本発明は、広い波長範囲において発光機能や光増幅機能を示すガラス組成物を提供する。このガラス組成物は、ビスマス酸化物、酸化アルミニウム、およびガラス網目形成体を含み、ガラス網目形成体の主成分が二酸化ゲルマニウムであり、ビスマス酸化物に含まれるビスマスが発光種として機能し、励起光の照射により赤外波長域で蛍光を発する。このガラス組成物は、さらに１価または２価の金属の酸化物を含んでいてもよい。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ₂およびＹｂ₂Ｏ₃系に属し、必要ならば、その特性を調節するために添加剤を含有することができるＸ線不透過ガラスに関する。前記ガラスの製造方法およびその使用、特に歯科用ガラスの形態での使用もまた開示されている。 （もっと読む）

紫外波長領域における、特に約２５０ｎｍ未満の波長における紫外線による光学的損傷に対して高い耐性を有し、低いレーザー誘起波面歪を示す合成シリカガラス光学材料、詳しくは、約１９３ｎｍにおいてかつ約７０μＪ／ｃｍ^２のフルエンスで動作するレーザーの百億パルスに曝された場合に、６３３ｎｍで測定されたレーザー誘起波面歪が約−１．０と１．０ｎｍ／ｃｍの間である合成シリカガラス光学材料が開示されている。本発明の合成シリカガラス光学材料は、約６００ｐｐｍ未満の、好ましくは２００ｐｐｍ未満のＯＨ濃度レベルと、約５．０×１０^１７分子／ｃｍ^３未満の、好ましくは約２．０×１０^１７分子／ｃｍ^３未満のＨ_２濃度とを有している。合成シリカガラス光学材料の製造方法の請求項も含んでいる。
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本発明は、アルカリアルミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料およびそのアルカリアルミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料を製造する方法を提供する。このガラス材料は、約２４０から３５０ｎｍの間に及ぶ波長、特に、エキシマ・レーザの標準的な２４８ｎｍで、感光性にすることができ、それゆえ、光学素子に形成できる。また、アルミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料に屈折率パターンが形成され、その屈折率パターンが、高屈折率の領域と低屈折率の領域を含み、高屈折率の領域と低屈折率の領域との間の差が６３３ｎｍの波長で少なくとも４×１０^-5である光学素子も開示されている。
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【課題】形態及び特性に関して、可視域における透過性、ＵＶ域における遮断性、耐露光性、低熱膨張係数、及び優れた耐薬品性等の一定の要求を満たし、かつ新規用途に利用可能な該ガラスセラミック材料、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５を０〜４重量％未満及び／またはＣａＯを０〜８重量％未満含むガラスセラミックをＵＶ光遮断ランプの一部として使用する。 （もっと読む）

（ｉ）Ｎｂ₂Ｏ₅またはＴａ₂Ｏ₅の少なくとも１種と、（ｉｉ）（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃、（ｂ）ＲＥＯ、または（ｃ）ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも１種の内の少なくとも２種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子（たとえば、研磨粒子）、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
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【課題】 本発明は、レーザー活性石英ガラスから作成されるコンポーネントのための任意の形状および大きさの素材の、経済的な生産方法に関する。
【解決手段】方法は次の工程を含む：
ａ）少なくとも４０重量％の固形分を有し、ＳｉＯ_２ナノパウダーおよびドーパントを含み、液体中に希土類金属および遷移金属の陽イオンを含む、分散物を供給する工程、
ｂ）３５重量％未満の含水量および少なくとも０.９５ｇ／ｃｍ^３の密度を有する球状多孔性粒状粒子であるドープされたＳｉＯ_２粒状体が形成されるまで、水分を除去しながら分散物を運動させることによる造粒工程、
ｃ）ＳｉＯ_２粒状体を少なくとも温度１０００℃に加熱することにより乾燥させ精製して、１０ｐｐｍ未満のＯＨ含量を有するドープされた多孔性ＳｉＯ_２小粒を形成する工程、および
ｄ）ドープされたＳｉＯ_２小粒を還元雰囲気中で焼結または溶融させて、ドープされた石英ガラスの素材を得る工程。 （もっと読む）

約０μｍから約２μｍの深さにおける金属イオン濃度、特にＡｇ濃度が０．６質量％、好ましくは０．８質量％、最も好ましくは１質量％よりも高い抗菌面を有する製品に関する発明が開示されている。 （もっと読む）

無定形多孔質の連続気泡ＳｉＯ_２成形体であって、該成形体が２層からなり、該層が同一の構造および組成を有することを特徴とする、無定形多孔質の連続気泡ＳｉＯ_２成形体。
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０．２μｇ／ｇ未満の金属含量を有している熱分解により製造された高純度の二酸化ケイ素は、３０ppb未満の金属含量を有している四塩化ケイ素を火炎加水分解を用いて反応させることにより製造される。前記二酸化ケイ素は、高均質性を示すゾル−ゲル法を用いる高純度ガラスの製造に利用されることができる。これは光ファイバー紡糸用の母材として使用されることができる成形された物品の製造に使用されることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は赤外線に透明なガラス質組成物特にガラスセラミック型のガラス質組成物、その製造及び使用に関する。
【解決手段】前記の組成物はモル％で、Ge 5〜40、Ga ＜1、S＋Se 40〜85、Sb＋As 4〜40、MX 2〜25、Ln 0〜6、添加剤 0〜35を包含する。但しMはRb、Cs、Na、K及びZnから選んだ少なくとも１種のアルカリ金属であり、Xは塩素、臭素又はヨウ素の少なくとも１種の原子であり、Lnは少なくとも１種の希土類であり、添加剤は少なくとも１種の金属及び／又は少なくとも１種の金属塩よりなる少なくとも１種の添加剤であり、該組成物に存在する諸成分の全てのモル％の合計は100とする。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも５０重量％のチタニアと、少なくとも５重量％の酸化ビスマスとを含んでなるミクロスフィア（すなわち、ビーズ）に関する。このガラスミクロスフィアは、ジルコニアをさらに含んでなる。また本発明は、かかるミクロスフィアを含んでなる再帰反射性物品、特に路面表示にも関する。
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【課題】 高純度でシラノール基含量の極めて少ない合成石英ガラスを、効率よく得ることのできる石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカを加熱し、第１加熱段階として１５０℃〜４００℃の温度範囲に３時間以上保持した後、第２加熱段階として１１００℃〜１３００℃の温度範囲に１時間以上保持する。 （もっと読む）