【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に表面法耐候性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７５〜１．８５、アッベ数（ν_d）が３５〜４５の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、を含有し、かつ、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、からなる群より選択される１種以上の成分を含有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が５８０℃以下、表面法耐候性が級１または級２であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高い寸法精度を有し、平面表示装置の製造工程における熱処理工程で破損や変形が起こらないガラススペーサーを製造する方法を提供する。
【解決手段】
歪点が５５０℃以上、液相温度が１１５０℃以下の特性を有する素材ガラスを準備する工程と、長径１μｍ以上の失透結晶がガラス中に析出しない条件で素材ガラスを延伸成形する工程と、延伸されたガラス成形体ガラスを切断する工程とを含むことを特徴とする。また得られるスペーサーは、歪点が５５０℃以上、液相温度が１１５０℃以下の特性を有するガラスからなり、長径１μｍ以上の失透結晶がガラス中に析出しない条件で素材ガラスを延伸成形する工程を経て得られた平面表示装置用ガラススペーサーにおいて、平面表示装置の基板平面に対して垂直方向となる寸法をガラススペーサーの高さｈとした時に、スペーサーの最大高さｈ_maxと最小高さｈ_minの差が、平均高さｈ_aveの１０％以下の値となることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
少なくとも一方向に脈理が存在せず、かつシリカ・チタニアの成分濃度が部材全体に渡って均一である均質なシリカ・チタニアガラスを製造する方法、及び一方向又は三方向に脈理が存在せず、部材に渡って濃度が均一である均質なシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】
シリカ原料及びチタニア原料を酸水素火炎中に導入し、シリカ・チタニアガラス微粒子を回転する基体上に垂直方向に堆積、成長して多孔質ガラス体を作製し、該多孔質ガラス体を加熱して透明化し、円柱状のシリカ・チタニアガラス体を作製する作製工程と、前記シリカ・チタニアガラス体を半径に沿って成長軸方向に切断し、棒状ガラス体を形成する切り出し工程と、前記棒状ガラス体を、該ガラス体の成長軸に対して垂直な方向にせん断応力が作用するように帯域溶融法を適用して脈理を除去する均質化処理を施す第１の均質化処理工程と、を含むようにした。 （もっと読む）

【課題】銀電極との反応による黄変が起こりにくく、誘電体層の形成に好適で、かつ可視光透過率の高い透明絶縁性低融点ガラスの提供。
【解決手段】透明絶縁性の低融点ガラスにおいて、重量％でＳｉＯ_２を２〜１５、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜３５、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜７、ＰｂＯを３５〜６０、ＢａＯを１０〜２５、及びＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯから選ばれた少なくとも一種類以上のアルカリ土類を０〜３、さらに必須成分としてＣｏＯを０．１〜０．５、ＣｅＯ_２を０．０１〜２含み、ＣｏＯ＋ＣｅＯ_２が０．１〜２でかつＣｏＯ／ＣｅＯ_２が０．１〜５である乾式粉砕工程を経て粉砕加工されたことを特徴とする。さらに乾式粉砕加工後の低融点ガラスの１２０℃〜５００℃までの重量減少が０．２５〜１．２重量％であり、２５μｍ厚の全光線透過率が８０％以上、直線透過率が７０％以上である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】超精密機器に用いる部品として要求されるヤング率を満たすコーディエライト材及び同コーディエライト材の製造方法を提供する。
【解決手段】SiO₂とAl₂O₃とMgOと窒化物とを溶融させた後、冷却に伴って非晶質化すると共に、所定温度に保持してα−コーディエライト質結晶相を析出させることによって、高硬度、高ヤング率を有するコーディエライト材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】微細化された電極パターンであっても、電極の剥離が生じにくいディスプレーパネル用基板を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基板表面に１００μｍ以下の線幅のパターン電極が形成されたディスプレーパネル用基板であり、電極が形成されたガラス基板表面の平均表面粗さが、０．８ｎｍ以下とし、好ましくは、ガラス基板をフロート法で得られたもの、より好ましくは、前記平均表面粗さ値をフロート法で得られたガラスのトップ面側に形成させること。 （もっと読む）

本発明は、ゾルゲル法で製造され、高均質性を特徴とするＳｉ_２Ｏガラスに関する。 （もっと読む）

【課題】
ＴｉＯ₂濃度が均一であり、少なくとも一方向に脈理のない均質なシリカ・チタニアガラスの製造方法、及び一方向あるいは三方向に脈理が存在せず、且つＴｉＯ₂濃度が均一であり、ＥＵＶリソグラフィー用の反射光学材料又は反射型マスク材料として好適である均質なシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】
シリカ原料及びチタニア原料を酸水素火炎中に導入し、シリカ・チタニアガラス微粒子を回転する基体上に垂直方向に堆積、成長して多孔質ガラス体を作製し、該多孔質ガラス体を炉内で加熱して透明化し、シリカ・チタニアガラス体を作製する作製工程と、前記シリカ・チタニアガラス体の外周部の濃度不均質部分を除去する除去処理工程と、を有するようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明は良好な光拡散性を有する乳白色または白色の低膨張結晶化ガラス、それを用いた結晶化ガラス部材、およびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２５０〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３２２〜２６％、Ｌｉ_２Ｏ３〜５％、の各成分を含有し、結晶相の平均結晶粒子径が１００ｎｍを超え、平均線膨張係数が０〜５０℃の温度範囲で３０×１０^−７／℃以下であることを特徴とする結晶化ガラス。また、ガラス原料を溶融する工程と、溶融したガラスを成形する工程と、成形したガラスを徐冷する工程と、徐冷後６５０〜７５０℃で０．１〜２００時間第１の熱処理をする工程と、第１の熱処理後８００℃〜１０００℃で０．１〜５０時間第２の熱処理をする工程を含むことを特徴とする結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、組成が、質量％で以下の成分を、以下の範囲で含むものである強化ガラス繊維に関する：ＳｉＯ₂＝５０〜６０％、好ましくはＳｉＯ₂＝５２％及び／又はＳｉＯ₂＝５７％、Ａｌ₂Ｏ₃＝１０〜１９％、好ましくはＡｌ₂Ｏ₃＝１３％及び／又はＡｌ₂Ｏ₃＝１７％、Ｂ₂Ｏ₃＝１６〜２５％、ＺｒＯ₂＝０．５〜１．５％、Ｎａ₂Ｏ＝１．５％、好ましくはＮａ₂Ｏ＝０．８、Ｋ₂Ｏ＝１．５％、好ましくはＫ₂Ｏ＝０．８、Ｒ₂Ｏ＝２％、好ましくはＲ₂Ｏ＝１％、ＣａＯ＝１０％、ＭｇＯ＝１０％、Ｆ＝０〜２％、ＴｉＯ₂＝０〜３％、ＲＯ＝４〜１５％、好ましくはＲＯ＝６％及び／又はＲＯ＝１０％、その他＝３％（ここで、Ｒ₂Ｏ＝Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋Ｌｉ₂Ｏ、及びＲＯ＝ＣａＯ＋ＭｇＯである）。前記ガラス組成物の誘電特性は、ＭＨｚ範囲及びＧＨｚ範囲において特に有利である。 （もっと読む）

ガラス、ガラス組成、該ガラス組成の調製方法、該ガラス組成を含んだ微小流体装置、及び該ガラス組成を含んだ微小流体装置の製造方法を開示する。ホウケイ酸ガラス組成は総重量に対して約60%乃至74%の範囲の二酸化ケイ素（SiO₂）と、総重量に対して約9%乃至25%の範囲の酸化ホウ素（B₂O₃）と、総重量に対して約7%乃至17%の範囲の酸化アルミニウム（Al₂O₃）と、総重量に対して約2%乃至7%の範囲の少なくとも１つの酸化アルカリとを含む。更に、ホウケイ酸ガラスは約30×10^-7/℃乃至55×10^-7/℃の範囲の熱膨張係数（CTE）を有している。更に、ホウケイ酸ガラス組成は焼結によってインヒビタ酸化物を添加することなく失透に対して耐性を有している。
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【課題】 赤外線照射加熱効率の高い情報記録媒体用基板、この基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスまたは結晶化ガラスからなり、（１）２７５０〜３７００ｎｍの波長域に分光透過率が５０％以下となる領域が存在する、（２）波長２７５０〜３７００ｎｍにわたり、分光透過率が７０％以下となる、（３）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、垂直磁気記録媒体用に供される、（４）赤外線照射加熱用に供され、２００ｐｐｍ超の水分を含む、あるいは（５）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、赤外線照射加熱後にスパッタリングによって形成される情報記録層を含む多層膜の支持用に供されることを特徴とする情報記録媒体用基板、および前記基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、酸化物に対する重量％で、組成ＳｉＯ_２を４０〜８０重量％、Ｂ_２Ｏ_３を５〜４０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０重量％、Ｐ_２Ｏ_５を０〜３０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜２５重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２５重量％、Ｋ_２Ｏを０〜２５重量％、ＣａＯを０〜２５重量％、ＭｇＯを０〜１５重量％、ＳｒＯを０〜１５重量％、ＢａＯを０〜１５重量％、ＮｎＯを０〜３０重量％、Ａｇ_２Ｏを０〜５重量％、ＣｕＯを０〜１０重量％、ＧｅＯ_２を０〜１０重量％、ＴｅＯ_２を０〜１５重量％、Ｃｒ_２Ｏ_３を０〜１０重量％、Ｊを０〜１０重量％、Ｆを０〜１０重量％含み、ＺｎＯ＋Ａｇ_２Ｏ＋ＣｕＯ＋ＧｅＯ_２＋ＴｅＯ_２＋Ｃｒ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３の合計は、５〜７０重量％である抗微生物作用ホウケイ酸ガラスに関する。 （もっと読む）

【課題】 高光透過率、高屈折率および優れた製造安定性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
ガラス成分として、CaO、SrOの少なくとも一方と、SiO₂、B₂O₃、La₂O3、Nb₂O5、TiO₂、BaOが共存する光学ガラスであって、実質的に、重量％表示で、SiO₂ 1〜18%、B₂O₃ 3〜24%(ただし、SiO₂の含有量に対するB₂O₃の含有量の割合B₂O₃/SiO₂が1超)、La₂O₃ 10〜50%、Nb₂O₅ 1〜30%、TiO₂ 1〜30%、BaO 6％を超え25%以下、CaO 7%未満、SrO 6%以下、MgO ０〜13%(ただし、BaO、CaO、SrOおよびMgOの合計含有量が40%以下)、ZnO 0〜15%、ZrO₂ 0〜15%、Al₂O₃ 0〜10%、Gd₂O₃ 0〜20%、Y₂O₃ 0%以上2％未満、Yb₂O₃ 0〜5%、Ta₂O₅ 0〜18%、Bi₂O₃ 0〜20%、GeO₂ 0〜10%、Sb₂O₃ 0％以上2%未満、SnO₂を0％以上2%未満を含む組成を有し、屈折率(ｎ_d)が1.8超、アッベ数(ν_d)が28〜40、密度が4.2ｇ／cm³以上である光学ガラスである。 （もっと読む）

本発明は、腐食性、特に塩基性及び酸性、物質に対する改善した抵抗力を伴うプラスチックを得るための所定の組成物からなるガラス強化ヤーンの使用に関係する。本発明はまたそのようなガラスヤーンによって強化したプラスチックを含む複合材料にも関係する。 （もっと読む）

【課題】 ガラスの熔融温度を上げずに、ガラス流量を増加させても、未溶解ブツや泡の品位が良好であり、成形時に失透し難く、しかも、クラックが生成し難い陰極線管用ファンネルを提供することである。
【解決手段】 本発明の陰極線管用ファンネルは、ＰｂＯ含有量が１０〜３０質量％であり、０．６ÅにおけるＸ線吸収係数が４０ｃｍ^-1以上である鉛含有ガラスからなる陰極線管用ファンネルにおいて、前記鉛含有ガラスが、Ｂ₂Ｏ₃を０．０１〜２．０質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 酸処理により容易に高清浄度、高平滑性が得られる情報記録媒体用ガラス基板を提供する
【解決手段】 酸処理後のアルカリ洗浄において基板の平滑性（表面平均粗さ）をＲa＜０．３ｎｍに保つためには、耐酸性の指標として、基板用ガラスの温度50℃における0.1重量％フッ酸水溶液によるエッチングレートが45nm／min以下であることが必要である。 （もっと読む）

【課題】 Ｐｂフリーで、ＴＣＲに優れた厚膜抵抗体を実現し得る厚膜抵抗体用ガラス組成物及び厚膜抵抗体ペーストを提供する。
【解決手段】 下記に組成を示すように、ＡｇやＰｄ等の貴金属元素を含有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ガラス組成物は、導電性材料及び有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これを例えば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯから選択される１種若しくは２種以上：１３〜４５モル％
Ｂ_２Ｏ_３，ＳｉＯ_２から選択される１種若しくは２種：３５〜８０モル％
ＺｒＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３から選択される１種若しくは２種：０〜１１モル％
Ｔａ_２Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５から選択される１種若しくは２種：０〜８モル％
ＭｎＯ：０〜１５モル％
貴金属元素から選択される１種若しくは２種以上：０．１〜１０モル％ （もっと読む）

【課題】Ｓｎ酸化物を清澄剤として用いた場合であっても、高い透過率を有するガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｎＯ₂を含有するガラスであって、Ｒｈ含有量が０．０５〜９ｐｐｍであることを特徴とする。このガラスは、ガラス融液がＰｔ−Ｒｈ合金と接触する溶融装置を用いて、ＳｎＯ₂を含有するガラスを製造する方法であって、ガラス中のＲｈ含有量が０．０５〜９ｐｐｍの範囲となるように、白金合金から溶出するＲｈ量を調節することにより製造できる。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉドープガラスを用いて、レーザ発振あるいは光増幅作用を示す波長範囲が格段に広く、その中心波長が光通信波長域にとって重要な１．１〜１．７μｍ帯にあるようなレーザあるいは光増幅器に使用できる光学特性を備えた広帯域光増幅媒体および光増幅器を提供する。
【解決手段】（ａ）ＳｉＯ₂が４０モル％以上、（ｂ）Ｌｉ₂Ｏが４０モル％以下、（ｃ）Ｇａ₂Ｏ₃とＬｉ₂Ｏを合わせた組成分が１５モル％以下で、（ａ）（ｂ）（ｃ）の合計が１００モル％となる組成のガラスを使用し、発光種として添加したＮｉを取り込む微小領域だけを限定的に結晶化する。 （もっと読む）