【課題】磁気記録媒体のような被エッチング材料の表裏両面へのプラズマ処理を行う際、基板の材質に関わらず被エッチング材料両表面に効率よくバイアスを印加し、両面処理ができるプラズマエッチング装置及びその方法を提供する。
【解決手段】略円環状の被エッチング材料に高周波電力を印加する一対の導電体を有し、略円環状の被エッチング材料の内縁を一対の導電体で挟持することで、略円環状の被エッチング材料の両面をエッチングするプラズマエッチング装置において、前記一対の導電体の一方に設置された導電体接続部材により、該略円環状の被エッチング材料の両面が電気的に導通するようにした。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、大面積のプラズマを均一に発生及び維持することができる容量結合プラズマ反応器を提供することにある。
【解決手段】
本発明の容量結合プラズマ反応器はプラズマ反応器（１０）と、そのプラズマ反応器（１０）の内部にプラズマ放電を誘導するための複数個の容量結合電極（３１、３３）を含む容量結合電極アセンブリ（３０）と、無線周波数電流を供給するためのメイン電源供給源（４０）と、そのメイン電源供給源（４０）から提供される上記無線周波数電流を受けて上記複数個の容量結合電極に分配する分配回路（５０）とを含み、容量結合プラズマ反応器は複数個の容量結合電極（３１、３３）によって大面積のプラズマを均一に発生することができる。また、複数個の容量結合電極（３１、３３）を並列駆動するに際して電流均衡が自動的に行われるようにすることで大面積のプラズマをより均一に発生及び維持することができる。 （もっと読む）

【課題】中央部の放電空間における温度上昇を抑制することができるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】一方向に配列された複数の誘電体３と、該各誘電体３の内部に配設された導電体５とを有し、導電体５間に電圧を印加することにより誘電体３間の放電空間にプラズマを発生可能なプラズマ発生体であって、誘電体３が４つ以上であり、誘電体の配列方向の中央部における誘電体の内部に配設された第１導電体の電気抵抗値は、端部における誘電体の内部に配設された第２導電体の電気抵抗値よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、誘電体の機械的強度を低下させることなくプラズマ出力を向上させることが可能なプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】一方向に配列された複数の誘電体と、該各誘電体の内部に配設された導電体とを有し、導電体間に電圧を印加することにより誘電体間にプラズマを発生可能なプラズマ発生体であって、誘電体は３つ以上であり、誘電体の配列方向における端部以外の少なくとも１つの誘電体において、導電体は、その少なくとも一部が誘電体の配列方向に平行に配列された複数の導電体層からなり、複数の導電体層が内部に配設された誘電体において、他の誘電体に対向する表面と該表面に隣接する導電体層との間の距離は、複数の導電体層のうち両端の導電体層の間の距離よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】触媒を用いずに、電極間のギャップをμｍオーダーとし大気圧中でのパッシェンミニマム付近で作動することで、活性力が大きい低温プラズマを発生させ流体の浄化を向上させることができるプラズマを用いた流体浄化方法及び流体浄化装置を提供する。
【解決手段】複数の貫通孔１１，１２を有する金属基板１３，１４、２枚を、貫通孔同士の位置が一致するように平行に配設し、金属基板間に電圧を印可して放電を発生させるとともに、貫通孔に流体を通過させて流体を浄化する方法であって、金属基板の対向する少なくとも一方の表面にはポーラスな誘電体膜１６が露出して形成されていることを特徴とするプラズマを用いた流体浄化方法。 （もっと読む）

【課題】 一方側を自由端とした構造体において、被処理流体に対して良好に処理することができる構造体構造体及びこれを用いた装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】 本発明の構造体は、第１側部７と、第1側部７とは離間して配置される第２側部８と、第１電極３を保持してなり、一方側が、第１側部に固定された固定端１ａであり、他方側が、第２側部側に向かって延在する自由端１ｂである第１電極部１と、第２電極４を保持してなり、他方側が、第２側部８に固定された固定端２ａであり、一方側が、第１側部７側に向かって延在する自由端である第２電極部２とを備え、第１電極部１と第２電極部２とは、間に空間９を介して対向するように配置されるとともに、第２側部８内部の第１電極部１の他方側に対向する領域には、第２電極４に電気的に接続された補助電極１１を備えている。 （もっと読む）

【課題】 稼動時の熱に起因する熱応力によって破損したとしても、使用することが可能な構造体を提供することにある。また、構造体の使用方法、ならびに構造体を搭載したプラズマ発生体、オゾン発生器、排ガス処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
第１絶縁部３及び第２絶縁部４のそれぞれの一方端が、第１側部５に対して固定され、且つ第１絶縁部３及び第２絶縁部４のそれぞれの他方端が、第２側部６に対して固定されているとともに、第１絶縁部３には、溝７或いは空洞８もしくはポーラス状部が設けられている。 （もっと読む）

本発明は、平面状配置された光触媒の近傍で表面プラズマを生成するように構成されたガス処理ユニットに関する。光触媒は、薄膜（４）の形態で誘電性基板（３）上に積層されて、少なくとも１つのプラズマ供給電極（１、２）が光触媒薄膜の上方に形成される。このような構成によって、プラズマと光触媒との間の相互作用が増加する。上記ユニットは、汚染制御、臭気削減、もしくは細菌処理といった種類のガス処理に対して高い効率で使用可能である。
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【課題】装置由来の不純物を生じさせることなく汚染粒子を処理できるコンパクトな汚染粒子処理装置を提供する。
【解決手段】外部の気体を遮断し、内部に気体を流通させる気体流通路１１１と、気体流通路１１１の外部に配置され、気体流通路１１１内に高周波を印加してプラズマを発生させる高周波印加部１３０と、汚染粒子を含む汚染気体を気体流通路１１１に導入する汚染気体導入路１１８と、を備え、導入気体をプラズマ化する。このプラズマにより汚染粒子を分解して処理するため、直接に電極と汚染物質が接触することがなく、装置由来の不純物を生じさせない。また、プラズマジェットトーチ等を必要とせず、装置をコンパクトにし、かつ低コストなものにすることができる。その結果、排ガス処理装置として自動車に搭載したり、ＶＯＣやナノ粒子を排出する工場や事業所に設置したりすることができる。 （もっと読む）

【課題】周囲の雰囲気や稼動時の熱に起因する熱応力によって配線構造体が破損する可能性を低減することができる配線構造体、装置および流体処理装置、ならびに車両を提供する。
【解決手段】配線構造体は、間に空間ｓを介して対向する一対の板状部材１と、一対の板状部材１のそれぞれの両端を保持する支持部２とを備え、一対の板状部材１のうち少なくとも一方の板状部材１には、上下方向に貫通する貫通孔５を設け、電極３を絶縁体４の内部に形成する。 （もっと読む）

【課題】大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、しかも処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】複数の板状のアノード埋込ブレードの並列配置からなる分割型アノード電極（９_l-1，９_l-2，９_l-3；１１_l-1，１１_l-2，１１_l-3）と、アノード埋込ブレードのそれぞれの一方の端部に対向して配置されたカソード（２４，２５）とを備え、アノード埋込ブレードのそれぞれは、板状のアノード誘電体１１_l-1，１１_l-2，１１_l-3と、このアノード誘電体の内部に埋め込まれたアノードメタル９_l-1，９_l-2，９_l-3からなる。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜を含む廃材からインジウムなどの希少金属を含む有価物を回収し、再び同一製品の材料としてリサイクル可能な、効率的な再資源化装置および再資源化方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜を含む廃材をプラズマ処理する手段として、プラズマ発生装置を備える廃材の再資源化装置、当該再資源化装置を用いて透明導電膜を含む廃材をプラズマ処理する工程を含む廃材の再資源化方法、ならびに、当該方法にて得られた金属、金属化合物、基材。 （もっと読む）

【課題】 周囲の雰囲気や稼動時の熱に起因する熱応力によっても、破損する可能性が低減できる構造体及びこれを用いた装置を提供すること。
【解決手段】 本発明のプラズマ発生体１は、平板状の第１電極２と、主面が、第１電極２の主面に対向して配置される平板状の第２電極３と、平面視でこれら電極２，３同士の対向領域の両端に設けられ、第１電極２及び第２電極３を一定の距離だけ離間させて支持する一対の側部６と、一対の側部６に設けられたヒータ８とを備えている。 （もっと読む）

【課題】急激な温度変化にさらされた場合であってもクラックの発生等により損傷を受けることを抑制することができるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】プラズマ発生体は、内部に放電空間となる空洞を備えている。この空洞は、空洞は、基体の外表面に沿って一方向に延在した形状であり、基体における空洞の端部に隣接した部位は、他の部位よりも弾性率が大きい。基体は、例えば、アルミナセラミックス等であり、空洞の端部に隣接した部位は、例えば、銅等からなる。 （もっと読む）

【課題】 急激な温度変化にさらされた場合であってもクラックの発生等により損傷を受けることを抑制することができるプラズマ発生体を提供する。
【課題を解決するための手段】 プラズマ発生体は、内部に放電空間となる空洞を備えた基体を有するプラズマ発生体であって、空洞は、基体の外表面に沿って存在し、基体における空洞と外表面との間において、空洞に隣接する部位の少なくとも一部は、基体の外表面よりも熱膨張率が大きい。好ましくは、空洞は、一方向に延在した形状であり、基体における空洞の延在方向に沿って空洞に隣接した部位は、基体の外表面よりも熱膨張率が大きい。 （もっと読む）

【課題】長尺細管を含む種々の被処理物の内面処理が可能な表面処理装置を提供する。
【解決手段】 管状の被処理物２１の一端から導入された処理ガスを、被処理物２１の他端から排気してガス流を生成するための真空ポンプ３２と、被処理物２１の一端側に配置され、放電開始初期にガス流に初期プラズマを供給する励起粒子供給系（１６，１７，１８）と、被処理物２１を挟むように互いに対峙して配置された第１主電極１１及び第２主電極１２と、初期プラズマを維持し、被処理物２１の内部にプラズマ流を生成するデューティ比１０^−７〜１０^−１の電気パルス（主パルス）を第１主電極１１及び第２主電極１２間に印加するパルス電源１４とを備え、プラズマ流に含まれるラジカルにより、被処理物２１の内面を処理する。 （もっと読む）

【課題】常温において反応性及び反応効率に優れ、反応を安全に実施可能であるマイクロ流体デバイス、反応装置、並びに、反応方法を提供すること。
【解決手段】気体放電を用いるプラズマ生成機構を備えた気体用微小流路、液体用微小流路、並びに、気体用微小流路及び液体用微小流路が合流して形成される気液混相用微小流路を少なくとも有することを特徴とするマイクロ流体デバイス、前記マイクロ流体デバイスを用いた反応装置。また、前記反応装置を準備する工程、前記気体用微小流路に気体を供給する工程、前記液体用微小流路に被反応物を含む液体を供給する工程、前記プラズマ生成機構により前記気体由来のラジカルを発生させる工程、前記気液混相用微小流路において、被反応物を含む前記液体とラジカルを含む前記気体との気泡流又はスラグ流を形成する工程、並びに、前記被反応物と前記ラジカルとを反応させる工程を含む反応方法。 （もっと読む）

【課題】安定したガス処理能力と、高いガス処理能力に加え、高速流におけるガス処理能力の低下を防ぐ。コストダウンを図る。
【解決手段】処理対象ガスＧＳの通過方向（ダクト１の入口から出口への方向）に対し直交する方向に沿ってハニカム構造体４を間隔を設けて配置する。これらハニカム構造体４のうち処理対象ガスＧＳの通過方向に対して直交する方向の一端に配置されるハニカム構造体４−１の外側に第１の電極８を配置し、他端に配置されるハニカム構造体４−４の外側に第２の電極９を配置し、第１の電極８と第２の電極９との間に高電圧を印加し、ハニカム構造体４の貫通孔（セル）４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】安定したガス処理能力と高いガス処理能力を得る。コストダウンを図る。
【解決手段】処理対象ガスＧＳの通過方向（ダクト１の入口から出口への方向）に沿ってハニカム構造体４を間隔を設けて配置する。このハニカム構造体４のうち最も上流に配置されるハニカム構造体４−１の上流側に上流側電極８を配置し、最も下流に配置されるハニカム構造体４−４の下流側に下流側電極９を配置し、上流側電極８と下流側電極９との間に高電圧を印加し、ハニカム構造体４の貫通孔（セル）４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】周囲の雰囲気や稼動時の熱に起因する熱応力によってプラズマ発生体が破損する可能性を低減し、セル内を通過するＰＭや酸化性成分、ＨＣ等の流体を良好に浄化することができるプラズマ発生体およびプラズマ発生体の製造方法を提供すること。
【解決手段】プラズマ発生体は、平板状の第１電極１と、第１電極１上に対向して配置される平板状の第２電極２と、平面視でこれら電極同士の対向面の外周領域に設けられ、第１電極１及び第２電極２を一定の距離だけ離間させて支持する一対の側壁５と、からなるセル６を備え、セル６内には流体が流れるとともに、側壁５に、溝７が設けられている。 （もっと読む）