。また本発明は、かかるミクロスフィアを含んでなる再帰反射性物品、特に路面表示にも関する。
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