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Fターム[4G062EE02]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Ca (6,961) | 0+〜1 又は 0+〜? (1,565)

Fターム[4G062EE02]に分類される特許

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【課題】電気化学セルを安定した状態で導電性接続部材に接合した接合構造を有する電気化学リアクターを提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される電気化学リアクター(20)は、固体電解質を備える電気化学セル(10)と導電性接続部材(24)との接合が、該セルと該接続部材との直接的な接触を回避して該セルと該接続部材との間に配置された導電性接合材(30)を介して行われており、その接合材は、ガラスマトリックスと導電性粒子とを有し、ここで該ガラスマトリックスは酸化物換算の質量比で以下の組成:
SiO 60〜75質量%;
Al 5〜15質量%;
NaO及び/又はKO 15〜25質量%;
CaO及び/又はMgO 1〜5質量%;
から実質的に構成されている。 (もっと読む)


【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを66〜77%、Alを7〜17%、Bを0〜7%、LiOを0〜9%、NaOを0〜8%、KOを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiOを0〜5%、ZrOを0〜5%含有し、SO、AlおよびBの含有量の合計SiO+Al+Bが81〜92%、LiO、NaOおよびKOの含有量の合計LiO+NaO+KOが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、NaO、KOおよびCaO含有量の合計NaO+KO+CaOが0〜10%、TiOおよびZrOの含有量の合計TiO+ZrOが0〜5%である基板用ガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が1.78以上、アッベ数(ν)が30以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比(θg,F)が0.624以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO、Nbを含有し、質量%の比率でNbが40%より多いことを特徴とする光学ガラス。質量%の比率でKOが2%未満、TiO/(ZrO+Nb)が0.32未満、かつSiO、B、TiO、ZrO、Nb、WO、ZnO、SrO、LiO、NaOの合計含有量が90%より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量%表示で、SiO:50〜70、Al:1〜22、ZrO:0〜8、B:0〜8、RO:10〜30(RはLi、Na及びKからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、MO:0〜20、(MはMg、Ca、Sr及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はROとしてLiOを少なくとも1質量%有し、AlとZrOとを少なくとも合計で6質量%有し、軟化点温度が650℃以下であること。 (もっと読む)


【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl、RTiO、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO40%〜60%、Al7%〜23%、TiO1〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P0%〜7%、B0%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO+Al)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜70%、Al 12〜21%、B 0〜6%、LiO 0〜1%、NaO 7〜20%、KO 0〜4%を含有し、質量比KO/NaOが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、Al−Si合金層とAlドープ層を適正に形成し得ると共に、ブリスターやAlの凝集を発生させ難く、しかも熱水による電極の耐劣化性が良好な電極形成用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、モル%で、Bi 1〜30%、B 10〜66%、CaO 0.1〜25%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い導電性と機械的強度を備える接合部を形成可能な導電性接合材を提供し、該導電性接合材によって形成された接合部を有する固体酸化物形燃料電池(SOFC)システムを提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるSOFCシステム(110)に形成される接合部(120)は、以下の二つの成分:
(a)Ag;および、
(b)クリストバライト結晶、リューサイト結晶及びフォーステライト結晶のうちから選択される少なくとも1種の結晶がガラスマトリックス中に析出していることを特徴とするガラス;
が混在して形成されている。 (もっと読む)


【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 10〜48%、B 3〜15%(ただし、15%は含まない)、Al 2〜15%、LiO 0〜20%、NaO 0.1〜20%、KO 0〜15%、CaO 0.1〜25%、SrO 0〜25%、BaO 0.1〜25%(ただし、25%は含まない)、La 0〜4.5%、Nb 0〜4.9%、ZrO 0〜7%およびTiO 0〜5%を含有し、かつ、Pb成分、P成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】250℃以上での耐熱性と絶縁性を保持しつつ、−50℃〜200℃の熱サイクルでも、半導体素子と封止材、および、半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離することがなく、しかも、封止するために封止材を1mm以上の厚さで用いた場合でもクラックが生じることのない、ガラスフリット複合材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性シリコーン樹脂3〜40重量%、1〜1000ppmのアルカリ金属を含有するシリカ1〜20重量%、鉛を含有しないガラスフリット1〜30重量%、コージライト30〜90重量%、を含有することを特徴とするガラスフリット複合材料。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル%表示で実質的に、
モル%表示で実質的に、
SiO2 60〜64%
Al23 0〜12%、
23 5〜10%
MgO 1〜18%、
CaO 0〜18%、
SrO 0〜18%、
BaO 0〜2%、
CaO+SrO 12〜25%、
MgO+CaO+SrO+BaO 15.5〜30%
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がlogη=2となる温度T2 が1580℃ 以下である無アルカリガラス基板。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の強化板ガラスは、アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記アルミノシリケートガラスが、ガラス組成として、質量%で、SiO 50〜80%、Al 5〜25%、LiO+NaO 3〜25%、CaO+MgO+ZnO+SrO+BaO 0〜10%を含有し、圧縮応力層の厚さが100μm以下であり、且つ前記板端面が、スクライブ割断によって形成された面であると共に、折割工程を経ずに形成された面であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 0〜10%、B 5〜30%、ZnO 3.1〜25%、ZrO 0〜5.4%、La 25〜41%、Gd 0〜30%、Ta 0〜12%、Nb 0.1〜20%、WO 0〜10%、TiO 0〜8%およびLiO 0.1〜5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
、TeO、Al、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 (もっと読む)


【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が100ギガビット/平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】清澄槽を構成する白金族金属で構成された容器の変形の防止に適したガラス板製造装置を提供する。
【解決手段】熔融ガラス5の気泡を除去するための清澄槽30は、白金族金属からなり、熔融ガラス5を収容する容器1と、容器1を支持する耐火物支持体7と、容器1と耐火物支持体7との間において容器1の外周面および耐火物支持体7に接するように配置された耐火物繊維層2とを備えている。耐火物繊維層2は、耐火物支持体7に対する容器1の膨張を、層2の界面による滑りおよび変形、ならびに層2の収縮により許容する。その結果、容器1に加わる応力が緩和され、容器1の変形が防止される。耐火物支持体7は、その厚み方向についての酸素の透過を遮蔽する気密性を有する耐火物保護層3を備えていてもよい。耐火物保護層3は、容器1を構成する白金族金属の酸化および揮発を抑制する。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さRaを3〜50000Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】溶融塩の交換の頻度を減らすことができる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】溶融塩にモル%で、SiOを61〜77%、Alを1〜18%、MgOを3〜15%、CaOを0〜5%、ZrOを0〜4%、NaOを8〜18%、KOを0〜6%含有し、SiO+Alが65〜85%、MgO+CaOが3〜15%、かつ、下記式により算出されるRが0.66以上であるガラスを浸漬して化学強化ガラスとするイオン交換処理を繰り返す化学強化ガラスの製造方法。R=0.029×SiO+0.021×Al+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO+0.029×NaO+0×KO−2.002。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低出力のレーザにより、適正にレーザ封着が可能な封着材料ペースト及び封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機EL素子パッケージを備える有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料ペーストは、無機粉末とビークルを含む封着材料ペーストにおいて、無機粉末がSnO含有ガラス粉末を含み、ビークルが樹脂バインダーと溶剤を含み、質量比で無機粉末/ビークルの値が0.45〜1.65であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】更なる防錆性能を改良した薄片状防錆顔料を提供する。
【解決手段】薄片状粒子を含有する防錆顔料であって、前記薄片状粒子がリン酸系ガラスであり、好ましくは、リン酸系ガラスの組成が、モル%で表して、P :20〜80%、Fe:5〜50%、RO(MgO、CaO、ZnOから選択される1種以上の合計):5〜50%で表される組成物から成り、前記薄片状粒子が、長さ3〜200μm、幅1〜150μm、厚さ0.01〜5μm、アスペクト比(長さ/厚み)3以上、であることを特徴とする防錆顔料。 (もっと読む)


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