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光学ガラス及び光学素子
【課題】 鉛化合物を実質的に含有せず、高屈折率・高分散であって、Tgが低く、線熱膨張係数が小さいモールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量%で、P2O5:20〜30%、B2O3:0.1〜10%、Nb2O5:25〜45%、WO3:9〜25%、Bi2O3:0.1〜10%、BaO:3〜15%、Li2O:4〜5.5%、Na2O:0〜2%、K2O:0〜2%、Na2O+K2O:0〜2%、Li2O+Na2O+K2O:4〜6%、Al2O3:0〜3%、CaO:0〜5%、SrO:0〜5%、ZnO:0〜5%、Ta2O5:0〜5%、TiO2:0〜5%の各ガラス成分を有する構成とする。
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ディスプレイ装置用基板ガラス
【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量%表示で、SiO2が64〜70、Al2O3が0.5〜5、Na2Oが1〜7、K2Oが5〜20、Na2O+K2Oが10〜20、MgOが3〜17、CaOが0〜10、SrOが0〜5、BaOが0〜5、RO(ただし、RはMg、Ca、Sr、Ba)が10〜20、ZrO2が0〜5からなり、かつ密度が2.6g・cm−3未満、30℃〜300℃における平均線熱膨張係数が70〜90×10―7/℃、ヤング率Eが70〜80GPaで、かつ密度/ヤング率が0.0355g・cm−3/GPa以下、ヤング率×熱膨張係数が6500GPa×10−7/℃以下であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
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調理器用トッププレート
【課題】LEDからなるインジケータの配設に対応する遮光膜の非形成領域から、LEDの配線等の調理器内部が見えることがなく、LEDで表示する数字を誤認することがない調理器用トッププレートを提供する。
【解決手段】調理器用トッププレート1は、透明ガラス板2の裏面に遮光膜の形成部と非形成部を有し、非形成部の下方に発光素子7が配置される調理器用トッププレートであって、透明ガラス板の裏面に、発光素子の光線を透過する着色板状体5を取り付ける。
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多結晶粉末
【課題】本発明の目的は、負に充分大きな熱膨張係数を有し、粒径によって熱膨張係数がほとんど変化しない複合材料を作製することができる多結晶粉末を提供することである。
【解決手段】本発明の多結晶粉末は、主結晶としてLi2O−Al2O3−SiO2系結晶を含有し、マイクロクラックを有する多結晶体からなり、平均粒径が55〜300μmであることを特徴とする。
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合成石英ガラス光学部材及びその製造方法
合成石英ガラス部材は、OH基濃度が1ppb〜10ppmであり、Siに結合しているF濃度が0.5wt%〜3.0wt%であり、水素分子濃度が1×1016個/cm3〜5×1017個/cm3である。高い紫外光透過率及び耐紫外線特性を有するとともに、緩和率が小さく、しかも面内分布に優れる。190nm以下の波長領域の紫外線に使用することが好適である。 (もっと読む)
Al2O3−La2O3−Y2O3−MgOセラミックおよびその製造方法
Al2O3−La2O3−Y2O3−MgOセラミック(ガラス、結晶質セラミック、およびガラスセラミックを含む)およびその製造方法。本発明によるセラミックを、ガラスビーズ、物品(たとえば、プレート)、繊維、粒子、および薄いコーティングとして、製造、形成するか、それらに変換することができる。粒子および繊維は、たとえば、熱絶縁体、充填剤、または複合材(たとえば、セラミック、金属、またはポリマーマトリックス複合材)中の強化材料として有用である。薄いコーティングは、たとえば、磨耗を伴う用途における保護コーティングとして、および熱管理のために有用であることができる。本発明によるセラミック粒子のいくつかの実施形態は、研磨粒子として特に有用であることができる。
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感光性絶縁ペーストおよびそれを用いた電子回路部品の製造方法
【課題】
低誘電率、高絶縁性で微細なスルホールを持つ絶縁層を形成可能にする感光性絶縁ペーストを提供を提供する。
【解決手段】
少なくともシリカ粉末、ガラス粉末および感光性有機成分からなるペーストであって、ガラス粉末が、軟化点が350〜550℃の低融点ガラスと軟化点が600〜900℃の高融点ガラスを含有し、高融点ガラスの比誘電率が8以下であることを特徴とする感光性絶縁ペースト
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歯科用ガラス組成物
(a)シリカ10〜35重量%;(b)アルミナ10〜35重量%;(c)酸化亜鉛3〜30重量%;(d)P2O54〜30重量%;および(e)フッ化物3〜25重量%を含み、M2O(ただし、MはLi、Na、および/またはKである)として計算されたアルカリ金属を最大3重量%含有し、酸化亜鉛およびフッ化物の合計の、P2O5に対する重量比が0.8から3.0であるアルミノシリケートガラス組成物。 (もっと読む)
石英ガラスルツボとその製造方法および用途
【課題】シリコン単結晶引上げの高温使用下において機械的強度に優れ、引き上げ初期の有転位発生がほとんど無く、かつ単結晶化率の高い石英ガラスルツボを提供する。
【手段】シリコン単結晶引き上げに用いる石英ガラスルツボであって、ルツボ底部を除くルツボ直胴部に、ルツボ内層とルツボ外層によって結晶化促進層を挟み込んだ構造を形成し、ルツボ底部には結晶化促進層を設けないことを特徴とし、例えば、結晶化促進層を有する部分が、ルツボ上端部から直胴部長さの5%以上の範囲であり、結晶化促進成分としてアルミニウム、またはアルカリ土類金属を50〜500ppm含有し、結晶化促進層の厚さが1mm以上である石英ガラスルツボ。
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無鉛ガラス、ガラスセラミックス組成物および誘電体
【課題】比誘電率が高いだけでなく誘電損失も小さい回路基板の構成要素として使用できる誘電体の製造に好適な無鉛ガラスの提供。
【解決手段】軟化点が840℃以下のSiO2−BaO−TiO2系無鉛ガラスで、BaO≦25モル%、ZnO<1モル%かつAl2O3を含有し、焼成時にBa2Ti9O20結晶またはBaTi4O9結晶が析出する無鉛ガラス。モル%で、SiO2 25〜45%、BaO 5〜25%、TiO2 18〜35%、Al2O3 1〜10%、B2O3 0〜15%、MgO+CaO+SrO 0〜15%、WO3+ZrO2 0〜7%、からなり、ZnO<1%である無鉛ガラス。
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レーザ加工用ガラス
レーザ光の照射によって加工されるレーザ加工用ガラスであって、その組成が以下の関係を満たすレーザ加工用ガラス。 40≦M[NFO]≦70 5≦(M[TiO2])≦45 5≦M[NMO]≦40[式中、M[NFO]、M[TiO2]およびM[NMO]は、それぞれ、網目形成酸化物の含有率(モル%)、TiO2の含有率(モル%)、および網目修飾酸化物の含有率(モル%)を表す。]。この構成によれば、ガラス表面近傍のみならず、ガラス内部に至るレーザ加工が可能なレーザ加工用ガラスが得られる。
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光学ガラス
【課題】従来の技術に記載した光学ガラスの諸欠点を総合的に解消し、特定範囲の光学定数を有し、かつ、転移温度(Tg)が低く、精密プレス成形に使用できるガラスプリフォーム材、及び精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する
【解決手段】必須成分としてSiO2、B2O3、La2O3、Gd2O3及びLi2Oを含有し、ガラス組成物全質量に対するSiO2、B2O3、La2O3、Gd2O3及びLi2Oの合計量が91質量%以上であり、屈折率(nd)が1.65〜1.71、アッベ数(νd)が55を超え60までの範囲の光学定数を有し、液相温度における粘度(dPa・s)の対数logηが0.5以上であり、かつガラス転移温度(Tg)が550〜630℃であることを特徴とする光学ガラス
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貫通孔形成方法
【目的】
多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する。
【構成】
ガラス基板の一方の側から、所定の細い孔径を有する孔を所定深さまで形成し、次に、前記ガラス基板の他方の側から、前記細い孔径を有する孔の中心軸と同様の中心軸を有する所定の太い孔径を有する孔を、前記細い孔径を有する孔の底部まで形成して貫通させて、多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する
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ガラスまたはガラスセラミックス
【課題】希土類イオンで高水準のドープを行うのに根本的に適しているガラスまたはガラスセラミックスを開示する。
【解決手段】少なくとも構成成分SiO2、Al2O3およびY2O3を含んでおり、好ましくは希土類イオンでドープされているガラスおよびガラスセラミックスを開示する。Y2O3の重量と、SiO2、Al2O3およびY2O3の全重量との重量比率は、少なくとも0.2、好ましくは少なくとも0.4以上である。希土類イオンが、前記ガラスから析出される高濃度のイットリウム含有量で、結晶相に取り込まれることができることが好ましい。
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光学ガラス
【課題】 本発明は、屈折率(nd)が1.60以上の光学定数を有し、光線透過率及び優れた内部品質を持つ光学ガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%で0.1〜4%のTa2O5を含有する光学ガラスであって、0.95<Ta2O5/(Ta2O5+(ZrO2+TiO2+Nb2O5+WO3)×5)≦1.00、かつSiO2+B2O3+Al2O3+BaOが81%以上であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス
【課題】低いガラス転移温度(Tg)及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に耐洗剤性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準の質量%で、
SiO2 3〜9%、
B2O3 9.5%以上かつ18%未満、
Li2O 0〜3%、
La2O3 33〜45%、
Gd2O3 3〜18%、
ZrO2 5〜7%、
Nb2O5 0.1〜3%及び、
Ta2O5 15〜25%を含有し、
ただし、Ta2O5+Nb2O5の合計量が16〜25%、並びに
WO3 0〜3%及び/又は
ZnO 0〜10%及び/又は
RO 0〜5% (R=Mg、Ca、Sr、Ba)及び/又は
Sb2O3 0〜1%
の範囲の各成分を含有し、F成分を含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を20〜38、B2O3を45〜65、ZnOを0〜5、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を8〜20、CuOを0.1〜2含み、MnO2を0〜2、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を0〜20含むことを特徴とするSiO2−B2O3−R2O−CuO系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴を有す。
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光学ガラス
【課題】低いガラス転移温度(Tg)及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に耐洗剤性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率(nd)が1.74〜1.80、アッベ数(νd)が47〜51の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO2、B2O3、La2O3、Gd2O3、ZrO2、Ta2O5、ZnO、Li2Oを含有し、実質的に鉛、ヒ素、弗素を含まず、ZrO2の含有率が6質量%以下であり、かつZnO/(ZrO2+Ta2O5)が0.45〜1.5であり、ガラス転移点(Tg)が530〜630℃であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム及びその製造方法、光学素子及びその製造方法
【課題】高屈折率高分散特性を有し、精密プレス成形に好適な光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームとその製造方法、ならびに前記光学ガラスよりなる光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 必須成分として、P2O5、Bi2O3、Nb2O5、TiO2を含み、モル%表示で、P2O5を12〜34%、Bi2O3を6%超かつ28%以下、Nb2O5をBi2O3含有量(モル%)の3倍未満、Li2Oを0〜28%、Na2Oを0〜16%を含み、屈折率(nd)が1.85超であるリン酸塩光学ガラス。モル%表示で、P2O5を12〜34%、Bi2O3を6%超かつ28%以下、Nb2O5をBi2O3含有量(モル%)の3倍未満、TiO2を0%超かつ30%以下、WO3を1〜40%、Li2Oを0〜28%、Na2Oを0〜16%、B2O3を0〜14%含み、屈折率(nd)が1.85超であるリン酸塩光学ガラス。
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ガラス及びガラスセラミックシーラント組成物
シーラントとして使用され、又は燃料電池部品に結合され、約40のモル%〜約60モル%RO、約2モル%〜約10モル%M2O3、約35モル%〜約45モル%SiO2を含むガラス組成物であって、Rが、ストロンチウム、カルシウム、マグネシウム、亜鉛及びそれらの組み合わせからなる群から選択され、Mが、アルミニウム、ホウ素、ランタン、鉄及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるガラス組成物が開示される。ガラスは、少なくとも約5モル%のZnOを含む。加熱処理により、ガラスは、少なくとも部分的に結晶化し、少なくともアルカリ土類−亜鉛ピロケイ酸塩結晶相を形成する。 (もっと読む)
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