【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜７０％、ＳｉＯ_２ ２０〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５０％、ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０〜３０％を含有し、モル比Ｂ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比ＳｉＯ_２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．１〜６、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｇｄ_２Ｏ_３）が０．１〜０．９９であると共に、屈折率が１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３を０．１〜６０質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２）／（ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）が０．１〜５０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２）が０〜１０、質量比（ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２）／（ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．００１〜４０、屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、耐熱性が高く、且つ有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、ＢａＯ ０．１〜６０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．１〜４０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜１０％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０〜０．５、歪点が６００℃以上、屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４６〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｂ_２Ｏ_３ １３〜３０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ９〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ０〜７％、ＴｉＯ_２ ０〜８％含有し、Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）がモル比で０．４８〜１．００の範囲にあることを特徴とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を１〜６、Ｂ_２Ｏ_３を５〜１２、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５、ＺｎＯを５〜２０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．１〜３、ＣｕＯを０．１〜７、Ｂｉ_２Ｏ_３を６０〜７５含むことを特徴とする無鉛低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。該無鉛低融点ガラス組成物は３０〜３００℃における熱膨張係数が（７０〜１００）×１０^−７／℃、軟化点が４００℃以上５００℃以下である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】 たわみ試験においてクラックの発生が無く機械的信頼性に優れたガラスセラミック配線基板を提供する。
【解決手段】 ガラスセラミックスからなる絶縁層が複数積層された絶縁基体１と、該絶縁基体１の表面に形成された表面配線層２とを具備するガラスセラミック配線基板であって、前記絶縁基体１がセラミックフィラーとしてアルミナ粒子を含有するとともに、少なくともアルミナ（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）およびカルシウム（Ｃａ）を元素として含むガラス相とから構成されており、前記表面配線層１が銀を主成分とし、ロジウム（Ｒｈ）および酸化銅を含有するとともに、前記絶縁基体１の表面にアノーサイト相を主結晶相とするセラミック層７を有し、抗折強度が１９０ＭＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】液晶表示素子用プラスチック基板等の、各種エレクトロニクス表示素子用基板に対して要求される、透明性及び成型性に優れた透明基板用ガラスフィラー、並びにそれを用いた透明基板の提供。
【解決手段】アルカリ土類金属酸化物を含み、かつ０．７以上の真円度及び１０μｍ以下の平均粒子径を有し、屈折率が１．４７以上１．５７以下であることを特徴とする球状ガラスフィラー。 （もっと読む）

【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れ、またガラス管成形時に結晶が析出し難い半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４５〜５８％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｂ_２Ｏ_３ １４．５〜３０％、ＭｇＯ ０〜３％、ＣａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ４．２〜１４．２％、Ｌｉ_２Ｏ ５〜１２％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ０〜７％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １５〜３０％、ＴｉＯ_２ ０．１〜８％含有し、ＺｎＯ／Ｌｉ_２Ｏが０．８４〜２の範囲内にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が５５０℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６２〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を６〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を７〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのいずれか１成分以上を合計で８〜２１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量合計が７０％以上、上記７成分の含有量合計が９５％以上であり、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１成分以上を合計で１％未満含有する、もしくはこれら３成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６２．５〜６９％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５．５％、Ｌｉ_２Ｏを８〜１６％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜７％、ＺｒＯ_２を０〜３．５％含有し、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３が５３．３％以上、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１７〜２４％、上記６成分の含有量の合計が９７％以上である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性および優れたイオン交換能を有し、イオン交換による化学強化処理によって高い強度を付与できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で示して、ＳｉＯ_２ ５３〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３ １１〜１７％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ３〜９％、ＭｇＯ ０〜４％、ＣaＯ ０〜４％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ １〜４％、ＴｉＯ_２ ２〜６％、を含むガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol％表示にて、SiO₂とAl₂O₃を合計で70〜85％（ただし、SiO₂の含有量が50％以上）、Al₂O₃の含有量が3％以上、Li₂O、Na₂OおよびK₂Oを合計で10％以上、CaOとMgOを合計で1〜6％（ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い）、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂を合計で０％を超えて4％以下含み、SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂の合計含有量に対するLi₂O、Na₂OおよびK₂Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着に好適な封着材料を創案することにより、有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、ＳｎＯ含有ガラス粉末を含む無機粉末 ９９〜９９．９５質量％と、顔料 ０．０５〜１質量％を含有する封着材料であって、顔料の一次粒子の平均粒径が１〜１００ｎｍであり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層１１の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層１２が配設され、この回路層１２上にはんだ層２を介して半導体素子３が配設されるパワーモジュール用基板１０であって、回路層１２の一方の面には、ＺｎＯ含有の無鉛ガラスを含有するＡｇペーストの焼成体からなるＡｇ焼成層３０が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光反射材料、特に、白色ＬＥＤ用リフレクターとして有用な、可視光全域で高反射率を有し、且つ耐熱性、耐湿性に優れた光反射層を形成できる新規な材料を提供する。
【解決手段】アルミナ、ジルコニア及びマグネシアからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、並びに低融点ガラス粉末を含有することを特徴とする、白色セラミックカラー組成物。 （もっと読む）

【課題】固体レーザ媒質としての使用に好適な、アルミノリン酸塩をベースとした物理学的特性及びレーザ特性を改善させガラス組成物を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２及びＢ_２Ｏ_３を或る特定量添加すること等を通じて、アルミナも含有する、リン酸塩をベースとするガラス組成物の物理学的特性及びレーザ特性を改善させ、固体レーザ媒質としての使用に好適な、アルミノリン酸塩をベースとしたガラスに関する。該レーザガラスは、ＦＯＭ_ＴＭ及びＦＯＭ_{ｌａｓｅｒ}に関する望ましい性能指数値を有する。 （もっと読む）

【課題】低分散でありながら屈折率が高く、優れたガラス安定性を有し、着色の少ない光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、カチオン％表示で、Ｓｉ⁴⁺０〜３０％、Ｂ³⁺１０〜５５％、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺およびＫ⁺を合計で５％未満、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺およびＳｒ²⁺を合計で５％未満、Ｂａ²⁺０〜８％、Ｚｎ²⁺０．１〜１５％、Ｌａ³⁺１０〜５０％、Ｇｄ³⁺０〜２０％、Ｙ³⁺０〜１５％、Ｙｂ³⁺０〜１０％、Ｚｒ⁴⁺０〜２０％、Ｔｉ⁴⁺０．１〜２２％、Ｎｂ⁵⁺０〜２０％、Ｔａ⁵⁺０〜８％、Ｗ⁶⁺０〜５％、Ｇｅ⁴⁺０〜８％、Ｂｉ³⁺０〜１０％、Ａｌ³⁺０〜１０％、Ｂ³⁺の含有量に対するＳｉ⁴⁺の含有量のカチオン比Ｓｉ⁴⁺／Ｂ³⁺が１．０未満、酸化物に換算してＮｂ₂Ｏ₅とＴａ₂Ｏ₅の合計含有量が１４質量％未満、屈折率ｎｄが１．９６６〜２．２、アッベ数νｄが２５〜４５であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】泡の残存数が少ない硼珪酸ガラスを製造し得る方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料を溶融することによりガラス融液を得、前記ガラス融液を冷却することにより硼珪酸ガラスを製造する方法において、塩化物と硝酸塩とを含み、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が１８質量％以下であるガラス原料を用いる。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率かつ高分散である、（４）可視光透過率に優れるガラスが得られやすい、（５）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎｄが２．０以上、アッベ数νｄが２０以下、ガラス転移点）が４５０℃以下であり、ガラス組成として質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ７０〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ４〜２９．９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１％〜１０％、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２．５％を含有し、かつ、鉛成分、砒素成分、Ｆ成分、ＴｅＯ_２、ＧｅＯ_２を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス原料を熔融し、熔融したガラスを清澄、均質化してから急冷するにおいて、高温に設定された清澄槽から低温に設定された作業槽へと流しても、ガラス中に泡を生じさせないフツリン酸塩光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料に含まれるFeまたはCuの量をFe₂O₃に換算したFeの含有量とCuOに換算したCuの含有量の合計を20ppm以上とし、得られるフツリン酸塩光学ガラスの透過率特性が、厚さ10mmに換算したときの内部透過率が少なくとも400〜500nmの波長域で98%以上となるように前記FeおよびCuの含有量を管理する。 （もっと読む）