【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物を提供する。
【解決手段】α−石英（α−ＳｉＯ_２）、二珪酸リチウム（Ｌｉ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、モノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）からなる群より選ばれる１種または２種以上の結晶相を含む無機組成物。或いは、少なくともモノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）の結晶相を含む無機組成物。そして、これらの無機組成物に含有される結晶相を示す粒子の平均粒子径は１μｍ以下である。また、無機組成物のリング曲げ強度が３００ＭＰａ以上であり、研磨加工後の表面粗度Ｒａ（算術平均粗さ）が１０Å以下である。 （もっと読む）

【課題】低膨張で微泡や脈理がなく、反射光学系用部材として好適なＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラスを製造できるＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】本ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２ガラスの製造方法は、粒径１〜１０００μｍのＳｉＯ_２粉に四塩化チタンを所定の割合で添加し、混合した後、もしくは混合しながら、酸化雰囲気中で熱処理し、この熱処理粉を減圧炉中のカーボン型に投入後、１０ｔｏｌｌ以下で溶融する。 （もっと読む）

【課題】還元反応による発泡が少なく、安定したアンバー発色を得ることができるカラーフィーダ用ガラス着色剤を提供する。
【解決手段】着色成分としてＳを０．５〜１０重量％含有すると共に、還元剤として、Ｃ：０．１〜５重量％及びＳｉ：１〜２０重量％を含有するカラーフィーダ用ガラス着色剤。Ｓｉの還元反応により、ガラスの主成分であるＳｉＯ_２の網目構造が生成されるため、従来の還元剤のような激しい発泡を引き起こすことなく安定した発色を得ることができる。更に、発色補助剤として酸化剤を含有させることでより安定した発色を得ることができる。また、前記カラーフィーダ用ガラス着色剤をアンバー色ガラス素地に添加することにより、濃アンバー色ガラスを製造することもできる。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させずに、かつ光学性能を劣化させずに、光学歪の発生と屈折率低下を抑止することができる、ガラス光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】所定形状に予備成形したガラス素材を加熱により軟化し、成形型を用いてプレス成形してガラス光学素子を得るプレス成形工程を含むガラス光学素子の製造方法。前記ガラス素材は、光弾性定数Bが2.00×10^-12／Pa未満の光学ガラスからなり、かつ、上記製造方法において得られる光学素子の屈折率nd(L)は、該光学素子を精密アニールに供して得られた光学素子の屈折率nd（S）に比べ、30×10^-5以上低い。 （もっと読む）

【課題】封着後の強度が高い無鉛の封着用ガラスを得る。
【解決手段】質量百分率表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ７７〜９５％、ＭｇＯ＋ＺｎＯ １〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２〜１０％、ＳｉＯ_２ ０〜１％、ＣｅＯ_２ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ ８５〜９８％である無鉛の封着用低融点ガラス。Ｂｉ_２Ｏ_３ ７７〜９５％、ＭｇＯ＋ＺｎＯ １〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２〜１０％、ＳｉＯ_２ ０〜１％、ＣｅＯ_２ ０〜１０％、からなり、ＣｕＯを含有しない無鉛の封着用低融点ガラス。Ｂｉ_２Ｏ_３ ７７〜９５％、ＭｇＯ＋ＺｎＯ １〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２〜１０％、ＳｉＯ_２ ０〜１％、ＣｅＯ_２ ０〜１０％からなり、ガラス転移点が２８０〜３６０℃である無鉛の封着用低融点ガラス。 （もっと読む）

【課題】耐熱性ガラスをカレット原料として用いた場合に安定な操業を可能とするガラス短繊維の製造方法の提供。
【解決手段】 軟化点が７５０℃以上であるガラスを原料として、そのガラスを粉砕して目開き３１．５ｍｍのふるいを通過したカレットを原料の１重量％以上使用するガラス短繊維の製造方法とする。カレット原料としては、重量％で、ＳｉＯ₂を５０％以上８５％以下、Ａｌ₂Ｏ₃を２０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を２０％以下、Ｎａ₂Ｏを１０％以下、Ｋ₂Ｏを１５％以下、ＣａＯを１５％以下、ＭｇＯを１０％以下、ＳｒＯを１５％以下、ＢａＯを１５％以下及びＺｒＯ₂を１０％以下含むガラス組成物を用いればよい。 （もっと読む）

【課題】 ＮｉＯを含むガラス物品の製造方法で、ＮｉＳの生成を極力減少できるガラス物品の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 硫黄化合物を含むガラスバッチに、酸化ニッケル源として、珪ニッケル鉱を混合して、熔融することを特徴とするガラス物品の製造方法である。また、前記珪ニッケル鉱は粒子状に粉砕して用いることが好ましい。さらに、前記珪ニッケル鉱は、Ｃｒ成分やＦｅ成分を予め除去して用いることが好ましい。本発明は、ＮｉＯを含むソーダライムガラス組成であれば、適用可能なガラス物品の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】ガラス基板の記録再生用領域における任意のガラス表面において、５５４．３４μｍ×６１７．８７μｍの矩形領域を選択し、光を用いて該領域を走査し、基板面からの反射光と基準面からの反射光とを合成し、合成点に生じた干渉縞より、２μｍ〜５００μｍの波長の凹凸を抽出した表面形状を微小うねりとし、前記ガラス基板の記録再生用領域において、５μｍ×５μｍの矩形領域を選択し、該領域の凹凸を原子間力顕微鏡で測定して得られる表面形状を表面粗さとしたときに、 前記微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、且つ、前記表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であること。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとし、かつその透明性を高くし、銀発色を抑制する。
【解決手段】モル％で、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜４５％、ＳｉＯ_２ １３〜４０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜２０％、ＺｎＯ ０〜３０％、ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１２％、から本質的になり、ＰｂＯおよびＡｌ_２Ｏ_３のいずれも含有しない電極被覆用ガラス。表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、前面基板を構成するガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置。 （もっと読む）

積層ガラス物品およびその作製方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】充分な機械的強度があり、かつガラス基板上の金属磁性膜の腐食を改善する磁気ディスク基板用ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】組成が質量％表示で実質的に、ＳｉＯ_２ ５０〜６５、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１５、Ｎａ_２Ｏ ２〜７、Ｋ_２Ｏ ４〜９、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜１４、ＭｇＯ ０．５〜５、ＣａＯ ２〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ ２．５〜１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １２〜２５、ＺｒＯ_２ １〜６、からなり、失透温度が１０^４ポイズに相当する粘度を持つ温度より低いガラスからなるガラス板を用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、鉛硼酸系ガラスと同等の４８０℃以下の温度で焼成が可能であるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。また、本発明の第二の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、ＰＤＰ製造工程において、５００℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜４８０℃の二次焼成で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３５％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．０１〜５％を含有することを特徴とする。また、本発明のビスマス系封着材料は、上記ビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 ４０〜９５体積％と、耐火性フィラー粉末 ５〜６０体積％とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、高歪点ガラス基板と無アルカリガラス基板があるが、それぞれ問題点があり、広い分野に使用できるガラス基板がない。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５２〜５９、Ａｌ_２Ｏ_３が３〜１２、Ｎａ_２Ｏが２．０〜３．５、Ｋ_２Ｏが０．３〜１．５、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ）が２．５〜４、Ｎａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．５５〜０．８８、ＭｇＯが３〜５．５、ＣａＯが４〜８、ＳｒＯが５〜１１、ＢａＯが９〜１７、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が２５〜３２、ＺｒＯ_２が１〜４．５であるディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

記載されているのは、フラットパネルディスプレイデバイス、例えば、アクティブマトリックス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）において基板として用いるのに所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないボロアルミノシリケートガラスである。その特定の態様によれば、このガラスは、温度に応じて良好な寸法安定性を有している。 （もっと読む）

【課題】４８０℃以上で一次焼成しても、失透することがなく、その後に供される二次焼成で良好な流動性および封着強度を確保することが可能なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ２０〜３５％、ＺｎＯ １０〜２５％、ＢａＯ １〜１５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ３〜１５％のガラス組成を含有し、且つモル分率でＢｉ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃ １．０〜１．７５（但し、１．７５は含まない）、ＺｎＯ／（ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ） １．０〜３．５の関係を満たすことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】 波長３１３ｎｍを含む有害紫外線の遮蔽性に優れており、蛍光ランプ用途として十分な耐紫外線ソラリゼーション性を持ち、蛍光体の劣化や封入水銀量の消費が少ない蛍光ランプ用ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 質量%で、ＳｉＯ_２５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜７％、Ｂ_２Ｏ_３１０〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ０．１〜３%、Ｋ_２Ｏ３〜９．５%, ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ０．１〜５％、Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＳｎＯ_２＋ＺｒＯ_２＋ＺｎＯ０．０１〜５％、ＣｅＯ_２＋ＷＯ_３＋Ｖ_２Ｏ_５０．１〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３０．００１〜０．０５％を含有し、ＪＩＳ‐Ｒ‐３１０２に定める０〜３００℃の範囲の平均線膨張係数が３６〜５７×１０^−７／℃である硼珪酸系ガラスからなり、実質的にＮａ、 Ａｓ、 Ｓｂ、 Ｐｂを含有しないことを特徴とする。
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【課題】鉛成分を含有することなく、各種の法規制に対応することが可能であり、さらに厚盛した際に剥離などの不具合が発生することのない耐久性に優れた陶磁器用絵具を提供することを課題とする。
【解決手段】陶磁器用絵具は、各酸化物成分を計量し、混合する計量混合工程と、混合された原料混合物を１３００℃の溶融温度で溶融させる溶融工程と、炉内で溶融された溶融ガラスを急冷する急冷工程と、冷却されたガラスフリットを粉砕し、粉末にする粉末化工程と、粉末化された粉末体から水分を除去し、乾燥させる乾燥工程とを具備する製造方法によって製造される。 （もっと読む）

ここに開示された主題は、広く、ガラスを保護するためのガラス組成物およびその組成物の製造方法と使用方法に関する。
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【課題】ガラス板のトップ面に銀電極を形成しても、銀電極下面及びその周辺に発生する黄色発色を抑えることができるディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フロート法により溶融スズ上で溶融ガラスを浮上搬送させながらガラス板に成形し、徐冷炉入口付近または徐冷炉上流側において、該ガラス板表面に連続的にＳＯ_２ガスをスプレーして保護層が形成されたガラス板であって、前記ガラス板の溶融スズと接触していない側のガラス板表面から０．１μｍの深さまでの平均Ｈ原子濃度が２．５モル％以下であるディスプレイ基板用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】コバールを導入金属とし、耐ソラリゼーション性に優れた細径蛍光ランプを作製することが可能な細径蛍光ランプ用外囲器と、これを用いて作製した細径蛍光ランプを提供する。
【解決手段】蛍光ランプの外囲器として、Ｓｂ₂ Ｏ₃ を重量百分率で０．１〜４％ガラス組成中に含有し、３０〜３８０℃における線膨張係数が４３〜５５×１０^-7／℃（４３×１０^-7／℃を除く）であるホウケイ酸ガラスで構成された外径５．２ｍｍ以下、肉厚０．６ｍｍ以下の管状ガラスからなるものを使用する。 （もっと読む）