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絶縁パターンの形成方法および電子部品の製造方法
【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を2回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が5質量%以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。
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耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス組成物
【課題】
色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる無鉛低融点ガラス組成物に於いて、耐腐食性を有するもの望まれている。
【解決手段】質量%で、SiO2を10〜35、B2O3を1〜20、ZnOを0〜20、R2O(Li2O、Na2O、K2Oから選ばれる一種以上の合計)を2〜20、Bi2O3を40〜80含み、実質的に鉛成分を含まないことを特徴とする耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス。
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光学ガラスの製造方法
【課題】Bi2O3やTeO2を多量に含有する光学ガラスにおいて、溶融及び/又は成形時の着色を抑えることができ、かつ大量生産時の種々の負荷にも耐えうる高強度の金属材料からなる部材を使用する光学ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、金を90%質量以上含有しかつ強化材を分散させた金属材料からなる部材を使用して、酸化物基準でBi2O3及び/又はTeO2を30質量%以上含有するガラス原料を溶融し、且つ/又は、ガラス原料が溶融した溶融ガラスを成形した光学ガラスである。金属材料からなる溶融槽を使用して、ガラス原料を溶解している。
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白色セラミックカラー組成物
【課題】光反射材料、特に、白色LED用リフレクターとして有用な、可視光全域で高反射率を有し、且つ耐熱性、耐湿性に優れた光反射層を形成できる新規な材料を提供する。
【解決手段】アルミナ、ジルコニア及びマグネシアからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、並びに低融点ガラス粉末を含有することを特徴とする、白色セラミックカラー組成物。
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ガラスセラミックス、その製造方法、それを含む光触媒、スラリー状混合物、光触媒部材、浄化装置、フィルタ、焼結体及びガラスセラミックス複合体
【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、Bi2O3成分を5〜95%の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Bi2O3結晶、Bi2WO6結晶、Bi2W2O9結晶、Bi2W3O12結晶、Bi2MoO6結晶、Bi2Mo2O9結晶、Bi2Mo3O12結晶、Bi2Ti2O7結晶、Bi2Ti4O11結晶、Bi4Ti3O12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO4結晶、Bi2Fe4O9結晶、BiVO4結晶、LiBiO3結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される1種以上を含有していてもよい。
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光学ガラス、プレス成形用ガラス素材および光学素子
【課題】屈折率ndが2.05を超え、アッベ数νdが18.5以下の高屈折率高分散特性を持ちながら、高品質のガラスの製造に適した粘性特性を有する光学ガラス、このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子を提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、
カチオン%表示にて、
P5+を16〜35%、
Bi3+を14〜35%、
Nb5+を10〜33%、
Ti4+を0〜18%、
W6+を0〜20%
含み、
Bi3+、Nb5+、Ti4+およびW6+の合計含有量が55%以上、
屈折率ndが2.05を超え、アッベ数νdが18.5以下であることを特徴とする光学ガラス。光学このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子。
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光学ガラス
【課題】Bi2O3を成分として含有しながらも、低い屈伏点を有し、且つ広い範囲の屈折率、高屈折率をもつ光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Bi2O3、Ag2O、P2O5からなる3成分の各100モル%をそれぞれ正三角形の頂点とする3元系成分組成図上において、前記3成分が下記A〜Gの7点を結ぶ線で囲まれる領域にある。A:(Bi2O3、Ag2O)=(2.5モル%、60.0モル%)、B:(Bi2O3、Ag2O)=(12.5モル%、50.0モル%)、C:(Bi2O3、Ag2O)=(12.5モル%、42.5モル%)、D:(Bi2O3、Ag2O)=(32.5モル%、2.5モル%)、E:(Bi2O3、Ag2O)=(17.5モル%、2.5モル%)、F:(Bi2O3、Ag2O)=(17.5モル%、10.0モル%)、G:(Bi2O3、Ag2O)=(2.5モル%、25.0モル%)。
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ガラスの製造方法
【課題】溶融ガラスMによる耐熱容器1の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器1に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器1内の溶融ガラスMを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器1を、この耐熱容器1の外側面を支える支持部材2を介して底部12を浮かせた状態で載置面3の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を40.0%未満、並びに、Ln2O3成分(式中、LnはY、La、Gd、Ce、Eu、Dy、Yb及びLuからなる群より選択される1種以上)を合計で60.0%未満含有し、1.75以上の屈折率(nd)と10以上のアッベ数(νd)を有する。
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結晶性封着材料
【課題】二次焼成工程で良好に軟化流動した後に、結晶が十分に析出する結晶性封着材料を提供する。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラーを含む結晶性封着材料において、ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、Bi2O330〜40%、B2O315〜25%、ZnO30〜40%、CuO0〜25%、Fe2O30〜5%を含有し、且つ耐火性フィラーとして、ZnO含有耐火性フィラー及びコーディエライトを含むことを特徴とする結晶性封着材料。
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光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら低いアッベ数(νd)を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でTeO2成分を20.0〜70.0%、P2O5成分を0%〜25.0%、B2O3成分を0%〜40.0%、Nb2O5成分を0%〜20.0%、La2O3成分を0%〜30.0%含有し、TeO2/(P2O5+B2O3)が1.0以上、B2O3+Nb2O5+La2O3が0%より多く60%以下であり、摩耗度が200以上800以下、ヌープ硬度が250以上650以下、粉末法耐水性クラス(RW)が1以上3以下、粉末法耐酸性クラス(RA)が1以上3以下である光学ガラス。
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ガラスセラミックス組成物および素子搭載用基板
【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するLTCC基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】25〜60質量%のガラス粉末と15〜50質量%のアルミナ粉末および10〜40質量%の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、SiO2を0〜50質量%、B2O3を15〜50質量%、Al2O3を0〜10質量%、ZnO、CaO、SrOおよびBaOから選ばれる1種以上を合計で3〜65質量%、Li2O、Na2OおよびK2Oから選ばれる1種以上を合計で0〜20質量%、Bi2O3を0〜50質量%含有し、「(B2O3+Bi2O3の含有量)の3倍」+「(ZnO+CaO+SrO+BaOの含有量)の2倍」+「(Li2O+Na2O+K2Oの含有量)の10倍」の値が200を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。
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Bi系ガラス及び超伝導材料の製造方法
【課題】配向性の良好な超伝導結晶を連続的に形成できるBi系ガラス材料及び及び超伝導材料の製造方法を提案する。
【解決手段】Bi系ガラスのガラス組成として、下記酸化物基準のモル%で、Bi2O310〜50%、SrO30〜60%、CaO5〜30%、CuO0〜10%を含有することを特徴とする。また、超伝導材料の製造方法は、銅又は銅合金の表面に、上記のBi系ガラスを接触させた状態で熱処理し、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。
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ビスマス系非鉛ガラス及び複合材料
【課題】メッキ処理によってオーバーコート層が侵食され難く、800℃以下の温度で焼成でき、しかも、コストパフォーマンスに優れたビスマス系非鉛ガラス及びそれを用いた複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系非鉛ガラスは、実質的にPbOを含まず、質量百分率で、Bi2O3 20〜48%、B2O3 6〜27%、SiO2 10〜30%、Al2O3 5〜20%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、ZnO 0〜7%未満、Li2O+Na2O+K2O 0〜10%、Al2O3/Bi2O3 0.33〜0.73であることを特徴とする。
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耐火性フィラー粉末、封着材料及び耐火性フィラー粉末の製造方法
【課題】低膨張、高強度であり、且つ低温で固相反応し得る耐火性フィラー粉末およびその製造方法を創案することにより、封着材料の低廉化を図るとともに、封着部位の破損及び未反応の原料に起因する封着不良を防止すること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラー粉末は、主結晶相がウイレマイト及びガーナイトであることを特徴とし、ウイレマイトとガーナイトの割合が、モル比で99:1〜70:30であることを特徴とする。
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ガラス組成物
【課題】焼成後にガラス膜内に発生する気孔を抑制ないしは防止できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量10万以上の有機高分子及びガラス粉末を含み、前記有機高分子及びガラス粉末の総重量を100重量%としたときの有機高分子の含有量が0.052〜0.25重量%であることを特徴とするガラス組成物に係る。
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組成物およびこれを用いた焼成物
【課題】ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。
【解決手段】リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む塗布に適したレオロジー特性を有する組成物であり、リオトロピック液晶の熱分解温度が300℃以下で、低軟化点ガラスの軟化点よりも40℃以上低いものである。
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ガラスレンズ製造方法
【課題】本発明によればBi2O3を含むガラス材料を用い、かつ、ガラスレンズ表面の白濁発生を低減するガラスレンズ製造方法を提供する。
【解決手段】上型と下型と胴型を含む成形型を用いたガラスレンズ製造方法であって、Bi2O3を含むプリフォーム原材料を成形型の加工面形状に合わせて研削・研磨加工するステップと、その後、プリフォーム硝材をプリフォーム硝材のガラス転移温度(Tg)以上、屈伏温度(Ts)以下の温度でアニールするステップと、その後、プリフォーム硝材2を成形型で加圧加工するステップと、を含む。
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ガラスフリット複合材料およびそれを用いた半導体装置
【課題】乗用車やトラック等に搭載されるパワー半導体装置は、エポキシ樹脂、シリカやアルミナ、フェライト複合体等の無機充填材からなる封止材により封止されているが、近年半導体装置の発熱が増加し、封止材が250℃の連続加熱または−50℃〜250℃の熱衝撃により半導体素子と封止材、および半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離および封止するための封止材の厚みが1mm以上でもクラックが生じないガラスフリット複合材料およびそれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、前記課題を解決すべくなされたものであり無機材料で耐熱性、絶縁性に優れた鉛を含有しないガラスフリット1〜30wt%、コージライト30〜90wt%、熱硬化性のシリコーン3〜40wt%、1〜1000ppmのアルカリ金属を含むシリカ1〜20wt%を含有する事を特徴とするガラスフリット複合材料。
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導電性被膜の製造法および該被膜を備えた支持体
【課題】金属粉末およびガラスフリットを含有するペーストの使用下に、ガラスおよび琺瑯鋼支持体上に、導電性被膜を製造することのできる方法を呈示する。
【解決手段】本発明は、スクリン印刷可能なアルミニウムペーストの使用下にガラスおよび琺瑯鋼上に導電性被膜を製造する方法に関し、使用すべきペーストはアルミニウム粉末40〜80質量%、殊に50〜75質量%、400〜700℃、殊に420〜580℃の軟化開始温度を有するガラスフリット5〜40質量%、殊に9〜25質量%、液状または熱可塑性の媒体10〜35質量%および焼結助剤0〜10質量%を含有する。ペーストで塗布された支持体は、500〜750℃、殊に590〜690℃で焼付けられる。支持体上の被膜は、100μオーム・cmより小さい、殊に10〜70μオーム・cmの範囲内の低い抵抗率および良好な接着により優れている。
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