【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】フッ化物結晶を含有し、Ｅｕ^２＋を含有することを特徴とするガラスセラミックス。 該ガラスセラミックスは原ガラスの原料として少なくともＡｌＦ_３を用い、該原料を還元剤を添加しておよび／または還元雰囲気で溶融した後、原ガラスを成形し、該原ガラスを熱処理することにより結晶を析出させることによって作製される。 （もっと読む）

【課題】 特に、抵抗値のばらつきが小さく、温度係数の小さい抵抗体を形成するための抵抗体ペースト、及び前記抵抗体ペーストを用いて形成された抵抗体、ならびに、前記抵抗体を用いて形成された回路基板を提供することを目的としている。
【解決手段】 本実施形態における抵抗体ペーストは、鉛を含有しないガラス組成物と、ＲｕＯ_２と、Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７と、有機ビヒクルとを有する。Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７の合成温度は、１１００℃〜１３００℃程度と高温であるため、前記抵抗体ペーストを焼成する温度で分解されることはなく、抵抗値のばらつきが小さい抵抗体を形成することが可能になる。また、Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７の温度係数は負であり、ＲｕＯ_２の温度係数は正であり、これらの混合により、抵抗体の温度係数の絶対値を適切に且つ簡単に小さくすることが可能である。 （もっと読む）

【課題】鉛を実質的に含まず、低温、特に７００℃以下の温度で焼成可能な、気密性及び化学的耐久性、特に耐酸性が優れたオーバーコート用ガラスペーストであって、厚膜抵抗素子のプリコートガラスとして用いたときには、抵抗体の安定性を損なうことなくレーザートリミングを容易に行うことができるオーバーコート用ガラスペーストを提供する。
【解決手段】低融点ガラス粉末と有機ビヒクルとを含むガラスペーストであって、前記低融点ガラスが、実質的にＰｂを含有せず、酸化物換算のモル%表示で、ＳｉＯ_２ ２０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０.５〜１０％、ＢａＯ及びＳｒＯからなる群から選択された少なくとも１種を５〜３５％、ＺｎＯ ５〜３５％、ＴｉＯ_２ １〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏからなる群から選択された少なくとも１種を１〜１３％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、及びＷＯ_３及びＭｏＯ_３からなる群から選択された少なくとも１種を０〜５％で含有することを特徴とするオーバーコート用ガラスペースト。 （もっと読む）

直接的に、あるいは１層または複数層の中間層を介して、互いに接合される第１層および第２層を備えた絶縁体上半導体構造。上記第１層はゲルマニウムを含む実質的に単結晶の半導体材料を含むが、上記第２層は、上記第１層のゲルマニウムの線熱膨張係数の±２０×１０^−７／℃の範囲内の線熱膨張係数（２５〜３００℃）を有するガラスまたはガラスセラミックを含む。
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【課題】より高いアッベ数を有し、かつ、より成形性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、Ａｌ₂Ｏ₃の含有率が８ｗｔ％以上１２ｗｔ％以下であり、ＢａＯの含有率が０ｗｔ％以上６ｗｔ％以下であり、Ｐ₂Ｏ₅の含有率が３５ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下であり、ＡｌＦ₃とＢａＦ₂とＳｒＦ₂とＣａＦ₂とＭｇＦ₂との合計の含有率が２５ｗｔ％以上３３ｗｔ％以下であり、ＬｉＦとＮａＦとＫＦとの合計の含有率が１２ｗｔ％以上２６ｗｔ％以下であり、Ｌｉ₂Ｏの含有率が０．３ｗｔ％以上２．０ｗｔ％以下であるように構成されたものである。これにより、より高いアッベ数を確保すると共に低融点化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、加工性の良好な光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、「ＪＯＧＩＳ０９−１９７５光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、７級から３級のヌープ硬さを有する光学ガラスである。更に、ＳｉＯ_２，Ｂ_２Ｏ_３，Ｒｎ_２Ｏ成分（ＲｎはＫ，Ｎａ，Ｌｉからなる群より選択される１種以上を示す。）を所定量組み合わせることにより、機械的強度を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有し、光弾性定数が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を０．５〜８０％含有し、５４６ｎｍにおける光弾性定数が０〜２．０×１０^−５（ｎｍ・ｃｍ^−１・Ｐａ^−１）である光学ガラスである。更に、ＳｉＯ_２とＢ_２Ｏ_３の合計量を３〜７０％含有し、厚みが１０ｍｍの前光学ガラスにおいて、５４６ｎｍの波長における透過率が７０％以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、製造過程における再加熱工程において、ガラス内部が乳白・失透が生じない光学ガラス、また、化学的耐久性に優れ、ガラスが黒く着色しない光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率［ｎ_ｄ］が１．７５以上、アッベ数［ν_ｄ］が１０以上の光学恒数を有する光学ガラスであって、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、前記光学ガラスは、下記条件による再加熱試験において、ガラス内部が実質的に乳白化及び失透しない光学ガラスである。〔再加熱試験：試験片１５ｍｍ×１５ｍｍ×３０ｍｍを再加熱し、前記光学ガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）よりも８０℃高い温度で３０分間保温し、その後常温まで冷却し、試験片の対向する２面を厚み１０ｍｍに研磨した後に目視観察する。〕 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、所定の光学恒数を有し、かつ、化学的耐久性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率［ｎｄ］が１．７５以上、アッベ数［νｄ］が１０以上の光学恒数を有する光学ガラスであって、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、粉末法による化学的耐久性（粉末法耐久性：ＲＷ（Ｐ））がクラス１から５以下である光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】半導体撮像素子を搭載する小型撮像装置に好適な、レンズとしての光学的機能を有し、かつ色感度補正を可能にする近赤外光吸収性を有するレンズおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｕ²⁺を含むフツリン酸塩ガラスを精密プレス成形してなるレンズ。特に、中心軸部分における厚みをｔ₀［ｍｍ］、前記ガラス中のＣｕ²⁺の含有量をＭ_Cu［カチオニック％］としたときに、Ｍ_Cu×ｔ₀が０．９〜１．６カチオニック％・ｍｍの範囲にあるレンズ。Ｃｕ²⁺を含むフツリン酸塩ガラスからなるガラスプリフォームを精密プレス成形することを含む、このレンズの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 近赤外光吸収機能を有する高性能なガラス製光学素子の実現を可能にする近赤外光吸収ガラス材ロットを提供する。
【解決手段】 銅を含有する近赤外光吸収ガラス素材からなる近赤外光吸収ガラス材ロットにおいて、波長５４６．０７ｎｍにおける屈折率（ｎ_ｅ）の公差が±０．００１未満のガラス材によって構成されている近赤外光吸収ガラス材ロットである。 （もっと読む）

【課題】近赤外線カット特性に優れ、耐候性が良好であり、熱膨張係数が小さく、よってブロック作製時に割れ難く、また脈理が消失しやすい近赤外線カット用フィルターガラスの提供を課題とする。
【解決手段】近赤外線カット用フィルターガラスは、酸化物換算及びフッ化物換算で、Ｐ_２Ｏ_５：４６〜６０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：５〜１１重量％、ＺｎＦ_２、ＭｎＦ_２、ＩｎＦ_３の少なくとも１種を合計量：１〜１０重量％、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２の少なくとも１種を合計量：１０〜４５重量％、ＬｉＦ：０．１〜１５重量％、ＮａＦ：０．１〜１５重量％、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３の少なくとも１種を合計量：０．４〜３重量％、但し、Ｆ：５〜２０重量％、Ｏ：２５〜４０重量％を含有する基礎ガラス成分１００重量％に対し、ＣｕＯ：０．５〜８重量％を含有する。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で、Ｃｅ_２Ｏ_３成分を０．００５〜１５％含有し、Ｇａ_２Ｏ_３成分及びＧｅＯ_２成分を含有せず、密度が３．０ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴とするガラスまたはシンチレータガラス。さらに好ましくは、上記の構成に加えて酸化物の一部又は全部をフッ化物置換したＦ成分の合計量が、酸化物基準で表わされた成分の合計に対して１〜１００モル％である、Ｆ成分を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスを提供する。
【解決手段】 Ｔｂ_２Ｏ_３成分及び／又はＥｕ_２Ｏ_３成分を含有し、酸化物基準のモル％で、これら成分の少なくとも1種以上の含有量が０．０１〜１５％であり、Ｇａ_２Ｏ_３成分およびＧｅＯ_２成分を含有せず、密度が３．０ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴とするガラスまたはシンチレータガラス。さらに好ましくは、上記の構成に加えて酸化物の一部又は全部をフッ化物置換したＦ成分の合計量が、酸化物基準で表わされた成分の合計に対して１〜１００％モル％であるＦ成分を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐結晶化特性に優れ、化学的耐久性に優れた特性を有するガラス材料や、このガラス材料を使った光ファイバー及びそれを束ねた光ファイバーアレイまたは光導波路を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される組成であることを特徴とするガラス。
aRO・bP₂O₅・cB₂O₃・・・（１）
ここで、RはMg，Ca，Sr，Ba，Mn，Ni，Cu，Zn，Cd，Sn，Pbから選ばれる少なくとも１種類の金属元素であり、a、b、cはそれぞれ0.38≦a≦0.55、0.38≦b≦0.55、0.001≦c≦0.20の範囲の数値を示し、かつa＋b＋c＝１を満たす。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜６５％、ＳｉＯ_２ ２〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ５〜４５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ２〜２５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．１〜１５％、Ｐ_２Ｏ_５ ０〜１５％、から本質的になり、ＺｎＯを含有する場合その含有量が５モル％未満であり、ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス。前面基板または背面基板に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているプラズマディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】 寸法精度の高い画像表示装置用スペーサを提供する。
【解決手段】 下記Ａ成分〜Ｅ成分を有し、ガラス転移点温度が５５０℃以上で、熱膨張係数が７４〜９４×１０^-7／℃で、且つ、屈服点とガラス転移点との温度差が５０℃以上であるガラス基材をスペーサとする。Ａ成分：３０〜６０ｗｔ％のＳｉＯ₂、Ｂ成分：２〜２０ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、Ｃ成分：０〜２０ｗｔ％のＭｇＯ、０〜３０ｗｔ％のＣａＯ並びにそれぞれ０〜５０ｗｔ％のＳｒＯ及びＢａＯから選択されるいずれか一種又は二種以上の合計量が２０〜６０ｗｔ％、Ｄ成分：それぞれ０〜１０ｗｔ％のＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ及びＣｓ₂Ｏから選択されるいずれか一種又は二種以上の合計量が０．６〜１５ｗｔ％、Ｅ成分：０〜１５ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、０〜１５ｗｔ％のＺｎＯ、０〜１０ｗｔ％のＺｒＯ₂及び０〜３０ｗｔ％のＬｎ₂Ｏ₃（但し、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙｂを示す）から選択される一種又は二種以上。 （もっと読む）

【課題】 低温で焼成しても各種電気特性を損なうことなく緻密化しており、かつ誘電体粒子の粒径を微細化でき、薄層化に対応した誘電体磁器組成物を得ることができる焼結助剤を用いた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 誘電体酸化物を含む主成分と、焼結助剤とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、ＺｒＯ_２ 及びＳｉＯ_２ を主成分とするガラスで構成されており、前記ガラス中の各含有量が、１モルのＳｉＯ_２ に対して、ＺｒＯ_２ ：０．７〜１．３モルである焼結助剤を、前記主成分１００モルに対して１〜７モル（但し１モルと７モルを除く）添加して、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
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【課題】導電性マイエナイト型化合物を、安定してかつ低コストで製造することが可能な、工業化に適した製造方法を提供する。
【解決手段】前駆体を熱処理して導電性マイエナイト型化合物を製造する製造方法において、ＣａまたはＳｒと、Ａｌとを含有し、酸化物換算した、ＣａＯとＳｒＯの合計と、Ａｌ_２Ｏ_３とのモル比が１２．６：６．４〜１１．７：７．３で、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＡｌ_２Ｏ_３の合計が５０モル％以上である前駆体に対して、含有するＣａ、Ｓｒ、およびＡｌの合計原子数に対する原子数比で０．２〜１１．５％の炭素を含有させた炭素含有前駆体を、酸素分圧１０Ｐａ以下の雰囲気下で９００〜１４７０℃まで加熱して保持し次いで所定の冷却速度で冷却する熱処理を施すことにより、前記炭素含有前駆体を結晶化させて導電性マイエナイト型化合物を生成させる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７５以上で、アッベ数（ν_ｄ）が１５〜４０の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル％で、Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２を１０〜７０％、Ｂｉ_２Ｏ_３を５％以上かつ２５％未満、ＲＯ＋Ｒｎ_２Ｏを５〜６０％（ＲはＺｎ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇからなる群より選択される１種以上を示す。また、ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上を示す。）の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性が高く、転移点（Ｔｇ）が５２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。波長が５５０ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）