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2,021 - 2,040 / 2,356
希土類酸化物、アルミナ、およびドーパントとしてのジルコニアを含有するガラスの光導波路における使用
本発明は、基板の表面上に希土類ドーパントがドーピングされたガラスを含む光導波路を提供する。このガラスは、(a)Al2O3と、REOもしくはY2O3の少なくとも一方と、ZrO2もしくはHfO2の少なくとも一方とを含み、該ガラスの全重量を基準にして、該ガラスの少なくとも80重量パーセントが、全体として、Al2O3と、REOもしくはY2O3の少なくとも一方と、ZrO2もしくはHfO2の少なくとも一方とを含むか;(b)Al2O3と、REOもしくはY2O3の少なくとも一方と、ZrO2もしくはHfO2の少なくとも一方とを含み、該ガラスの全重量を基準にして、該ガラスの少なくとも70重量パーセントが、全体として、Al2O3と、REOもしくはY2O3の少なくとも一方と、ZrO2もしくはHfO2の少なくとも一方とを含み、かつ該ガラスが、20重量パーセント以下のSiO2と20重量パーセント以下のB2O3とを含有するか;または(c)該ガラスの全重量を基準にして、少なくとも40重量パーセントのAl2O3と、Al2O3以外の第1の金属酸化物とを含み、Al2O3と第1の金属酸化物とが、全体として、該ガラスの少なくとも80重量パーセントを含むことを特徴とする。
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無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスを提供する。
【解決手段】重量%でB2O3を22〜38、Bi2O3を35〜65、BaOを4〜20、SiO2を0〜10、ZnOを0〜5、Al2O3を0〜7、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1、かつCuO+La2O3+CeO2+CoO+MnO2を0.1〜3含み、さらにMgO+CaO+SrOを10以下、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を10以下含むB2O3−Bi2O3−BaO系無鉛低融点ガラスで、30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上630℃以下である。
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低温成形用ガラス及びガラス成形方法
【課題】 射出成形及びプレス成形に適した低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】 低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法であって、ガラス原料として、P2O5と、BaO及びSrOあるいはいずれか一方の酸化物と、を含むとともに、P2O5100重量部に対して、BaO及びSrOの酸化物の合計添加量を20〜120重量部の範囲内の値とする。
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平面型画像表示装置
【課題】 薄型化、軽量化を実現する高強度ガラス材を用いた平面型画像表示装置を提供する。
【解決手段】 二枚の基板SUB1とSUB2、該二枚の基板の間に設けられた発光部PMGを有し、少なくとも一枚の基板がSiO2を主成分とし、La、Sc、Y、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luより選ばれた少なくとも一種を1〜20重量%含有するガラス材で構成した。
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偏光ガラスの製造方法及び偏光ガラス製品
【課題】高い消光比を広い帯域で有する偏光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス中に分散し配向した延伸金属粒子を含む偏光ガラスの製造方法において、熱処理後の母材ガラスをプリフォームとして、プリフォームをガラスの粘度が1×108ポイズから1×1014ポイズとなる温度で加熱し、プリフォームを10mm/分以下の送り速度で電気炉内を移動させながら、プリフォームに200Kg/cm2から700Kg/cm2の大きさの応力を加え、プリフォームに含まれるハロゲン化金属粒子を2:1から100:1のアスペクト比となる延伸シートに150mm/分以下の引取り速度で延伸する延伸工程と、延伸シートを母材ガラスの歪点温度より高く、母材ガラスの転移点温度より低い温度で、ハロゲン化金属粒子の少なくとも一部を金属粒子にするのに十分な時間還元する還元工程とを備える。
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低粘度押出成形および射出成形のためのカルコゲナイドガラス
【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスを提供する。
【解決手段】一般化学式YZを有するカルコゲナイドガラスであって、ここで、YはGe,As,Sbまたはこれら2つ以上の混合物であり、ZはS,Se,Teまたはこれら2つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Yは15〜70%の範囲にあり、Zは30〜85%の範囲にあり、GeがAsおよびSbの内の一方または両方と混合された場合には、Geの量は、0<Ge<25%の範囲にあるカルコゲナイドガラス。
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誘電体膜、及びその製造方法
【課題】ディスプレイパネル用のガラス基板に反りを生じることなく積層される緻密な誘電体膜、及び鉛などの有害物を含有しない環境負荷が小さいガラス組成物を用いて形成される誘電体膜の製造方法を提供。
【解決手段】ガラス基板の反りを抑制することのできる、2以上の誘電体層を有する誘電体膜であって、ガラス基板上に設けられる最下層の誘電体層(A)は、酸化物換算で、SiO2を1〜15mol%、B2O3を10〜50mol%、ZnOを30〜50mol%、及び一般式:R2O(式中、Rは、K、Na又はLiから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属元素を示す。)で表されるアルカリ金属の酸化物を0〜12mol%含むガラス組成物から形成され、かつそのガラス転移点は、480℃〜540℃であり、一方、最下層の上に設けられる誘電体層(B)を形成するガラス組成物のガラス転移点は、430℃〜480℃である誘電体膜などにより提供。
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ガラス溶融装置及びガラス溶融方法
ガラス材料を均一に溶融することができ、また清澄プロセスを短縮若しくは不要とすることができるガラス溶融装置及びガラス溶融方法を提供する。ガラス溶融装置200は、内部に28GHzの高周波を発振するジャイロトロン202を有する発振機201と、発振機201からのミリ波を伝送する円形導波管203と、セラミックス製の窯111を内部に設置するアプリケータ204と、窯111内で溶融ガラスの温度を測定する熱電対206及び発振機201に電源を供給する電源盤207を制御するCPU205とを備える。窯111は、調合されたガラス材料(以下「バッチ」という。)を投入するバッチ投入口112をその上部に備え、また、窯111の内部で誘電加熱により均一に溶融されたバッチをバス121に落下させる出口端113をその下部に備える。
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エキシマUVランプ用異形合成石英ガラス管およびその製造方法
【課題】寸法精度が高く、従来型のエキシマUVランプ装置に大幅な改造を加えることなく搭載可能で、広い面積に渡り均一な照射が行えるランプを製造することができる石英ガラス管、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】エキシマUVランプ用異形合成石英ガラス管は、高純度の珪素化合物を原料とし、火炎加水分解法によって合成される合成石英ガラスからなり、波長150〜250nmの真空紫外光を放出するエキシマUVランプ用異形合成石英ガラス管において、該異形合成石英ガラス管の寸法が長さ1000mm以上で、管の外表面に長手方向に渡って幅の一様な平面部分を1面以上備え、該平面部分の幅が5mm以上350mm以下、肉厚0.7mm以上8mm以下で表面に幅0.8mm以上または長さ200mm以上のキズがなく、長手方向に沿った肉厚の最大値と最小値の差と比率が0.5mm以下でかつ25%以下、平面部分の幅の変動率が5%以下、平面部分のそりが0.1%以下、ねじれが0.5以下である。
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ガラス
【課題】 強化しなくても割れや破壊の起こりにくいガラスを提供する。
【解決手段】 質量百分率で、SiO2 55〜72%、Al2O3 11〜20%、B2O3 0〜15%、MgO 0〜12%、CaO 0〜12%、BaO 0〜12%、SrO 0〜12%、Na2O 6〜15%、K2O 1〜15%、Li2O 2〜15%、ZnO 0〜10%含有し、且つLi2O/(Na2O+K2O)の値がモル比で0.3〜2の範囲にあることを特徴とする。
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無鉛シーリングガラス粉末及び製造方法
【課題】 環境に汚染を容易に招く成分を含まず、貴重金属の酸化物も含まず、シーリングされようとする真空ガラス製品に対して、無毒、無汚染のシーリングを行うことができる無鉛シーリングガラス粉末を提供する。
【解決手段】 少なくとも酸化バナジウム(V2O5)、酸化りん(P2O5)及び酸化アンチモン(Sb2O3)を相互に混合した後、溶融冷却及び粉砕を経て形成したガラス粉体であり、酸化バナジウム(V2O5)の重量パーセントは30%-70%であり、酸化りん(P2O5)の重量パーセントは10%-30%であり、酸化アンチモン(Sb2O3)の重量パーセントは0.5%-30%である。その製造方法には、重量パーセントに応じて、酸化バナジウム(V2O5)、酸化りん(P2O5)、及び酸化アンチモン(Sb2O3)を秤量した後、充分に混合し;前記混合料を800℃〜1200℃において2-3時間融合させて、粉末になるように冷却硬化且つグラインドさせる。
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ランプリフレクタ基体、それを製造するためのガラス、ガラスセラミック材料および方法
本発明は、ガラス、ガラスセラミック材料、ランプリフレクタおよびその製造方法に関する。ガラス材料は、全組成の重量基準で、56〜67%のSiO2、19〜22%のAl2O3、3.4〜3.8%のLi2O、1.8〜2.6%のZnO、1.5〜2.5%のMgO、3.3〜5%のTiO2、0〜2.5%のZrO2、1.5〜3%のB2O3、0〜6%のP2O5、0〜0.6%のF、500ppm未満のFe、および少なくとも一種類の清澄剤の効果的な量から生じる成分を有してなる組成を有する。本発明のガラスセラミック材料は、主結晶相としてβ石英固溶体を含有し、これはガラスセラミック材料の適切な熱処理によって得ることができる。このガラスセラミック材料は、75nm未満の高い表面粗さRa、20から300℃の間で10×10-7K-1未満の低CTE、および3mmの厚さで80%を超える約1050nmでのIR透過率を必要とする耐熱性ランプリフレクタに特に適している。
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半導体ウエハを処理するための石英ガラスからなる保持器および保持器の製造方法
エッチング作用する環境において使用するウエハ保持器のための理想的な石英ガラスは、高い純度および高い乾式エッチング耐性の点で傑出している。この要求をかなりの程度まで満たす石英ガラスを提供するために、本発明によれば次のことが提案される。すなわち石英ガラスが、少なくとも表面に近い範囲において窒素によってドーピングされており、30重量ppm以下の準安定のヒドロキシル基の平均含有量を有し、かつその仮想温度が、1250℃より下であり、かつ1200℃の温度におけるその粘性が、少なくとも1013dPa・sである。このような石英ガラスを製造するための経済的な方法は、次の方法ステップを含んでいる:石英ガラス素材になるようにSiO2原料を溶融し、その際、SiO2原料または石英ガラス素材が、脱水処理を受け、アンモニアを含む雰囲気において1050℃と1850℃との間の範囲における窒化温度にSiO2原料または石英ガラス素材を加熱し、石英ガラス素材の石英ガラスを1250℃またはそれより低い仮想温度に設定する熱処理を行い、かつ石英ガラス保持器を形成しながら石英ガラス素材の表面処理を行う。
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Bi2O3−B2O3系ガラス組成物およびBi2O3−B2O3系封着材料
【課題】本発明の目的は、PbOを実質的に含有せず、PbO含有ガラスと同等の480℃以下の温度で焼成が可能であるBi2O3−B2O3系ガラス組成物およびBi2O3−B2O3系封着材料を提供することである。
【解決手段】本発明のBi2O3−B2O3系ガラス組成物は、モル%表示で、Bi2O3 35〜60%、B2O3 10〜35%、In2O3+Ga2O3 0.1〜5%を含有することし、また、本発明のBi2O3−B2O3系封着材料は、モル%表示で、Bi2O3 35〜60%、B2O3 10〜35%、In2O3+Ga2O3 0.1〜5%を含有するBi2O3−B2O3系ガラス組成物からなるガラス粉末と耐火性フィラー粉末とを混合した封着材料であって、混合割合は体積%表示で、ガラス粉末が40〜90%、耐火性フィラー粉末が60〜10%であることを特徴とする。
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ガラス組成物およびガラスペースト組成物
【課題】 プラズマディスプレイパネル、蛍光表示管、あるいはフィールドエミッションディスプレイの誘電体又は隔壁形成に用いられ、有害物を含有せず環境負荷が小さいガラス組成物、およびこのガラス組成物を用いることで基板の反りを大幅に低減させることができるガラスペースト組成物を提供する。
【解決手段】 Pb、及びBiを実質的に含有せずにガラス転移点が430℃〜540℃であるガラス組成物であって、酸化物換算で、SiO2を1〜15mol%、B2O3を10〜50mol%、ZnOを30〜50mol%、アルカリ金属の酸化物:R2O(式中、Rは、K、Na又はLiから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属元素を示す)を0〜12mol%、及びBaOを3〜20mol%含むことを特徴とするガラス組成物によって提供。
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無鉛硼珪酸塩ガラスフリット及びそのガラスペースト
【課題】 環境汚染を防ぐために、絶縁層を形成するガラス組成物中にPbOを含まない絶縁層形成用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】
ガラス組成がSiO2 :16〜32mol%、Al2 O3 :4〜8mol%、B2 O3 :20〜35mol%、Li2 O+Na2 O+K2 Oの2種以上を含み合計が8〜14mol%、MgO+CaO+BaO+SrOの合計が3〜16mol%、ZnO:6〜33mol%、Cu2 O:0.01〜3mol%、Ag2 O:0.01〜1mol%、前記B2 O3 とZnOの組成比が、ZnO/B2 O3 =0.27〜1.3、を基本組成とする無鉛硼珪酸塩ガラスで、平均粒径1〜5μmで、最大粒径が20μm以下に粒度調整されたガラスフリットであり、ガラス転移点が500℃以下、平均線膨張係数が65〜80×10−7 /℃、耐水減量値0.1mg/cm2 以下で耐水性に優れたもので絶縁層を形成するための無鉛硼珪酸塩ガラスフリットである。
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厚膜抵抗体ペースト、厚膜抵抗体および電子部品
【課題】PbフリーかつTCRやSTOLを広範な組成において確実に小さな値とすることが可能な高抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】下記の組成を有する厚膜抵抗体用ガラス組成物、導電性材料、BaTiO3および有機ビヒクルが混合される厚膜抵抗体用ペースト。これをたとえば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
CaO、SrO、BaOから選択される1種若しくは2種以上:13モル%〜45モル%、
B2O3:0〜40モル%(ただし、0は含まず)、
SiO2:17モル%〜72モル%(ただし、72モル%は含まず)、
ZrO2:0〜10モル%(ただし、0は含まず)、
Ta2O5、Nb2O5から選択される1種若しくは2種以上:0〜10モル%(ただし、0は含まず)。
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食品保存容器
【課題】無色透明性を維持しつつ、紫外線を遮断し、内容物の変質を防止する果
実酒用のガラス製容器を提供すること。
【解決手段】ガラスの組成中に重量%で、0.05〜0.2%のCeO2、0.
05%以下のFe2O3、0.0002〜0.004%のSeおよび0.000
2%以下のCoOを含むソーダライムガラスからなり、最大長250mm以上、
口径100mm以上の広口びん。また、食品保存容器の外表面に無色透明な紫外
線を遮断する性能を持つ被膜の形成あるいはフィルムを被覆した。
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光ファイバおよびその製造方法
零材料分散波長が2μm以上であり、非線形感受率χ3が1x10−12esu以上と高く、低損失ファイバに加工するのに十分な熱安定性を有するテルライトガラスを用いた光ファイバにおいて、コア領域への閉じ込めの強いPCF構造またはHF構造を採用した。これにより光が低損失で導波しうる。コア領域に設けた空孔の大きさおよび形状、ならびに隣接した空孔同士の間隔により、零分散波長を通信波長帯(1.2〜1.7μm)内に制御すると共に、非線形定数γが500W−1km−1以上の大きな非線形性を持つ。
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厚膜抵抗体ペースト用ガラス組成物、厚膜抵抗体ペースト、厚膜抵抗体および電子部品
【課題】PbフリーかつTCRやSTOLを広範な組成において確実に小さな値とすることが可能な高抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】下記の組成を有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ガラス組成物は、導電性材料および有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これをたとえば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
CaO、SrO、BaOから選択される1種若しくは2種以上:13モル%〜45モル%、
B2O3:0〜40モル%(ただし、0は含まず)、
SiO2:17モル%〜72モル%(ただし、72モル%は含まず)、
ZrO2:0〜10モル%(ただし、0は含まず)、
Ta2O5、Nb2O5から選択される1種若しくは2種以上:0〜10モル%(ただし、0は含まず)。
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