【課題】ゴム組成物の補強充填剤として混合する際に、硫黄によるゴム混合物の粘度増大を起こすことのない特殊シリカ及び該シリカを含有するゴム組成物、特に硫黄硬化ゴム組成物、及び該ゴム組成物の部材を有する製品の提供。
【解決手段】特定の式で定められた少なくとも一つのアリル基の置換基を含有し、（Ａ）１２０〜３００ｍ２／ｇの範囲のＢＥＴ窒素表面積、（Ｂ）１００〜３００ｍ２／ｇの範囲のＣＴＡＢ表面積、及び（Ｃ）０．８〜１．３の範囲の前記ＢＥＴ／ＣＴＡＢ表面積の比率を有するアリル官能化沈降シリカ。 （もっと読む）

【課題】籾殻などのケイ酸植物をシリカ原料として用い、効率よく金属シリコンを製造し得る方法の提供。
【解決手段】ケイ酸植物を焼成してシリカを主体として含むシリカ灰を形成する工程、次いで、得られたシリカ灰にアルミニウムを加え不活性ガス雰囲気中で加熱し、次式（１）
４Ａｌ＋３ＳｉＯ_２ → ３Ｓｉ＋２Ａｌ_２Ｏ_３ ・・・（１）
の反応を生じさせて金属シリコンを得る工程とを有することを特徴とする金属シリコンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】無機酸化物粒子のスラリーが約３ミクロン以下の中央粒度を有する粒子を含み、かつ、そのスラリーが分散剤の補助なしに分散する分散液を提供する。
【解決手段】多孔質の無機酸化物粒子であるシリカゲルを含んで成る、紙またはフィルム上の光沢のあるインキ受理性コーティングで使用される分散液であって、該粒子が
ａ）０．０５〜３ミクロンの範囲の中央粒度；および
ｂ）該シリカゲル粒子の水性分散液が乾燥されたとき、ＢＪＨ窒素ポロシメトリーで測定して少なくとも０．５ｃｃ／ｇの細孔容積が６００Å以下の細孔サイズを有する細孔に由来するそのような多孔性を有し、
該シリカゲル粒子の細孔の８０％以上、１００％以下が、３００Å以下の細孔サイズを有する上記の分散液。 （もっと読む）

【課題】不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる珪素微粒子の製造方法を得ること。
【解決手段】珪素塊１を粉砕して珪素微粒子を得る珪素微粒子の製造方法であって、酸素を放出して珪素に対する酸化作用を有する酸化性液体４中において前記珪素塊１を粉砕することにより、粉砕された珪素微粒子の表面に酸化珪素膜を形成しながら前記珪素塊１を粉砕して前記珪素微粒子を作製する。これにより、粉砕時の珪素内への不純物の拡散を防止することができ、不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高純度で安価なコロイダルシリカ及びそのようなコロイダルシリカを製造する方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属を含有する粗製コロイダルシリカを表面処理剤で湿式処理する表面処理工程と鉱酸含有液、水の順で洗浄して精製コロイダルシリカとする精製工程とを有するものである。特に表面処理剤はシランカップリング剤及びシラザン類からなる群から選択される１以上の化合物を含むことが望ましい。 （もっと読む）

【課題】粉体の輸送、分級などの粉体操作の操作性に優れた金属シリコン粉体である塩基性金属シリコン粉体を提供すること。
【解決手段】金属シリコン粉体と、表面積１ｍ^２当たり０．１μｍｏｌ以上１０μｍｏｌ以下の塩基当量となるように前記金属シリコン粉体の表面に接触させた塩基性物質とを有する塩基性金属シリコン粉体。金属シリコン粉体表面において僅かに酸化物（シリカ）層が存在することでそのシリカと塩基性物質とが相互作用して効果が得られるものと思われる。このことは純粋な金属シリコンを破砕して金属シリコン粉体を製造した直後に塩基性物質を接触させても粉体の操作性向上効果が低いことからも裏付けられる。つまり、金属シリコン粉体表面に存在する痕跡程度の酸化物層であっても塩基性物質と反応するには充分であると考えられる。 （もっと読む）

【解決手段】
０．０１重量％未満の総鉱物性不純物と選択的に決定された炭素：シリコンの比率を含む、シリコン、炭化ケイ素および窒化ケイ素などのシリコン含有生成物。その生成物は、少なくとも３重量％のシリカを含む、籾殻および稲藁などの植物に由来する。制御された温度、圧力および反応時間の下、固定炭素：シリカのモル比を調節しながら、シリコン含有植物を硫酸水溶液で浸出して鉱物および金属を除去し、次いで、制御された条件下、熱的に処理して所望の生成物を生産することを特徴とする、そのような高純度のシリコン含有生成物を作るための方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】比誘電率及び／又は誘電正接が低く、異方性が高い板状シリカ粒子の製造方法、及び該板状シリカ粒子を提供する。
【解決手段】（１）ナノ細孔が実質的に存在しない中空状シリカ粒子を粉砕する工程を含む、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子の製造方法、及び（２）その製造方法により得られた、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】高純度シリコン材料の製造方法を提供する。
【解決手段】特純石英鉱石を原料として選択するステップと、前記石英鉱石を洗浄し粉砕するステップと、光学分析装置で粒度が２０ｍｍ〜８０ｍｍの石英鉱石を正確に選択するステップと、石英鉱石を浄化するステップと、石英鉱石を溶鉱炉に入れ、高温で石英鉱石を溶融するステップと、溶融した石英鉱石と純炭素還元剤とに炭素熱還元法および反応純化を行い、液体シリコンを得るステップと、前記溶鉱炉のバルブを介して前記液体シリコンを収容タンクに流し込むステップと、前記収容タンクにおいて、エアブロー除湿法およびスラグ処理法を行い、液体シリコンの不純物を除去するステップと、液体シリコンを結晶成長炉の鋳造品領域に注入するステップと、前記鋳造品領域において方向性凝固法で液体シリコンを固化し、固体シリコン材料を得るステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、メタルシリコーン材料の利用について精密加工した超微粒状のメタルシリコーン利用とは別の水溶性として処理加工し、メタルシリコーンを半導体以外のものに利用可能としてこれを実用化しようとするものである。
【解決手段】本発明のメタルシリコーン溶解・水溶液の製造方法は、微細なクラスターによって構成する純水とメタルシリコーン石を、ステンレス型タンクに入れ、加熱して60℃の温水として一定時間保温維持する前処理工程と、前処理終了温水中に、苛性ソーダを投入し、加熱を併用して急激な煮沸攪拌を生じさせ、沸騰現象が急激な変化状態となって８０℃〜９０℃の温度条件が不安定になる恐れがある場合は、安定剤としてホウ酸塩を使用して一定時間保熱維持する本処理工程と、本処理工程終了と同時に、加熱を完全にストップし、自然の状態で６０℃まで温度を加工する養生工程と、からなることを特徴する。 （もっと読む）

【課題】チョクラルスキー型プロセスで好適に使用される多結晶シリコン片のサイズ分布を形成するための多結晶シリコン加工物の処理方法を提供する。
【解決手段】回転インデント分級機は外周縁に沿って複数の凹部を有するディスク又はシリンダーを備えている。シリンダーの外周縁に沿った凹部は、シリンダーの一方の端部から他方の端部へ大きさが増大し、ディスクの外周縁に沿った凹部を有するディスクは、混合物が最も小さい凹部を最初に通過して凹部のサイズが増大する順に凹部を通過するように配列されている。凹部は、ディスク又はシリンダーの外周縁から内側に向かってのび、凹部は、所定のサイズ又はそれ以下のシリコン片を捕捉し、所定のサイズより大きいサイズのシリコン片を排除する大きさとされている。 （もっと読む）

本発明は、水溶性シリカーを組成成分として含有する硬度降下用組成物に関する。本発明の硬度降下用組成物は、大規模浄水設備を揃えない地域で小規模で簡単に硬度の高い上水原水の硬度を飲用に適する水準に低下させることができる効果を奏する。 （もっと読む）

７０ｇ／ｌ以下の修正タップ密度を有する、沈降シリカを含む断熱材料。 （もっと読む）

【課題】本発明は、１サイクルのシリコンの精製方法における凝固偏析工程の回数を減じ、高効率なシリコンの精製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のシリコンの精製方法の第１の態様は、リンとボロンとを含む原料シリコンからボロンを除去する工程と、リンとボロンとを含む原料シリコンからリンを除去する工程とを含み、上記ボロンを除去する工程、または、上記リンを除去する工程の後に、原料シリコンを破砕する工程と、破砕した原料シリコンにリーチングを行なう工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トナーへの分散性やトナーの流動性低下の原因となる粗大な凝集粒子を含まず、また、トナーからの脱離を抑制することができ、従って、トナーへの均一分散性と流動性の付与効果に優れ、印刷画像上の白点の発生を抑制できる、トナー外添剤として好適な微細な一次粒子径を有するシリカ微粒子を提供する。
【解決手段】気相法により得られた平均一次粒子径が２０〜１００ｎｍの親水性シリカ微粒子を一般式（Ｉ）で表されるポリシロキサンで疎水化処理してなる疎水性シリカ微粒子であって、レーザー回折法による粒子の体積基準粒子径測定で粒子径１．５μｍ以上の凝集粒子の割合が１２％未満であることを特徴とする疎水性シリカ微粒子。
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【課題】高い不純物除去効果を有する金属含有物除去方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属含有物除去方法は、シリコンを機械加工して得られかつシリコン粒子を含む廃スラリー又は前記廃スラリーから分離したシリコン回収固形分を酸性の第１洗浄液で洗浄する第１洗浄工程と、前記シリコン粒子を含む第１洗浄液を塩基で処理する中和処理工程と、前記塩基で処理した第１洗浄液から分離した前記シリコン粒子を含む固形分又はスラリーを酸性の第２洗浄液で洗浄する第２洗浄工程とを備え、前記機械加工から生じかつ第１洗浄工程で除去できなかった金属含有物を第２洗浄工程で効率的に除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ケイ素の純度が高くなくても電子部品に悪影響を与え難い球状シリカ粉末を得ることができる球状シリカ粉末製造用ケイ素含有合金を提供すること。
【解決手段】火炎中で酸素と反応させて球状シリカ粉末を製造する原料であるケイ素含有合金であって、ケイ素を８０質量％以上含有し、（１３族元素の含有量）／｛（５族元素の含有量）＋（６族元素の含有量）＋（７族元素の含有量）｝の値が質量基準で４以上である。５〜７族元素の含有量に応じて、１３族元素を含有させることにより、高い性能を発揮させることが可能になる。５〜７族元素がシリカ粉末中に含有されていると、溶出などのおそれがある。溶出などした５〜７族元素は電子部品に対して望ましくない作用を及ぼすおそれがあるが、所定の比率で１３族元素を含有させることにより５〜７族元素における溶出などのおそれを小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】チタン酸アルミニウムやチタン酸アルミニウムマグネシウムのようなチタン酸アルミニウム系セラミックスについて、耐熱分解性に優れ、熱膨張係数のより小さなものを製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、チタン源化合物、アルミニウム源化合物および好ましくはマグネシウム源化合物と、屈服点が７００℃以上および／または９００℃の粘度値が１．０×１０^６ポイズ以上のガラスフリットとを含む原材料混合物を焼成するチタン酸アルミニウム系セラミックスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】生体内に用いても、より安全なケイ素微粒子をより簡便且つ大量に製造する。
【解決手段】ケイ素微粒子を含む混合粉体は、ケイ素源と炭素源と、重合又は架橋触媒とを混合した混合物を不活性雰囲気下において焼成する焼成工程Ｓ１と、高純度プリカーサを焼成することによって炭化ケイ素を生成する反応の副生成物であるガスを取り出し、冷却する急冷工程Ｓ２と、急冷によって得られた混合粉体を所定の溶媒とともに粉砕する粉砕工程Ｓ３とを有する。 （もっと読む）

【課題】 最頻細孔直径が大きく、制御された細孔特性を有し、不要な金属不純物の含有量が少なく、且つ耐熱性や耐水性等にも優れたシリカを提供する。
【解決手段】 以下の特性を備えるようにする。
（ａ）細孔容積が０．６ｍｌ／ｇ以上、１．６ｍｌ／ｇ以下
（ｂ）比表面積が５０〜６００ｍ²／ｇ
（ｃ）最頻細孔直径（Ｄ_max）が１５ｎｍ以上
（ｄ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ⁴／Ｑ³値が３以上
（ｅ）非結晶質であること
（ｆ）金属不純物の含有量が１００ｐｐｍ以下 （もっと読む）