【課題】活性炭の細孔を潰さずに、且つ、活性炭の疎水性を上げる疎水性金属酸化物粒子を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるケイ素化合物で表面修飾されたことを特徴とする疎水性金属酸化物粒子。金属酸化物粒子としてはオルガノシリカゾルが好ましい。
Ｒ-Ｓｉ（ＣＨ_３）_ｎ（−Ｘ）_３−ｎ （１）
ただし、Ｒは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜３のアルキニル基又は炭素数６〜８のアリール基、Ｘは炭素数１〜３のアルコキシ基、Ｃは炭素原子、Ｈは水素原子、Ｓｉはケイ素原子、ｎは０〜２を表す。 （もっと読む）

【課題】高純度且つ球状のシリカ粒子であって、単分散性が良好（ＣＶ値が２０以下）な球状のシリカ粒子とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】１）ナトリウム、２）カルシウム及びマグネシウムから選ばれるアルカリ土類金属、３）鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン及びコバルトから選ばれる重金属類並びに４）ヒドロキシ陰イオン以外の陰イオンの含有量がそれぞれ１重量ｐｐｍ以下であり、且つ、下記式（１）：
ＣＶ＝（σ／Ｄ）×１００ （１）
〔式中、Ｄは平均粒子径を示し、σは標準偏差を示す。〕
により算出されるＣＶ値が２０以下である、
ことを特徴とする球状の高純度単分散シリカ粒子。 （もっと読む）

【課題】超臨界二酸化炭素を接触させる工程を経て得られるシリカ粒子の特性バラツキを抑制したシリカ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子分散液又はシリカ粒子が収容された処理槽に、超臨界二酸化炭素を導入・排出して、前記シリカ粒子分散液又は前記シリカ粒子に前記超臨界二酸化炭素を接触させる第１工程と、前記処理槽から排出した超臨界二酸化炭素の情報を検出し、前記検出した情報に基づいて、前記第１工程を停止する第２工程と、
を有するシリカ粒子の製造方法。
である。 （もっと読む）

【課題】粗粉が少なく、高疎水化度の疎水性シリカ粒子が得られる疎水性シリカ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】親水性シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する分散液準備工程と、超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液の溶媒を除去する溶媒除去工程と、溶媒除去工程と連続して、超臨界二酸化炭素中で、疎水化処理剤により親水性シリカ粒子の表面を疎水化処理する疎水化処理工程と、を有する疎水性シリカ粒子の製造方法
である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属不純物がより少なくかつ緻密なシリカ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】１）アルカリ触媒及び水を含む母液を調製する工程及び
２）ケイ酸アルキルを加水分解して得られた加水分解液を前記母液に添加する工程
を含むコロイダルシリカの製造方法であって、
前記加水分解液を前記母液に添加する添加速度が、４１ｇシリカ／時／ｋｇ母液以下であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】取り扱い性に優れ、高い流動性をもつ無機粉体混合物を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子をシランカップリング剤とオルガノシラザンとで表面処理して体積平均粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍであるシリカ粒子材料を得る。シランカップリング剤とオルガノシラザンとのモル比を特定の範囲にすることで、シリカ粒子材料の表面に存在するＸ^１（フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基）とＲ（炭素数１〜３のアルキル基）との存在数比を特定の範囲にし、樹脂に対する親和性と凝集抑制とを両立させる。このシリカ粒子材料をそれよりも粒径が大きい無機粉末と混合した無機粉体混合物は高い流動性をもつ。 （もっと読む）

【課題】 温度が６０℃で湿度が９０％（ＲＨ）という様な過酷な湿熱環境下でもバリア性が劣化せずに表示デバイス内部に水が浸入しないという良好なバリア性を有すると共に、端面からの酸素及び水蒸気の浸入をも防ぐことができるガスバリア性フィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第１の耐候性コート層、蒸着層、及び、第２の耐候性コート層を、この順に設けたガスバリア性フィルム積層体において、該第１の耐候性コート層、及び又は、第２の耐候性コート層が、架橋性基を有するフッ素含有共重合体と該架橋性基と反応する硬化剤とにより形成されたフッ素系樹脂からなることを特徴とするガスバリア性フィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】製造バッチ間において安定したデバイス特性を有するシリコンエピタキシャルウエーハ製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン単結晶基板上にシリコンエピタキシャル層をシリコン原料ガスから気相成長させる工程を有するシリコンエピタキシャルウエーハの製造方法であって、複数のシリコン原料ガスのロットを用いてシリコンエピタキシャルウエーハが製造される場合において、前記シリコン原料ガスのロットに含まれる炭素含有化合物濃度のうち最大となる濃度を最小濃度値とし、１０００ｐｐｍｗを最大濃度値とし、該最小濃度値以上該最大濃度値以下の炭素含有化合物を、前記シリコン原料ガスに混入し、又は前記シリコン原料ガスと供に気相成長装置内に供給することにより、前記シリコンエピタキシャル層を気相成長させる。 （もっと読む）

【課題】粒子径のそろった珪素微粒子を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、不活性雰囲気下において、珪素源と炭素源とを含む混合物を焼成する焼成工程と、混合物を焼成することにより生成した気体を急冷し、珪素微粒子と酸化珪素とを含んだ複合粉体を得る急冷工程と、酸化雰囲気下において、複合粉体を加熱する加熱工程と、加熱された複合粉体から一酸化珪素及び二酸化珪素を除去する除去工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】強固に凝集することがなく流動性に優れる、疎水化された表面処理無機酸化物粒子を、簡易に製造する方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、少なくとも下記の工程（１）乃至（３）を以下に記載の順で行うことを特徴とする方法である；（１）塩基性触媒の存在下における金属アルコキシドの加水分解及び重縮合反応によって得られる無機酸化物粒子の分散液に、シリコーンオイル、シランカップリング剤及びシラザンよりなる群から選ばれる少なくとも１種類の表面処理剤を添加して前記無機酸化物粒子の表面処理を行う工程、（２）前記表面処理後の無機酸化物粒子の分散液に、二酸化炭素、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム及びカルバミン酸アンモニウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物からなる凝析剤を添加する工程、並びに（３）ろ過によって前記表面処理後の無機酸化物粒子を回収する工程。 （もっと読む）

【課題】 メソポーラスシリカ膜の低屈折率を保ちつつ、吸湿による屈折率の変動を抑制する。
【解決手段】 メソポーラスシリカ膜の少なくとも一方の表面から深さ１０ｎｍ未満の領域である表面層にＳｉＯ_{（２−ｎ／２）}Ｘ_ｎ（Ｘはアルキル基、フッ化アルキル基およびフッ素から選ばれる少なくとも１種類以上からなる基を示す。ｎは１以上３以下の整数を示す。Ｘがアルキル基またはフッ化アルキル基の場合、その一部に不飽和結合を有していてもよい。）で表わされる構造を有し、前記表面層におけるケイ素炭素及びフッ素の合計の元素成分比が０．１以上であり、前記表面から深さ１０ｎｍ以上の領域である内部層におけるケイ素に対する炭素とフッ素の合計の元素成分比が、前記表面層における元素成分比より小さい。 （もっと読む）

【課題】 塩基性触媒の存在下、金属アルコキシドの加水分解及び重縮合反応後の無機酸化物粒子分散液を濃縮して濃縮物を得る際に、上記濃縮物中の無機酸化物粒子の強固に凝集した凝集体の生成を防止し、また、これを乾燥して無機酸化物粒子を得る際に、強固に凝集した凝集塊の生成を効果的に防止し、且つ、高純度の無機酸化物粒子を得るための方法を提供する。
【解決手段】 上記無機酸化物粒子分散液に、二酸化炭素、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、カルバミン酸アンモニウムから選ばれる少なくとも１種の化合物を添加した後、該分散液の濃縮を行う。また、得られた濃縮物の乾燥を行うことにより無機酸化物粒子を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】粗大凝集物の発生が少なく、異型状のシリカ粒子が得られるシリカ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルコールを含む溶媒中に、０．６ｍｏｌ／Ｌ以上０．８５ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度でアルカリ触媒が含まれるアルカリ触媒溶液を準備する工程と、前記アルカリ触媒溶液中に、テトラアルコキシシランを供給すると共に、前記テトラアルコキシシランの１分間当たりに供給される総供給量の１ｍｏｌ当たりに対して０．１ｍｏｌ以上０．４ｍｏｌ以下でアルカリ触媒を供給する工程と、を有するシリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子が、体積平均粒径が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、粒度分布指標が１．１０以上１．４０以下、平均円形度が０．７０以上０．９２以下、円形度分布指標が１．０５以上１．５０以下である一次粒子を含まず、円形度が０．９５以上である一次粒子の割合が１０個数％を超える場合に比べ、流動性がよく、粒子への付着性及び分散性に優れたシリカ粒子を提供する。
【解決手段】体積平均粒径が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、粒度分布指標が１．１０以上１．４０以下、平均円形度が０．７０以上０．９２以下、円形度分布指標が１．０５以上１．５０以下である一次粒子を含み、かつ、円形度が０．９５以上である一次粒子の割合は１０個数％以下であるシリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、塗料組成物もしくはインキ組成物等、特に水性塗料もしくは水性インキ等に使用可能で塗料の貯蔵安定性に優れており、なおかつ塗膜にしたときの光輝性や隠蔽性、フリップフロップ感などの低下が少ない金属顔料組成物を提供することである
【解決手段】本発明は、少なくとも一種以上のタングステン化合物と、シリコン含有化合物の加水分解物および／またはその縮合物と、金属粒子とを含有する金属顔料組成物である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、優れた流動性並びに疎水性を有すると共に、処理前と処理後の無機粒子粉末のＢＥＴ比表面積値の変化が少ない機能性無機粒子粉末の製造法を提供する。
【解決手段】 優れた流動性並びに疎水性を有すると共に、処理前と処理後の無機粒子粉末のＢＥＴ比表面積値の変化が少ない機能性無機粒子粉末は、無機粒子粉末とカップリング剤とを混合攪拌して無機粒子粉末の粒子表面にカップリング剤を被覆させた後、高級脂肪酸を添加し、混合攪拌して上記カップリング剤被覆の表面に高級脂肪酸を付着させる機能性無機粒子粉末の製造法において、全処理工程を乾式で行うと共に、あらかじめ、上記無機粒子粉末の水分量を添加するカップリング剤の加水分解に必要な水分量の１〜１０倍の範囲に調整しておくと共に、カップリング剤及び高級脂肪酸付着後の無機粒子粉末を１２０〜２１０℃の温度範囲で加熱処理することで得られる。 （もっと読む）

【課題】 母体粒子全面にわたって、突起物が化学結合により強固に結着してなり、例えば樹脂用充填材や表面に導電層を被覆した導電性粒子の母材などとして好適なシリカ系微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアルコキシシラン化合物を加水分解、縮合させてポリオルガノシロキサン粒子を生成させる工程、（Ｂ）該ポリオルガノシロキサン粒子を、表面吸着剤により表面処理する工程、および（Ｃ）上記（Ｂ）工程で表面処理されたポリオルガノシロキサン粒子全面に、該アルコキシシラン化合物を用いて突起を形成させる工程、を含むシリカ系微粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】粒子成長法により緻密且つ高純度で更に屈曲構造や分岐構造を持つシリカ二次粒子を含有するコロイダルシリカを製造するに当たり、目的とする二次粒子径を調整するための二次粒子径調整方法を提供する。
【解決手段】屈曲構造及び／又は分岐構造を持つシリカ二次粒子を含有するコロイダルシリカの二次粒子径調整方法であって、
１）アルカリ触媒及び水を含むアルカリ性の母液を調製する工程及び
２）ケイ酸アルキルを加水分解して得られる加水分解液を前記母液に添加する工程
を含むコロイダルシリカの製造方法であって、
前記加水分解液を前記母液に添加する工程が、
Ａ）混合液のｐＨが７未満となるまで前記加水分解液を添加する工程１
Ｂ）混合液のｐＨが７以上となるまでアルカリ水溶液を添加する工程２及び
Ｃ）混合液のｐＨを７以上に維持しながら前記加水分解液を添加する工程３
を順に有するコロイダルシリカの製造方法において、
前記工程１で添加する前記加水分解液のシリカモル数と前記母液のアルカリモル数とのモル比（シリカモル数／アルカリモル数）を１５０〜７０００の範囲で調整する、
ことを特徴とする二次粒子径調整方法。 （もっと読む）

繊維状形態を有する高表面積ナノ粒子を開示する。ナノ粒子は複数の繊維を有し、ここで、それぞれの繊維は他の一つの繊維と接触しており、それぞれの繊維は、長さが約1nm〜約5000nmである。また、本発明のナノ粒子の適用、本発明のナノ粒子の製造方法が開示される。

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本発明は、ヒドリドシランとして実質的に少なくとも１種のシリコン原子最大２０個を有する非環状ヒドリドシランを包含する組成物を、触媒の不在下で２３５℃より小さい温度で熱により反応させる、ヒドリドシランをオリゴマー化する方法、前記方法に従って製造可能なオリゴマー及びその使用に関する。 （もっと読む）