【課題】平面表示装置で最適な気密容器の構成、特に支持枠の材料構成、平面表示装置の信頼性向上、製品コストの低廉化に関する。
【解決手段】ガラス粉末を含有する粉末材料を焼結させた支持枠を介し一対のガラス基板を備えた平面表示装置で、（１）ガラス粉末が、非晶質であり、（２）ガラス粉末が、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％含有するとともに、（３）一方のガラス基板と支持枠が融着されており、（４）他方のガラス基板と支持枠が低融点封着材料で封着されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の粒度および熱膨張係数等を改良し、封着材料の熱的安定性を向上させるとともに、封着材料の流動性を向上させることにより、スローリーク等が発生し難い平面表示装置を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の平均粒子径Ｄ₅₀が９〜２４μｍ、９０％粒子径Ｄ₉₀が３２〜９０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、平面表示装置の支持枠の形成に好適なガラス組成物を提案し、平面表示装置の信頼性向上およびコストの低廉化に資することである。
【解決手段】本発明の支持枠形成用ガラス組成物は、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の吸収や透過が良好であり、かつ、オーバーコート樹脂層との密着強度が良好である厚膜保護ガラス層を形成するための厚膜保護ガラス組成物およびペーストを提供する。
【解決手段】軟化点が高いガラス粉末Ｂの軟化点ＳＰｂ（℃）が、軟化点が低いガラス粉末Ａの軟化点ＳＰａ（℃）に対して５０℃以上高い２種類のガラス粉末を用いて、厚膜保護ガラスペーストを得て、該厚膜保護ガラスペーストを印刷した後、軟化点ＳＰａに対して２０℃低い温度よりも高く、軟化点ＳＰｂに対して２０℃低い温度よりも低く、かつ、６５０℃以下である焼成温度ＴＣ（℃）で焼成する。ガラス粉末Ａに対するガラス粉末Ｂの質量比Ｍｂ／Ｍａは０．０５〜０．２とする。ガラス粉末Ａの組成は、鉛を含有せず、ＳｉＯ₂：５〜２０質量％、Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃：２〜２０質量％、Ｂｉ₂Ｏ₃：４０〜８０質量％であり、かつ、ガラス粉末Ｂの組成は、鉛を含有しない。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を０〜７、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを７〜２０、Ｂi_２Ｏ_３を６０〜７８、ＢaＯを０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０〜１０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１、ＴｉＯ_２を０〜５含むことを特徴とするＢ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｂi_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラス。
３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜１００）×10^−７／℃、軟化点が４５０℃以上５５０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１．７の屈折率をもつ高屈折率ガラスの製造において、ガラスに含まれる還元感受性成分の還元が減じられ、さらに好ましくは防止される製造方法を提供する。
【解決手段】清澄槽及び／又は溶融るつぼ・均質化装置へ酸化剤を導入することによって、ガラスの還元感受性成分が清澄処理中に還元されることが減じられ、さらに好ましくは回避されるようにする。酸化剤として、酸素及び／又はオゾンが好ましく用いられる。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイの各種部材や蛍光発光管などに用いられるフォトリソグラフィー処方による微細パターン加工を可能とする焼成用感光性組成物を提供する。また、焼成時に無機成分の焼結に伴う収縮を抑制し、より焼成前に近い状態の微細なパターンを得ることができる焼成用感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）感光性有機成分と、（Ｂ）ビスマス系ガラス粉末を有する無機成分と、（Ｃ）金属ジケテネート、金属アルコキサイド、アルキル金属、金属カルボン酸塩から選ばれる少なくとも１種の金属キレート化合物を有する焼成用感光性組成物であり、（Ｃ）の金属キレート化合物が組成物に含まれる固形分全体に対して０．０１重量％以上５重量％未満含まれる焼成用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰなどのフラットディスプレイパネルの誘電体層あるいは隔壁の形成に用いられるビスマス系無鉛粉末ガラスとして、高歪点ガラスなどが用いられたガラス板上で焼成可能でありながら、しかも、焼成時に気泡が形成されることを抑制し得るビスマス系無鉛粉末ガラスを提供することを課題としている。
【解決手段】酸化物換算の質量％でＢｉ₂Ｏ₃：３０〜７５％、ＳｉＯ₂：１〜１５％、Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％、ＺｒＯ₂：２〜８％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜５％、ＺｎＯ：０〜３０％、ＴｉＯ₂：０〜５％、および、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの１種類以上が合計で０〜１５％含有されているビスマス系無鉛ガラスが用いられており、しかも、体積基準の累積粒度分布曲線の５０％値が２．０μｍ未満となる粉末状に形成されていることを特徴とするビスマス系無鉛粉末ガラスを提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は実質的に鉛成分を含まない酸化ビスマスを主成分とするガラスで各種部材の接合、封着に使用することができる還元されにくい無鉛組成物を提供することを目的としている。
【解決手段】質量％でＢｉ₂Ｏ₃を４０〜８５％、Ｂ₂Ｏ₃を５〜３０％、ＣｅＯ₂を０．１〜１０％、ＳｉＯ₂を０〜２０％、ＲＯを０〜５５％、Ｒ₂Ｏを０〜１０％、Ｒ₂Ｏ₃を０〜２０％、ＲＯ₂を０〜３０％含有するガラス粉末８０〜９９．７質量％と、酸化剤０．３〜２０質量％とを混合してなる組成物。ただしＲＯとはＺｎＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＦｅＯ、ＭｎＯ、ＣｒＯ、ＣｕＯから選ばれる少なくとも一種、Ｒ₂ＯとはＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、Ｃｕ₂Ｏから選ばれる少なくとも一種、Ｒ₂Ｏ₃とはＡｌ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃から選ばれる少なくとも一種、ＲＯ₂とは、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂から選ばれる少なくとも一種である。
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【課題】鉛を含有せず、また脱ガス処理時及び真空封着処理時等の焼成時において結晶析出が少なく、５５０℃以下の低温で良好に且つ歩留まりよく、確実に封着を行うことができる金属製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】金属製真空二重容器の排気口を真空封着するのに用いられる無鉛ガラス組成物であって、酸化物換算で、Ｂｉ_２Ｏ_３：７５．０〜８３．０重量％、Ｂ_２Ｏ_３：５．０〜１０．０重量％、ＺｎＯ：５．０〜１０．０重量％、ＢａＯ：２．０〜５．０重量％、ＣｕＯ：０．５〜２．０重量％（但し２．０重量％を含まず）、ＣｏＯ：０．０５〜２．０重量％を含有し、ＰｂＯとＳｉＯ_２とを有効成分として含有しない金属製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物である。 （もっと読む）

【課題】１５以上の高い比誘電率と、０．３％以下の低い誘電損失とを有し、また、ガラス移転点（Ｔｇ）も低くて、高周波回路素子、ディスプレイ等の電子回路用基板や誘電材料の形成に好適に適用できるガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を２０〜９０％含有するガラスであって、１ＭＨｚでの比誘電率が１５以上で、誘電損失が０．３％以下である。また、好ましくは、ガラス転移点（Ｔｇ）が５００℃以下である。 （もっと読む）

【課題】低融点ガラス組成物として、無鉛系であって、低い温度で封着や焼結造形等の加工を行え、鉛系ガラスに代替し得る充分な実用的性能を具備するものを提供する。
【解決手段】Ｌｉ₂ Ｂ₄ Ｏ₇ からなる第一成分と、ＺｎＯ及びＢａＯの少なくとも一方からなる第二成分と、ＴｅＯ₂ 、ＫＰＯ₃ 、Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、ＳｎＯ、Ｎｂ₂ Ｏ₅ 、Ｐ₂ Ｏ₅ より選ばれる少なくとも一種からなる第三成分とを含有してなる。 （もっと読む）

【課題】ベースへの所望の接着性および非常に良好な絶縁性を有する厚膜タイプの誘電体を提供すること。
【解決手段】本発明の誘電体は、感光性組成物からなる下側誘電体層と、感光性組成物からなり、上記下側誘電体層の上に形成された上側誘電体層とを含む。上記下側誘電体層に使用される主要ガラス粉末の軟化点（Ｔ１）と、上記上側誘電体層に使用される主要ガラス粉末の軟化点（Ｔ２）と、上記主要ガラス粉末の焼成温度（Ｔ３）とが関係Ｔ１＜Ｔ３＜Ｔ２＜Ｔ３＋３０℃を満たす。 （もっと読む）

【課題】押し出し成型法以外の方法によってエアクラッド型光ファイバを製造する方法の提供。
【解決手段】中空ガラスファイバの中央にその軸方向に延びる光伝送ガラスが保持されている光ファイバの製造方法であって、中心軸の周りにその軸方向に延びる３個以上の直径が互いに等しい孔１１が、各孔の軸と前記中心軸との距離が等しくなるように、また各孔の軸間の距離が等しくなるように、かつこれら孔によって囲まれている部分が前記光伝送ガラスとなるべき部分となるように形成されているガラスロッド１０を、その一端を封じて前記孔を膨張させるように加圧しながら加熱して引き伸ばす工程を経て、前記各孔の間のガラスが板状であるプリフォームとし、このプリフォームを線引きして、前記光伝送ガラスが板状ガラスによって保持されている光ファイバとする光ファイバ製造方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、生産性や耐熱安定性に優れ、さらに加工性にも優れる封着材料などの熱膨張性の調整に有効な六方晶リン酸ジルコニウム系低熱膨張性フィラーを提供することおよびそれを用いたガラス組成物を提供することである。
【解決手段】
本発明は、湿式法または水熱法により合成した六方晶リン酸ジルコニウムからなることを特徴とする低熱膨張性フィラーであり、当該低熱膨張性フィラーを含有するガラス組成物である。 （もっと読む）

【課題】本発明はフラットパネルディスプレイの隔壁などの各種部材に用いる感光性ペースト組成物に関して、その感光性ペースト組成物の膜のタック性を制御し、露光時のフォトマスクの汚れなどの問題を生じないことによって、高精細なパターン形成が可能とする感光性ペースト組成物を提供する。
【課題手段】少なくともガラス粉末を含む無機粒子と感光性有機成分を有する感光性ペースト組成物であって、感光性有機成分に含まれるバインダーポリマーのガラス転移温度が３０〜１００℃であり、酸化物換算表記で７０〜９５重量％のＢｉ_２Ｏ_３、３〜１５重量％のＳｉＯ_２、５〜２０重量％のＢ_２Ｏ_３、１〜１０重量％のＺｎＯ、０〜３重量％のＺｒＯ_２の組成範囲のガラス粉末を含有する感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】既存のＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系のシースヒータモジュール密封素材の代わりとなり得る程度に類似した電気的特性及び物性を有するとともに、ＥＵのＷＥＥＥ及びＲｏＨＳ指針にも符合し得る電気電子用無機系絶縁素材として、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｃｒ^＋６などの規制成分が含まれていないシースヒータモジュール密封用高絶縁性の無鉛素材を提供する。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏを基本組成とし、これにＡｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＢａＯ_２を添加してなる母物質を固化した後、粉砕して製造された成形粉末パウダーから構成されており、６．９±０．５ｇ／ｃｃの比重、４００°Ｃのガラス転移温度 、および７０〜１１０×１０^−７の熱膨張係数などの材料固有物性を有するとともに、常温において湿度及び露出時間と関係なしに∞ＭΩ値の絶縁特性などを発現するシースヒータモジュールの密封用高絶縁性の無鉛素材を構成する。 （もっと読む）

【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点（Ｔｇ）並びに耐水性や耐酸性等の化学的耐久性に優れ、適切な熱膨張係数を有した信頼性の高いビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、酸化物基準の質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を５０〜９０％含有し、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５００℃以下、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス３〜１である。さらに、粉末法による化学的耐久性（耐酸性）がクラス４〜１である。また、熱膨張係数が９８×１０^−７〜１３０×１０^−７／℃の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】人体に有害な鉛を含むことなく、ステンレス製真空二重容器の封着に使用されるものとして、封着の際の熱処理によってもステンレス製真空二重容器の性質に悪影響を与えることなく、封着を確実に行い、且つフッ素塗装の焼成処理温度によっても封着が破れたりするのを確実に防止することができるステンレス製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】本発明のステンレス製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物は、ステンレス製真空二重容器の排気口を真空封着するのに用いられる無鉛ガラス組成物であって、酸化物換算で、Ｂｉ_２Ｏ_３：７０〜８５重量％、Ｂ_２Ｏ_３：５〜１５重量％、ＺｎＯ：０．１〜７重量％、ＳｉＯ_２：１〜１０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０．１〜６重量％、ＢａＯ：０．１〜６重量％を含有する組成としている。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有するガラスにおいて、良好な透過率を有する光学ガラス成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】構成成分としてＢｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラス成形品を製造する方法であって、成形された光学ガラス及び／又は成形中の光学ガラスを、酸化性雰囲気又は非還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする方法。光学ガラスが、その構成成分として酸化物基準でＢ_２Ｏ_３成分を含有するため、透過率を改善させることができる。 （もっと読む）