【課題】高い放射線遮蔽性能を有すると同時に一定の耐酸性、耐洗剤性を有するガラス組成物を提供すること。
【解決手段】ＩＳＯ−９６８９に規定する耐洗剤性試験を行った場合、クラスが３以下となる性質を有し、かつ、ＩＳＯ−８４２４に規定する耐酸性試験を行った場合、クラスが５以下となる性質を有するガラス組成物。ヤング率が７０ＧＰａ以上である請求項１に記載のガラス組成物。ＳｉＯ_２及びＢ_２Ｏ_３のうちいずれか一方又は両方を含有し、酸化物基準のｍｏｌ％で、Ｌｎ_２Ｏ_３（Ｌｎは、Ｌａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群より選択される１種以上を示す）を０．５〜５０％含有する。 （もっと読む）

【課題】放射線室と監視室等の監視空間との間では、相互に視認可能とした状態で、対向する放射線室間では相互に視認不可とする。
【解決手段】監視者の存する監視室１と、監視室１を挟んで対向配置され且つその内部で被検者に対して放射線治療又は放射線検査を行う放射線室２ａ，２ｂとを備え、監視室１の両側に仕切壁３ａ，３ｂを設けて監視室１と各放射線室２ａ，２ｂとの間を仕切ると共に、仕切壁３ａ，３ｂの一部又は全部を放射線遮蔽ガラス板４ａ，４ｂで形成した放射線医療設備であって、放射線遮蔽ガラス板４ａ，４ｂに偏光フィルム５ａ，５ｂを貼着し、監視室１の一方側の放射線遮蔽ガラス板４ａに貼着される偏光フィルム５ａの偏光方向を、監視室１の他方側の放射線遮蔽ガラス板４ｂに貼着される偏光フィルム５ｂの偏光方向と直交させる。 （もっと読む）

本発明はポリカルボキシラートセメントの作製に用いるためのガラス組成物およびそれらのガラスを含有するポリカルボキシラートセメントに関し、ここでガラスがＳｉＯ_２およびＭｇＯを含有し、ＳｉＯ_２のモルパーセントが６０％を超えず、ＭｇＯのモルパーセントが２０％より大きい。 （もっと読む）

【課題】サーマルプリントヘッドに代表される電子材料基板開発で、絶縁保護被膜を単層で形成でき、電極反応泡が抑制され、かつ平坦性および耐磨耗性の優れた絶縁性被膜ガラス材料及び封着ガラス材料が望まれている。
【解決手段】 重量％でＳiＯ_２を０〜１２、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜３２、ＺｎＯを２２〜４２、Ｂi_２Ｏ_３を１０〜３０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を１７〜４０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５含むことを特徴とする絶縁性被膜ガラス材料及び封着ガラス材料。０．１ｗｔ％〜４．５ｗｔ％のフィラーを含有することが可能であり、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９０）×１０^−７／℃、軟化点が５００℃以上６２０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．８５以上で、アッベ数（ν_ｄ）が１０〜３０の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を２５〜８０％、Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２を３〜６０％、及びＲｎ_２Ｏを５〜４５％（ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上を示す。）の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性が高く、転移点（Ｔｇ）が低いことを特徴とする光学ガラス。波長が６００ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

ガラスから物品を製造するための本発明の方法は、外側表面を備える基材を供給する工程と、少なくとも２種の異なる金属酸化物を含む、少なくとも第１のガラスを供給する工程であって、第１のガラスがＴ_ｇ及びＴ_ｘを有し、第１のガラスのＴ_ｇとＴ_ｘとの間の差異が少なくとも５Ｋであり、第１のガラスが２０重量％未満のＳｉＯ_２、２０重量％未満のＢ_２Ｏ_３、４０重量％未満のＰ_２Ｏ_５、及び５０重量％未満のＰｂＯを含有する、少なくとも第１のガラスを供給する工程と、ガラスの少なくとも一部が基材の外側表面の少なくとも一部を濡らすように、第１のガラスを周囲気圧以下でそのＴ_ｇ超まで加熱する工程と、ガラスを冷却して、基材の外側表面の少なくとも一部に付着したガラスを含むセラミックを含む物品を供給する工程と、を含む。このセラミックの気孔率は、２０体積％未満である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．８５以上で、アッベ数（ν_ｄ）が１０〜３０の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を２５〜８０％、Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２を３〜６０％、並びに、Ｌａ_２Ｏ_３、及び／またはＹ_２Ｏ_３、及び／またはＧｄ_２Ｏ_３の成分の１種または２種以上を０．１〜１５％の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性がより高く、転移点（Ｔｇ）が低いことを特徴とする光学ガラス。波長が６００ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】十分な可視光吸収能を有する鱗片状ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】遷移金属酸化物としてＴ−Ｆｅ₂Ｏ₃を１０質量％を超えて含有し、かつ厚さ１５μｍに成形したときにＡ光源を用いて測定した可視光透過率が８５％以下となるガラス組成物が得られるようにガラス原料を調合し、ガラス原料を熔融し、さらに鱗片状ガラスへと成形する、ガラス組成物からなる鱗片状ガラスの製造方法とする。ただし、Ｔ−Ｆｅ₂Ｏ₃はガラス組成物における全Ｆｅから換算したＦｅ₂Ｏ₃である。 （もっと読む）

【課題】軟化点が低く、誘電率が低く、AgやCu電極上の誘電体層に用いても黄変や気泡が生じにくく、優れた表示性能のディスプレイを作製することが可能な、ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、B₂O₃、R₂O、Bi₂O₃およびMoO₃を必須成分として含み、且つ、鉛（Pb）を実質的に含まない。Bi₂O₃およびMoO₃以外の組成成分の合計を100重量部としたとき、Bi₂O₃およびMoO₃以外の組成成分が、30重量部≦B₂O₃≦85重量部、3重量部≦R₂O≦25重量部、0重量部≦MO≦50重量部、0重量部≦SiO₂≦26重量部、を満たし、且つ、Bi₂O₃およびMoO₃が、1重量部≦Bi₂O₃≦15重量部、0.3重量部≦MoO₃≦5.0重量部を満たす。ただし、RはLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種を示し、MはMg、Ca、Sr、BaおよびZnから選ばれる少なくとも1種を示す。このガラス組成物は、例えばＰＤＰの誘電体層6,11から選ばれる少なくとも1つに適用できる。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、石英ガラス坩堝溶解で坩堝が結晶化する現象を抑制する製造方法を提供する。
【解決手段】石英ガラス坩堝にて原料を溶融することにより、酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料にＲｎ_２Ｏ成分（ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上）を０．１％以上（ただし、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量は０％を超える）添加することを特徴とする前記製造方法。前記Ｒｎ_２Ｏ成分におけるＫ_２Ｏ成分及び／又はＮａ_２Ｏ成分の割合が全Ｒｎ_２Ｏ成分１００％とした場合、４０％以上であることを特徴とする前記製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は酸化ビスマスを含有するガラスにおいて、良好な透過率を有する光学ガラスを製造する方法を提供する。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスの原料混合物中に、熱分解して酸化性ガスとなる原料及び／又はその他のガスを放出させる事ができる原料を含有させ、攪拌による酸化効果、酸化性ガスによる酸化効果によってガラスの透過率を向上させる。酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上含有する原料混合物を溶融成形し、光学ガラスを製造する方法であって、前記原料混合物において、総質量の３％以上がガラス構成成分として残留しない成分を含有することを特徴とする前記製造方法。 （もっと読む）

【課題】サーマルプリントヘッドに代表される電子材料基板開発で、絶縁保護被膜を単層で形成でき、電極反応泡が抑制され、かつ平坦性および耐磨耗性の優れた絶縁性被膜ガラス材料及び封着ガラス材料が望まれている。
【解決手段】 重量％でＳiＯ_２を０〜１０、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜３５、ＺｎＯを２０〜５５、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を１５〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８含むことを特徴とする絶縁性被膜ガラス材料及び封着ガラス材料。０．１ｗｔ％〜４．５ｗｔ％のフィラーを含有することが可能であり、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜１００）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６５０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしく、半導体電子部品が、常用で１０００℃以上の耐熱性を有する半導体封止用ガラスセラミックス及び半導体電子部品を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体封止用ガラスは、半導体とリード線の一部を被覆封止する半導体封止用ガラスであって、該ガラスが、封止することで結晶相を析出し、且つ、結晶相の割合が５０体積％以上となる性質を有する結晶性ガラス粉末からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く、軟化点が低く、耐水性が高い、ディスプレイパネル用に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】少なくともＢ_２Ｏ_３と、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋの１種類以上）と、Ｌｎ_２Ｏ_３（Ｌｎは希土類金属とＡｌより選ばれた一種類以上）を含み、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が５０重量％以上９５重量％以下であり、Ｌｎ_２Ｏ_３の含有量が０．２重量％以上１０重量％以下であり、実質的に鉛を含まない事を特徴とする、低軟化点ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカを用いることなくガラス基板主表面を高精度で研磨できる方法の提供。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、ＣｅＯ_２を含有する溶融物を冷却して得られた非晶質物を熱処理して得られたＣｅＯ_２結晶析出非晶質物を酸処理することによって当該ＣｅＯ_２結晶析出非晶質物から分離抽出したＣｅＯ_２結晶粉末を含有するスラリーを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の上に、記録層となるべき磁性層を含む複数の層が積層されている磁気ディスク。 （もっと読む）

【課題】
フツリン酸ガラスからなる光学素子を精密プレス成形により製造する場合に、光学素子表面に生じるクモリや白濁等を低減または抑制して、その歩留まりを向上させ、効率よく光学素子を製造することができる方法を提供する。
【解決手段】
フツリン酸ガラスからなるプリフォームを加熱し、プレス成形型で精密プレス成形することにより光学素子を製造する方法であって、プレス成形型の成形面の少なくとも一部が、非炭素系成形面材料からなることを特徴とする光学素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有し光学ガラスにおいて、脱泡性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上９０％未満含有する光学ガラスにおいて、かつＴｅＯ_２成分及び／又はＳｅＯ_２成分を０．１％以上含有させることにより、「ＪＯＧＩＳ１２−１９９４光学ガラスの泡の測定方法」に準じた測定方法において、４級から１級の級を有する光学ガラスを製造できる。さらに、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物等の調整により、清澄工程を短時間・低温で完了することが可能である。 （もっと読む）

【課題】
安定性がさほど高くないガラスや融液の状態で揮発性の高いガラスを用いた場合であっても、失透や脈理のない高品質なプリフォームを製造する方法を提供する。
【解決手段】
精密プレス成形に供するためのガラス製プリフォームの製造方法であって、 流出口から流出する熔融ガラスから熔融ガラス塊を分離し、プレス成形して前記プリフォームに近似する形状を有するガラス体を作製し、少なくとも研磨工程を経て前記ガラス体からプリフォームを作製することを特徴とするガラス製プリフォームの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉ_２Ｏを含有する場合であってもその含有量が０．５％未満である隔壁形成用無鉛ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜３５％、ＺｎＯ ２５〜６０％、ＳｉＯ_２ ０〜６％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．１〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ３〜３８％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜０．３％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１〜６％、から本質的になる隔壁形成用無鉛ガラス。ＺｎＯが２８〜５８％、ＳｉＯ_２が０．３〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜８％、ＢａＯが１０〜３８％、Ｎａ_２Ｏが１〜５％である前記隔壁形成用無鉛ガラス。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、誘電損失も低く、電気回路基板材料、積層回路基板材料、低温焼成基板材料および高周波回路基板材料として使用することができる結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】結晶相の結晶が、Ｓｒを含有し、結晶の空間群がＰ−４２_１ｍである場合、１ＭＨｚでの比誘電率が９以下で、誘電損失が１０^−２以下である結晶化ガラスを提供できる。なお、結晶相の結晶は、オケルマナイト型であることが好ましい。 （もっと読む）