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耐食性ガラスセラミック物品を備える装置
【課題】リチウム含有ガラスセラミックを燃焼加熱を伴う用途で使用可能にする。
【解決手段】ガラスセラミック物品が、混晶を有するアルミノケイ酸リチウムガラスセラミックを含み、その際、前記混晶中でケイ素イオンが部分的にアルミニウムイオンに置換されており、且つリチウムイオンの他に、付加的にマグネシウムイオン及び/又は亜鉛イオンが含有されており、その亜鉛イオン及び/又はマグネシウムイオンは、混晶の結晶構造のチャネルに存在している、燃焼加熱されるガラスセラミック物品を備えた加熱装置を提供する。
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バーナー加工用鉛非含有工芸ガラス
【課題】バーナー加工用の工芸ガラスに要求される各種特性を同時に満足することが可能な鉛非含有のガラスを提供する。
【解決手段】SiO2を40〜55mol%、B2O3を7〜20mol%、二種類以上のアルカリ金属酸化物を合計量として15〜28mol%、二種類以上のアルカリ土類金属酸化物を合計量として3〜10mol%、Al2O3を1〜5mol%及びZnOを1〜5mol%含有することを特徴とするバーナー加工用工芸ガラス。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子
【課題】 PbOによらなくても屈折率が極めて高く、しかも安定性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、TiO2、Nb2O5およびWO3の中から選ばれる少なくとも1種の酸化物、MgO、CaO、SrOおよびBaOの中から選ばれる少なくとも1種の酸化物、およびB2O3を必須成分として含むと共に、SiO2を任意成分として含み、かつ質量基準で、B2O3とSiO2の合計含有量が1〜25%、(B2O3+SiO2)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+TiO2+Nb2O5+WO3)の含有量比が0.05〜0.3、(MgO+CaO+SrO+BaO)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+TiO2+Nb2O5+WO3)の含有量比が0.1〜0.4であり、屈折率が2.000以上、アッベ数が27以下の光学ガラスである。
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ガラス固化による物質の閉じ込めプロセス
【課題】ガラス固化による廃棄物の閉じ込めプロセスに関する先行技術に対し改良を提供する。
【解決手段】本発明は、少なくとも一つの易酸化性または易還元性化学種を含む材料のガラス固化による閉じ込めのためのガラス原料の製造プロセスと、ガラス固化による前記材料の閉じ込めプロセスに関する。ガラス原料の製造プロセスは、前記少なくとも一つの化学種を酸化または還元状態に維持することができる性質と量を有する少なくとも一つの酸化還元対の生ガラス原料への投入ステップを含む。閉じ込めプロセスは、得られたガラス原料と閉じ込める材料との混合物および熱溶解物を含む。本発明は、放射性核物質、金属、半金属などの汚染物質の閉じ込めの最適化を可能とする。材料は、核廃棄物または家庭ごみの焼却から得られる材料であってもよい。
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無鉛ガラスによる不動態化電子素子の製造方法
【課題】鉛酸化物を含まないが、PbO的な所望の技術的ガラス特性を経済的に再現するガラスを含む電子素子を提供する。
【解決手段】ガラス被覆電子素子の製造方法であって、1.以下の組成を(重量%で)含む無鉛ガラスを液体で処理して懸濁液を生成する工程とSiO23〜12%、B2O3 24〜35%、Al2O3 0〜6%、 Cs2O 0〜5%、 MgO 0〜5%、BaO 0〜5%、Bi2O3 0〜5%、CeO2 0.1〜1%、MoO3 0〜1%、Sb2O3 0〜2%、ZnO 50〜65%2.この懸濁液を素子体に塗布する工程と3.この素子体を焼結する工程とを含んで成る方法。
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プラズマディスプレイパネル
【課題】新しい隔壁材料を用いることで、優れた特性の隔壁を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
また、新しい隔壁材料を用いることで、環境への負担が少ない隔壁を備えるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第1及び第2基板100,300の間の放電セルを分離する隔壁200を含み、前記隔壁200の組成物は、Non−Pb系マトリックスガラス粉末及び前記マトリックスガラス粉末に対して約5〜45wt%のNon−Pb系充填剤を含むプラズマディスプレイパネルを構成する。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】 酸化鉛及び酸化テルルを実質的に含有せず、高屈折率・高分散であって、Tgが低くモールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量%で、P2O5:7〜17%、B2O3:0.1〜10%、Nb2O5:10〜40%、WO3:3〜30%、Bi2O3:11〜55%、TiO2:0〜10%、Ta2O5:0〜15%、ただし、Nb2O5+WO3+Bi2O3+TiO2+Ta2O5:60〜80%、MgO:0〜5%、CaO:0〜5%、SrO:0〜5%、BaO:0.1〜19%、ZnO:0〜5%、ただし、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO:0.1〜19%、Li2O:0〜3%、Na2O:0〜3%、K2O:0.1〜6%、ただし、Li2O+Na2O+K2O:0.1〜6%の各ガラス成分を有する構成とする。
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スピンオンガラス組成物、その製造方法、及びそれを用いた多孔性シリコン酸化膜の製造方法
【課題】接着特性が優秀な低誘電膜を形成するためのスピンオンガラス組成物、その製造方法、及びそれを用いた多孔性シリコン酸化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】構造式1を有する3〜20質量%のシルセスキオキサンオリゴマー、3〜20質量%の気孔生成剤、及び残余の溶媒を含むスピンオンガラス組成物。そして、前記多孔性シリコン酸化膜を形成するために、前記スピンオンガラス組成物を基板上に塗布してスピンオンガラス薄膜を形成した後、前記薄膜を硬化して多孔性シリコン酸化膜を形成する。したがって、前記多孔性シリコン酸化膜は、接着特性が優秀であるのみならず、後続工程で過剰エッチングを招かない。
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水素貯蔵用の中空多孔質壁ガラス微小球
1から140ミクロンの間の直径範囲と、0.05から0.50gm/ccの間の密度と、10から1000Åの間の平均孔径を画定する壁面開口を有する多孔質壁構造とを有し、内部に水素貯蔵材料を含有する中空ガラス微小球が提供される。多孔質壁構造は、中空ガラス微小球の内部への水素貯蔵材料の導入を促進させる。その後、バリアコーティングを付着させることができ、かつ/または微小球を加工して有効孔径を変化させまたは減少させる。このように、中空ガラス微小球は、微小球の多孔質壁を通した水素の選択的輸送のための膜を提供することができ、この小さい孔径によって、気状または液体汚染物質が中空ガラス微小球の内部に進入するのを防止する。
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表示目的のための薄板ガラス及び板ガラスを切断して表示パネルを得る方法
【課題】Nd:YAGレーザ及びMLBA法で従来方法よりも急速に加熱可能、従って切断可能な、表示目的用の薄板ガラスを提供する。
【解決手段】表示目的のための薄板ガラスであって、
板ガラスのガラス組成が、波長1.064μmの放射を有効に吸収してレーザ切断ビームによるその切断性を向上させる添加ガラス成分を含んで成ることを特徴とする薄板ガラス。
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消色性に優れたガラスの製造方法
【課題】消色されて鮮やかな色調を有するガラスを、特定の生産ラインだけで安価に製造することができる消色性に優れたガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】溶解炉においてセレンまたはコバルトにより消色したガラスをカラーフィーダーへ導き、次いでカラーフィーダーに酸化エルビウムを含有したフリットを添加して鮮やかな色調のガラスとする。また、前記酸化エルビウムの含有量が5〜25重量%であるフリットを、カラーフィーダー中に0.05〜0.5重量%の範囲で添加する。更に、酸化エルビウムの消色作用によって、波長が379nmの透過率を2〜10%、524nmの透過率を2〜10%、654nmの透過率を0.1〜5%下げることにより鮮やかな色調のガラスとすることができる。
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封着方法
【課題】本発明の目的は、減圧条件下で気密に、充分な強度で封着することが出来る封着方法を提供することである。
【解決手段】本発明の封着方法は、複数の部材を封着材料を用いて500torr以下の減圧条件下で封着するにあたり、封着材料として低融点ガラス粉末とチタン酸鉛固溶体粉末とを使用することを特徴とする。
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テルライトガラス組成物、それを利用した光導波路及び光増幅器
【課題】テルライトガラス組成物、それを利用した光導波路及び光増幅器を提供する。
【解決手段】TeO2、MoO3またはWO3、ZnO、M2O及びBi2O3を主成分からなるテルライトガラス組成物である。M2Oは、Li2OまたはNa2Oであるか、またはM2Oは、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O及びCs2Oのように+1の価電子を有する金属を含む金属酸化物のうち2つ以上の金属酸化物で構成され、M2O及びZnOの添加量は、同時に「0」とならないように構成される。
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リン酸塩系ガラス、前記リン酸塩系ガラスを用いた接合材、前記接合材を用いた磁気ヘッド、及びプラズマディスプレイパネル
【課題】 特に、熱膨張係数とガラス転移温度の適正化とともに、耐水性を向上させることが可能なリン酸塩系ガラス等を提供することを目的としている。
【解決手段】 実施形態のリン酸塩系ガラスは、P2O5を主成分とし、Li2Oを、2(mol%)〜15(mol%)、CeO2を、6(mol%)〜18(mol%)、Al2O3を、0(mol%)〜4(mol%)含む。リン酸塩系ガラスは磁気ヘッドの接合ガラス3として使用される。本実施形態によれば、安定したガラス状態を得ることができ、またガラス転移温度(Tg)及び屈伏温度(At)を所定範囲内に低下でき、さらに耐水性を向上させることが出来る結果、作業温度を低くでき、前記接合ガラス3とコア半体1,2との熱膨張係数差も小さくでき、さらに前記接合ガラス3の水分吸収を抑えることが出来るため、磁気ヘッドの特性の劣化を抑制することが出来る。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】 鉛や砒素などの化合物を実質的に含有せず、所定の光学恒数を有し、Tg及びTLが低く、耐失透性に優れた、プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量%で、SiO2:10〜30%、B2O3:15〜35%、Li2O:0〜10%(ただし、ゼロを含む)、Na2O:0〜5%(ただし、ゼロを含む)、K2O:0〜5%(ただし、ゼロを含む)、ただし、Li2O+Na2O+K2O:0〜15%、MgO:0〜25%(ただし、ゼロを含む)、CaO:0〜25%(ただし、ゼロを含む)、BaO:0〜25%(ただし、ゼロを含む)、SrO:0〜25%(ただし、ゼロを含む)、ZnO:18〜55%、ただし、MgO+CaO+BaO+SrO+ZnO:18〜55%、La2O3:5〜20%の各ガラス成分を有する構成とする。
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陰極線管用ファンネル
【課題】 ガラス中のAl2O3含有量が多くても、ガラスの歪点の上昇や熱膨張係数の低下を抑えることができる陰極線管用ファンネルを提供することである。
【解決手段】 本発明の陰極線管用ファンネルは、PbO含有量が10〜30質量%であり、0.6ÅにおけるX線吸収係数が40cm-1以上である鉛含有ガラスからなる陰極線管用ファンネルにおいて、前記鉛含有ガラスが、Al2O3、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnOを必須成分として含み、Al2O3含有量が5超〜10質量%、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)/Al2O3の値が0.60〜1.60であることを特徴とする。
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ガラスの調製方法
本発明は、粉末の形態の原料から、炉中でガラスを精製する方法に関し、炉は3つの側壁、頭頂部、端壁および気体もしくは液体燃料注入器に結合された少なくとも1つの空気注入器を含んでおり、これらの注入器の少なくとも1つは該側壁、頭頂部または端壁上に配置されている。該方法は次のステップ、空気および気体もしくは液体燃料を該注入器を通して注入すること、および粉末形態の原料がガラス浴を覆っている帯域の直ぐ近くで少なくとも1つの火炎を発生させること、含んでいる。
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無アルカリガラス基板
【課題】 本発明の目的は、薄肉のガラス基板であっても、製造工程におけるカセットへの出し入れが容易で、また実開平5−12098号に開示されているような梱包体への収納も容易であり、しかも電子機器に装着した時の画像面の歪みが少ない無アルカリガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 縦寸法が500mm以上、横寸法が600mm以上、厚みが0.7mm以上であり、重量%で、SiO2 50〜68%、Al2O3 14〜25%、B2O3 3〜15%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、SrO 0〜10%、BaO 0〜10%、ZnO 0〜5%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 5〜20%、ZrO2 0〜5%、TiO2 0〜5%、Y2O3 0〜5%の組成を有し、Al2O3、MgO、ZrO2、TiO2、Y2O3を合量で16重量%以上含有し、密度が2.6g・cm-3以下、ヤング率/密度が29GPa/g・cm-3以上であることを特徴とする。
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精密プレス成形用光学ガラス
【課題】 高屈折率、低分散性の光学ガラスであって、低いガラス転移温度と屈伏点を有し、精密プレス成形に好適な光学ガラスを提供すること。
【解決手段】 SiO2 −B2 O3 −La2 O3 −Gd2 O3 −Li2 O−Ta2 O5 −BaO−ZnOを基本組成とし、屈折率(nd)が1.72〜1.75、アッベ数(νd)が49.0〜52.0の範囲の光学恒数を有し、ガラス転移温度(Tg)が540℃以下で、かつ、屈伏点(At)が580℃以下であることを特徴とする精密プレス成形用光学ガラス。
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無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を8〜20、B2O3を16〜32、ZnOを37〜52、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を10〜15、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1かつ(CuO+La2O3+CeO2+CoO+MnO2)を0.1〜3含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−R2O系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜90)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴を有す。
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