【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７５以上で、アッベ数（ν_ｄ）が１５〜４０の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル％で、Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２を１０〜７０％、Ｂｉ_２Ｏ_３を５％以上かつ２５％未満、ＲＯ＋Ｒｎ_２Ｏを５〜６０％（ＲはＺｎ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇからなる群より選択される１種以上を示す。また、ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上を示す。）の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性が高く、転移点（Ｔｇ）が５２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。波長が５５０ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 本発明は実質的に鉛を含まず、かつ各種部材の接合、封着に使用することができる封着部の気密性を向上させるプレスフリットを提供することを目的としている。
【解決手段】 実質的に鉛成分を含有せず、酸化ビスマスを主成分とするガラス粉末を含有するフリット、有機バインダーおよび溶剤とを混練する造粒工程と、造粒したものを乾燥して前記溶剤を取り除く乾燥工程と、この乾燥工程により得られたものを篩分けし 顆粒状粉末を得る篩分け工程と、前記顆粒状粉末をプレスし成型体を得るプレス成型工程と、前記成型体から前記有機バインダーを除去する加熱処理工程と、この加熱処理工程後前記成型体を前記ガラス粉末の軟化点付近まで加熱する焼結工程とを備えることを特徴とする充填率６７％以上のプレスフリットの製造方法。
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【課題】 低融点無鉛のガラス組成物であって、PDP等のFPDの背面基板に形成される誘電体層及び隔壁の形成素材として有用なガラス組成物を提供する。
【解決手段】 無鉛低融点ガラス組成物であって、その組成が重量％で、P₂O₅ 5%以上〜20％未満、Al₂O₃5〜15％、B₂O₃ 15〜25％、SiO₂ 0〜10％、ZnO 10〜40％、MgO、CaO、SrO及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜40％、Li₂O、Na₂O及びK₂Oからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜5％、F₂ 0〜3％、La₂O₃0〜5%及びV₂O₅ 0〜5%であることを特徴とするP₂O₅-ZnO-B₂O₃系低融点ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】 射出成形及びプレス成形に適した低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】 低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法であって、ガラス原料として、Ｐ₂Ｏ₅と、ＢａＯ及びＳｒＯあるいはいずれか一方の酸化物と、を含むとともに、Ｐ₂Ｏ₅１００重量部に対して、ＢａＯ及びＳｒＯの酸化物の合計添加量を２０〜１２０重量部の範囲内の値とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネル用のガラス基板に反りを生じることなく積層される緻密な誘電体膜、及び鉛などの有害物を含有しない環境負荷が小さいガラス組成物を用いて形成される誘電体膜の製造方法を提供。
【解決手段】ガラス基板の反りを抑制することのできる、２以上の誘電体層を有する誘電体膜であって、ガラス基板上に設けられる最下層の誘電体層（Ａ）は、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を１〜１５ｍｏｌ％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３０〜５０ｍｏｌ％、及び一般式：Ｒ_２Ｏ（式中、Ｒは、Ｋ、Ｎａ又はＬｉから選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属元素を示す。）で表されるアルカリ金属の酸化物を０〜１２ｍｏｌ％含むガラス組成物から形成され、かつそのガラス転移点は、４８０℃〜５４０℃であり、一方、最下層の上に設けられる誘電体層（Ｂ）を形成するガラス組成物のガラス転移点は、４３０℃〜４８０℃である誘電体膜などにより提供。 （もっと読む）

【課題】 プラズマディスプレイパネル、蛍光表示管、あるいはフィールドエミッションディスプレイの誘電体又は隔壁形成に用いられ、有害物を含有せず環境負荷が小さいガラス組成物、およびこのガラス組成物を用いることで基板の反りを大幅に低減させることができるガラスペースト組成物を提供する。
【解決手段】 Ｐｂ、及びＢｉを実質的に含有せずにガラス転移点が４３０℃〜５４０℃であるガラス組成物であって、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を１〜１５ｍｏｌ％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３０〜５０ｍｏｌ％、アルカリ金属の酸化物：Ｒ_２Ｏ（式中、Ｒは、Ｋ、Ｎａ又はＬｉから選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属元素を示す）を０〜１２ｍｏｌ％、及びＢａＯを３〜２０ｍｏｌ％含むことを特徴とするガラス組成物によって提供。 （もっと読む）

【課題】ＰｂフリーかつＴＣＲやＳＴＯＬを広範な組成において確実に小さな値とすることが可能な高抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】下記の組成を有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ガラス組成物は、導電性材料および有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これをたとえば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種若しくは２種以上：１３モル％〜４５モル％、
Ｂ_２Ｏ_３：０〜４０モル％（ただし、０は含まず）、
ＳｉＯ_２：１７モル％〜７２モル％（ただし、７２モル％は含まず）、
ＺｒＯ_２：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）、
Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５から選択される１種若しくは２種以上：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）。 （もっと読む）

【課題】ＰｂフリーかつＴＣＲやＳＴＯＬを広範な組成において確実に小さな値とすることが可能な高抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】下記の組成を有する厚膜抵抗体用ガラス組成物、導電性材料、ＢａＴｉＯ_３および有機ビヒクルが混合される厚膜抵抗体用ペースト。これをたとえば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種若しくは２種以上：１３モル％〜４５モル％、
Ｂ_２Ｏ_３：０〜４０モル％（ただし、０は含まず）、
ＳｉＯ_２：１７モル％〜７２モル％（ただし、７２モル％は含まず）、
ＺｒＯ_２：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）、
Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５から選択される１種若しくは２種以上：０〜１０モル％（ただし、０は含まず）。 （もっと読む）

【課題】 抵抗値の温度特性（ＴＣＲ）及び耐電圧特性（ＳＴＯＬ）を確実に小さい値とするとともに、ノイズ特性の改善を図る。
【解決手段】 導電性材料、ガラス組成物及び添加物が有機ビヒクル中に分散されてなる抵抗体ペーストであって、前記添加物としてＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種とＴｉとを含む複合酸化物を含有し、前記複合酸化物の平均粒径が０．７μｍ以下である。前記複合酸化物の平均粒径をＴとし、前記ガラス組成物の平均粒径をＧとしたとき、Ｔ≦Ｇの関係を満たす。また、Ｔ≦（Ｇ／２）の関係を満たすことが好ましい。前記導電性材料の平均粒径をＲとしたとき、Ｔ≦Ｒ≦（Ｇ／２）の関係を満たすことがより好ましい。前記複合酸化物はＡＴｉＯ_３（式中ＡはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種である。）で表される。 （もっと読む）

【課題】 抵抗値の温度特性（ＴＣＲ）及び耐電圧特性（ＳＴＯＬ）の両立を図ることができ、さらには熱安定性やヒートサイクル等の信頼性の向上を図る。
【解決手段】 導電性材料、ガラス組成物及び添加物が有機ビヒクル中に分散されてなる抵抗体ペーストであって、前記添加物として、ＡＸ_２Ｏ_４（式中Ａは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種、Ｘは３価の元素から選ばれる少なくとも１種である。）で示される複合酸化物を含有する。前記ＸはＡｌ、Ｉｎ、Ｆｅ、Ｓｃ、Ｙ、元素番号５７〜７１の元素から選ばれる少なくとも１種である。 （もっと読む）

【課題】 高温高湿環境下における絶縁抵抗劣化の発生を抑制することが可能な導電性ペースト、電子部品、及び電子機器を提供すること。
【解決手段】 一対の端子電極１１，１３は、第１の電極層１１ａ，１３ａ、第２の電極層１１ｂ，１３ｂ、及び、第３の電極層１１ｃ，１３ｃをそれぞれ有している。第１の電極層１１ａ，１３ａは、コンデンサ素体３の外表面に形成されており、且つ導電性ペーストの焼付により形成されている。第２の電極層１１ｂ，１３ｂは、第１の電極層１１ａ，１３ａ上に電気めっきにより形成されている。第３の電極層１１ｃ，１３ｃは、第２の電極層１１ｂ，１３ｂ上に電気めっきにより形成されている。導電性ペーストは、金属粉末と、ガラスフリットと、有機ビヒクルと、ＺｎＯとを含み、当該ＺｎＯの添加量は金属粉末に対して５ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 Ｐｂフリーで、ＴＣＲに優れた厚膜抵抗体を実現し得る厚膜抵抗体用ガラス組成物及び厚膜抵抗体ペーストを提供する。
【解決手段】 下記に組成を示すように、ＡｇやＰｄ等の貴金属元素を含有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ガラス組成物は、導電性材料及び有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これを例えば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯから選択される１種若しくは２種以上：１３〜４５モル％
Ｂ_２Ｏ_３，ＳｉＯ_２から選択される１種若しくは２種：３５〜８０モル％
ＺｒＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３から選択される１種若しくは２種：０〜１１モル％
Ｔａ_２Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５から選択される１種若しくは２種：０〜８モル％
ＭｎＯ：０〜１５モル％
貴金属元素から選択される１種若しくは２種以上：０．１〜１０モル％ （もっと読む）

【課題】 例えば１０ｋΩ／□以上の高い抵抗値を有し、温度特性（ＴＣＲ）及び耐電圧特性（ＳＴＯＬ）の両立を図ることができ、さらには充分な信頼性を実現する。
【解決手段】 ガラス組成物、導電性材料及び添加物を含有し、これらが有機ビヒクルと混合されてなる厚膜抵抗体ペーストであって、前記添加物として、非晶質構造を有しアルカリ土類金属酸化物と酸化チタンとを少なくとも含む複合酸化物を含有する。複合酸化物は、例えばＢａＯ−ＴｉＯ_２、ＣａＯ−ＴｉＯ_２、ＳｒＯ−ＴｉＯ_２、ＢａＯ−ＣａＯ−ＴｉＯ_２、ＢａＯ−ＣａＯ−ＴｉＯ_２−ＺｒＯ_２から選択される１種又は２種以上である。 （もっと読む）

黄色着色問題を解決したディスプレイ基板用ガラスの提供を目的とする。Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｌａ、ＣｅおよびＷからなる群から選ばれた少なくとも１種以上を、酸化物換算にして０．１〜１０質量％含有するディスプレイ基板用ガラス板。
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【課題】 化学的耐久性に優れ、肉厚０．３ｍｍ程度の薄板でも７００ｎｍにおける吸収特性が良好で、なおかつ耐熱衝撃性が高く薄肉への加工が容易なフィルタガラスを供給すること。
【解決手段】 質量％で、Ｐ_２Ｏ_５４６〜７０％、ＭｇＦ_２＋ＣａＦ_２＋ＳｒＦ_２＋ＢａＦ_２１〜５０％、ＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦ０〜２５％、ＡｌＦ_３０．２〜２０％以下、ただし、Ｆ０．５〜３２％、Ｏ２６〜５４％を含有する基礎ガラス１００重量部に対し、ＣｕＯ７．５〜１６重量部を含有させた。
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【課題】電界印加による帯電が発生しにくく、また破壊靭性が高く欠けやクラックが発生しにくいフィールドエミッションディスプレイ用結晶化ガラススペーサーの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラスに、水素中または水素および窒素混合雰囲気中で６００〜９００℃で還元結晶化熱処理を施すことにより、モル百分率表示で本質的に、ＳｉＯ_２：２０〜５０％、ＴｉＯ_２：２５〜４５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ：２０〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１０％、およびＺｒＯ_２：０〜１０％を含有し、主結晶として、Ｂａ_ＸＴｉ_８Ｏ_１６系結晶（Ｘ＝０．８〜１．５）、Ｂａ_２ＴｉＳｉ_２Ｏ_８系結晶およびＴｉＯ_２系結晶のうち少なくとも１つの結晶を含むことを特徴とするＦＥＤ用結晶化ガラススペーサーを提供する。 （もっと読む）

本発明は一般式ａ_ｘｂ_ｙｇ_ｚを有する窒化ガラスに関し、式中、ａは少なくとも一種の陽性元素を含むガラス変性剤であり、ｂはＳｉ，Ｂ，Ｇｅ，Ｇａ及び／又はＡｌでありｇはＮ又はＯを伴うＮであり、Ｏ：Ｎの原子比は６５：３５〜０：１００である。また、本発明は窒化ガラスの製造方法及びそのガラスの用途に関する。結果は硬度、弾性率、破壊靱性、及びガラス転移温度の如き酸化ガラスの物理的及び機械的特性がネットワークの原子構造が酸素原子を窒素原子によって置き換えることによって強化されるときに改良／増加されることを明らかに示す。さらに、結果は極めて高い屈折率を達成できることを示す。 （もっと読む）

【課題】 Ｐｂフリーで、ＴＣＲやＳＴＯＬに優れ、抵抗値のばらつきが小さい抵抗体を実現する。
【解決手段】 実質的に鉛を含まない導電性材料とガラス組成物と添加物とを含み、これらが有機ビヒクル中に分散されてなる抵抗体ペーストである。添加物として、一般式ＡＴｉ_ｘＯ_{（１＋２ｘ）}（ただし、Ａはアルカリ土類金属元素を表す。また、ｘ＞１．０である。）で表される複合酸化物を含有する。この複合酸化物においては、Ｔｉの一部が置換元素Ｍによって置換されていてもよい。アルカリ土類金属元素Ａは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれ、２種類以上含有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】 Ｐｂフリーで、ＴＣＲやＳＴＯＬに優れ、ノイズが小さい抵抗体を実現する。
【解決手段】 実質的に鉛を含まない導電性材料とガラス組成物と添加物とを含み、これらが有機ビヒクル中に分散されてなる抵抗体ペーストである。添加物として、一般式Ａ_ｘＴｉＯ_{（１＋２ｘ）}（ただし、Ａはアルカリ土類金属元素を表す。また、ｘ＞１．０である。）で表される複合酸化物を含有する。この複合酸化物においては、Ｔｉの一部が置換元素Ｍによって置換されていてもよい。アルカリ土類金属元素Ａは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれ、２種類以上含有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】 Ｐｂフリーで、ＴＣＲやＳＴＯＬに優れ、抵抗値のばらつきが小さい抵抗体を実現する。
【解決手段】 実質的に鉛を含まない導電性材料とガラス組成物と添加物とを含み、これらが有機ビヒクル中に分散されてなる抵抗体ペーストである。添加物として、アルカリ土類金属元素Ａとチタンとを含みチタンの一部が置換元素Ｍによって置換された複合酸化物を含有する。置換元素Ｍは、Ｚｒ、Ｈｆのうちの少なくとも１種類である。したがって、この複合酸化物は、一般式Ａ（Ｔｉ_１−ｘＭ_ｘ）Ｏ_３（ただし、Ａは少なくとも１種類のアルカリ土類金属元素、Ｍは置換元素であり、０＜ｘ＜１である。）で表すことができる。 （もっと読む）