【課題】塩素もしくは塩化物と反応し難く、耐塩化物性に優れ、かつ耐熱性を有したガラス組成物に関するもので、塩素成分を含む高温の溶融塩による腐食から、ステンレス鋼等を保護する皮膜を形成するための皮膜形成用ガラス組成物及びその利用方法を提供すること。
【解決手段】モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５が３０〜８０、Ｆｅ_２Ｏ_３が０〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜３０、Ｂ_２Ｏ_３が０〜１５、ＴｉＯ_２が０〜４０、ＺｒＯ_２が０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選択される１種以上の合計）が０〜１５、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種以上の合計）が０〜１５で、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が１〜６５、Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏが０〜２０からなる軟化点が５５０℃以上で、かつ、塩素または塩化物に対する耐性に優れた皮膜形成用ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．９以上で、アッベ数が１９〜２２の光学恒数を有し、しかも光透過特性に優れたリン酸塩系光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物基準のｍｏｌ％で、酸化物基準のｍｏｌ％で、Ｐ_２Ｏ_５２０．０−３０．０Ｂ_２Ｏ_３３．５−１０．０ＳｉＯ_２０−５．０ＢａＯ ０−５．０Ｎａ_２Ｏ １６．２−２５．０Ｋ_２Ｏ ０−８．０ Ｂｉ_２Ｏ_３ １０．０−２０．０ＴｉＯ_２ ３．０−１５．０Ｎｂ_２Ｏ_５ １０．０−２０．０ＷＯ_３ ５．０−１５．０ＺｎＯ ０−５．０を含有し、かつ、Ｌｉ_２Ｏを実質的に含まず、液相粘性(η_ＴＬ)が７ｄＰａ・ｓ以上で、屈折率ｎ_ｄ：１．９０以上、である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、(ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、（ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜６０．０％、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜４５．０％、ＴｉＯ_２成分を０〜３０．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を５．０％以上３０．０％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜６０．０％、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜４５．０％、ＴｉＯ_２成分を０〜３０．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を０％以上５．０％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル％で、少なくとも、５〜５０％のＳｉＯ_２と、０〜２０％のＡｌ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢａＯと、１０〜６０％のＴｉＯ_２と、５〜３５％のＲＥ_２Ｏ_３とを構成成分として有する。ここで、Ｂａは部分的にＳｒ、Ｃａ、Ｍｇで置換でき、ＲＥはランタニドまたはイットリウムであり、Ｔｉは部分的にＺｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｎｂ、Ｖ、Ｔａで置換できる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜６０．０％、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜４５．０％、ＴｉＯ_２成分を０〜３０．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を１．０％以上１２．０％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性を有し、且つＰｂＯ等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が６５０℃以上であり、且つ１０^４ｄＰａ・ｓにおける温度が１２００℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、ＣａＯ＋ＳｒＯ（ＣａＯ、ＳｒＯの合量）０〜２０％、ＢａＯ１５〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２の合量）０〜２５％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５の合量）０〜２０％を含有する。 （もっと読む）

【課題】 高度の品質が要求される情報記録媒体用ガラス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、この方法で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクスおよびガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法において、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構成されたものを用いるガラスの製造方法、この製造方法で得られたガラスをプレス成形またはフロート成形するガラス基板ブランクスの製造方法、および該ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、屈折率１．９０〜２．１０、アッベ数１５〜２７の範囲の光学定数を有するような高屈折率高分散領域で、部分分散比が小さい光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜３０．０％、Ｔａ_２Ｏ_５成分を０．５〜１５．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６２×ν_ｄ＋０．７５６６３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２６０×ν_ｄ＋０．６８１００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラスを原料として、２種以上の異なる光触媒化合物を必要十分な量で含有し、優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 焼結体の製造方法は、組成が異なる２種以上のガラス粉粒体を混合して混合物を作製する工程と、混合物を加熱し、光触媒活性を有する結晶を含むガラスセラミックスの焼結体を作製する工程と、を備えている。得られる焼結体は、ＴｉＯ_２結晶、ＷＯ_３結晶、ＺｎＯ結晶、ＲｎＮｂＯ_３結晶、ＲｎＴａＯ_３結晶（ここで、Ｒｎはアルカリ金属を意味する）、及びこれらの固溶体からなる群より選択される２種以上の結晶を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 ＴｉＯ_２成分、ＷＯ_３成分、ＺｎＯ成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、１０〜７５％含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。 （もっと読む）

【課題】約１１００℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約９００℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】２０℃〜３００℃の温度範囲での線熱膨張α_(20-300)を８×１０^-6Ｋ^-1〜１１×１０^-6Ｋ^-1の範囲で有し、質量％で１０〜４５％未満のＢａＯ、０〜２５％のＳｒＯ（２０〜６５％のＢａＯ＋ＳｒＯ）、１０〜３１％のＳｉＯ_２、２％未満のＡｌ_２Ｏ_３、０〜１０％のＣｓ_２Ｏ、０〜３０％のＲＯ、０〜３０％のＲ_２Ｏ_３、０〜２０％のＲ_２Ｏからなるガラスソルダー。（ＲＯはアルカリ土類金属酸化物、Ｒ_２Ｏ_３はＢ_２Ｏ_３等からなる酸化物、Ｒ_２ＯはＴｉ_２Ｏ等の酸化物からなる。） （もっと読む）

【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法であって、（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、（ｄ）フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、（ｅ）成形ガラス体を５００℃を超える温度にて５時間以上保持した後に５００℃まで１０℃／ｈｒ以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０％以上９９．０％以下、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で１．０％以上８５．０％以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格ＪＩＳ Ｒ １７０３−２：２００７に基づくメチレンブルーの分解活性指数が３．０ｎｍｏｌ／Ｌ／ｍｉｎ以上である。 （もっと読む）

【課題】金属粉末およびガラスフリットを含有するペーストの使用下に、ガラスおよび琺瑯鋼支持体上に、導電性被膜を製造することのできる方法を呈示する。
【解決手段】本発明は、スクリン印刷可能なアルミニウムペーストの使用下にガラスおよび琺瑯鋼上に導電性被膜を製造する方法に関し、使用すべきペーストはアルミニウム粉末４０〜８０質量％、殊に５０〜７５質量％、４００〜７００℃、殊に４２０〜５８０℃の軟化開始温度を有するガラスフリット５〜４０質量％、殊に９〜２５質量％、液状または熱可塑性の媒体１０〜３５質量％および焼結助剤０〜１０質量％を含有する。ペーストで塗布された支持体は、５００〜７５０℃、殊に５９０〜６９０℃で焼付けられる。支持体上の被膜は、１００μオーム・ｃｍより小さい、殊に１０〜７０μオーム・ｃｍの範囲内の低い抵抗率および良好な接着により優れている。 （もっと読む）

【課題】Ｐ_２Ｏ_５成分を含有するガラスにおいて、高分散を有しながらも、熱処理を行わなくとも着色が少なく、且つ熱処理を行った後における着色も低減されたガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】光学ガラスの製造方法は、Ｐ_２Ｏ_５成分と、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、ＴｉＯ_２成分及びＷＯ_３成分からなる群より選択される１種以上と、を必須成分として含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料を溶融する工程（溶融工程）、溶融したガラス原料を清澄させる工程（清澄工程）、清澄した溶融ガラスを撹拌する工程（撹拌工程）、撹拌した溶融ガラスを流出させる工程（流出工程）、及び流出したガラスを成形する工程（成形工程）を有し、前記撹拌工程を溶融ガラスの液相温度より０〜２００℃高い温度にて行う。 （もっと読む）

【課題】人体への悪影響が懸念されるＰｂＯ，ＴｅＯ₂，Ａｓ₂Ｏ₃及びＳｂ₂Ｏ₃を含有することなく、高屈折率・高分散でビッカース硬度（Ｈｖ）の値が大きく、モールドプレス成形性に優れた光学ガラス及びその光学ガラスから成る光学素子を提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂ₂Ｏ₃：５．５〜１０％、ＳｉＯ₂：４．５〜５．５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜４％、ＧｅＯ₂：０〜４％、ＢａＯ：３〜１９．５％、ＭｇＯ：０〜８％、Ｌｉ₂Ｏ：０〜１．５％、Ｌａ₂Ｏ₃：１０〜４５％、Ｙ₂Ｏ₃：０〜２０％、Ｇｄ₂Ｏ₃：０〜８％、ＴｉＯ₂：１６．５〜１９．５％、ＺｒＯ₂：２〜９．５％、Ｎｂ₂Ｏ₅：３〜１５％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜４．５％、ＷＯ₃：０．５〜８％、ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃：０．６０〜０．７８、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋ＺｒＯ₂＋Ｎｂ₂Ｏ₅＋ＷＯ₃：３８〜５４．５％、Ｂ₂Ｏ₃＋ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋ＧｅＯ₂＋ＢａＯ＋ＭｇＯ＋Ｌｉ₂Ｏ＋Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋ＴｉＯ₂＋ＺｒＯ₂＋Ｎｂ₂Ｏ₅＋Ｔａ₂Ｏ₅＋ＷＯ₃：９８％以上、の各ガラス成分を有する。 （もっと読む）

【課題】高価なＧｅＯ_２やＴａ_２Ｏ_５を一切含有させず、希土類酸化物を一定量以上含有させた組成で所定の光学恒数を有する光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子を提案する。
【解決手段】光学ガラスを、質量％で、ＳｉＯ_２：０．５〜９．０％、Ｂ_２Ｏ_３：１０．０〜２２．０％、Ｌａ_２Ｏ_３：３０．０〜５０．０％、Ｇｄ_２Ｏ_３：１４．０〜３０．０％、ＺｒＯ_２：０．５〜１０．０％、ＴｉＯ_２：９．０〜１８．０％およびＮｂ_２Ｏ_５：１．０〜１３．５％の組成からなり、５０．５％≦（Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３）≦６４．０％の範囲を満足するよう構成する。 （もっと読む）