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赤外発光ガラス
【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を100モル%とし、酸化物組成として、
(1)P2O5:45〜75モル%、
(2)Al2O3:3〜25モル%、
(3)RをMg、Ca、Sr、Ba及びZnからなる群から選択される少なくとも1種とし、RO:5モル%以上30モル%未満、並びに
(4)Bi2O3:0.1〜5モル%、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。
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リン酸塩系ガラスおよびリン酸塩系ガラスを用いたサーマルヘッド
【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル%で、P2O5を50〜68%、CeO2を15〜39%、B2O3を2〜7%、Pr6O11を0.2〜0.5%含み、CeO2に対するP2O5のモル比が1≦P2O5/CeO2<4の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはP2O5を50〜65%、CeO2を5〜15%、B2O3を3〜8%、Al2O3を0〜10%、BaOを0〜9%およびPr6O11を含み、CeO2に対するP2O5のモル比が4≦P2O5/CeO2の関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする。
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封着用ガラス組成物および封着材料
【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、490℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル%表示で、SnO 30〜80%、P2O5 10〜25%(但し、25%は含まない)、B2O3 0〜20%、ZnO 0〜20%、SiO2 0〜10%、Al2O3 0〜10%、WO3 0〜20%、R2O(RはLi、Na、K、Csを指す) 0〜20%含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B2O3成分、La2O3成分及びF成分を含有し、1.70以上の屈折率(nd)と、39以上52未満のアッベ数(νd)とを有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で(θg,F)≧(−2.0×10−3×νd+0.6498)の関係を満たす。
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ガラス複合シートの製造方法及びガラス複合シート
【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート2の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末1を得る工程と、混合粉末1をロールプレス成形することによりガラス複合シート2を得る成形工程とを備える。
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集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子および集光型太陽光発電装置
【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量%で、SiO2 30〜80%、B2O3 0〜40%、Al2O3 0〜20%、Li2O 0.1%以上およびZrO2 0.1%以上を含有することを特徴とするガラス。
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絶縁膜組成物
【課題】 耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さいことから充填密度が得られるので絶縁膜の硬度等の改善効果が一層高められる。アルミナ粉末の体積比率が25(%)以上と大きいことから、硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(%)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。
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ガラス管の製造のためのホウケイ酸ガラス組成物並びに該組成物をガラス管の製造のために及びランプ用の外管として用いる使用
【課題】ベロ法もしくはダンナー法などの慣用の方法によって管引きして、ガラス管を形成でき、これらのガラス管が形状変化(収縮及び屈曲)を受ける傾向と700℃までの更なる加工温度で互いにくっつく傾向が、理想的にはほとんどないガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物を基礎とするモル%で、SiO2 74〜81、B2O3 8.5〜14.5、Al2O3 0.5〜3.5、Na2O 1.5〜3.5、K2O 1.0〜2.0、Li2O 0〜1.0、MgO 0.5〜1.5、CaO 0.5〜1.5、BaO 0〜0.6、TiO2 2.0〜3.5、ZrO2 0〜1.0、及び清澄剤として、Sb2O3 0〜0.15、CeO2 0〜0.5、SnO2 0〜0.5を含み、かつ0.4<Na2O/(Na2O+K2O)≦0.72のモル比を有する、ホウケイ酸ガラスによって解決される。
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強化ガラス板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、製造コストを高騰させることなく、ガラス板(特に無アルカリ又は低アルカリのガラス板)を強化処理し得る方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を熱処理して、ガラス板の表面領域のSiO2の含有量を、ガラス板の表面から深さ1μmの内部領域に比べて、質量基準で1.03倍以上に増加させることにより、ガラス板を強化処理することを特徴とする。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少
ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3
:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,S
rO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5
%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O
+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の
一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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電気伝導性を有するC12A7系酸化物融液又はガラス材料及びそれらの製造方法
【課題】ガラス基板やプラスチック基板上に薄膜を低温で大面積で形成できるなどの有用性も期待できる、低い仕事関数を持ちながら導電性を有し、かつ非晶質である酸化物材料を提供する。
【解決手段】C12A7系酸化物の組成を有し、電子濃度2×1018/cm3以上2.3×1021/cm3以下を包接する、C12A7系酸化物を溶媒とし電子を溶質とする溶媒和からなる融液であり、金属的な電気伝導性を示す導電性酸化物融液、あるいは非晶質固体物質であり、また半導体的な電気伝導性を示す導電性酸化物ガラス。このガラス材料は、仕事関数が3.0〜4.1eVであり、上記融液を酸素分圧1Pa以下の還元雰囲気中で非晶質の固体が形成される冷却速度で冷却凝固することにより得られる。
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計測器校正用の光学ガラスフィルタ
【課題】透過率の極小領域の近くに極大領域が存在し、その極大領域の透過率が高い光学ガラスフィルタを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO2を12%〜45%、B2O3を10%〜40%、Al2O3を0〜9.0%、Li2O、Na2O、K2Oの任意の組合せを総量で1%〜10%、BaO、CaO、MgO、SrO、ZnOの任意の組合せを総量で1%〜40%、Y2O3を0%〜20%、ZrO2を0%〜7.0%、及び、Ho2O3を1.0%〜20.0%含有し、波長範囲270〜300nmに透過率の極小点を有し、この極小点より低波長側10nmの波長範囲内に、極小点の透過率の二倍以上の透過率を有する極大点を有する。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%、TiO2 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ液相粘度が105.0dPa・s以上であることを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Li2O 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、TiO2 0〜8%、Nb2O5 0〜10%、Ta2O5 0〜12%およびWO3 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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透明微小球
【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約75重量%の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび/またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。
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ガラス組成物、それを含むガラスフリット、それを含むガラスペースト、およびそれを利用した電気電子部品
【課題】従来の低融点鉛ガラスと同等以下の焼成温度で軟化流動可能な無鉛ガラス組成物を提供する。また、その特性に加えて、良好な熱的安定性や良好な化学的安定性を有する無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る無鉛ガラス組成物は、成分を酸化物で表したときにAg2OとV2O5とTeO2とを少なくとも含有し、Ag2OとV2O5とTeO2との合計含有率が75質量%以上であることを特徴とする。好ましくは、10〜60質量%のAg2Oと、5〜65質量%のV2O5と、15〜50質量%のTeO2とを含有する。
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半導体パッケージ用カバーガラス
【課題】半導体パッケージ用カバーガラスの透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消することを技術的課題とする。
【解決手段】この半導体パッケージ用カバーガラス10は、板厚方向に相対向する第1透光面10a及び第2透光面10bと、周縁を構成する側面10cとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス10の寸法は、14×16×0.5mmであり、第1透光面10a及び第2透光面10bは無研磨面であり、その表面粗さ(Ra)は、いずれも0.5nm以下である。
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基板用ガラスおよびガラス基板
【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を66〜77%、Al2O3を7〜17%、B2O3を0〜7%、Li2Oを0〜9%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5%含有し、SO2、Al2O3およびB2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3+B2O3が81〜92%、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計Li2O+Na2O+K2Oが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、Na2O、K2OおよびCaO含有量の合計Na2O+K2O+CaOが0〜10%、TiO2およびZrO2の含有量の合計TiO2+ZrO2が0〜5%である基板用ガラス。
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