【課題】エンジン直下の高温場においても誘電体バリア放電を維持することができ、しかもその誘電体バリアが高温と高電界で破損することのない信頼性が向上された放電プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】放電電極９と誘電体１０とが交互に積層された積層体の中に処理ガスが通流する流路を有する放電プラズマ処理装置において、上記放電電極は、その表面及び裏面が凹凸に形成されてなり、上記誘電体は、積層方向に隣接する放電電極の間に保持され、かつ一つの誘電体における隣接する一方の放電電極の、該誘電体の側から見て凸部８が当接している部分の反対側の面は、隣接する他方の放電電極の、該誘電体の側から見て凹部７に位置するように積層したものである。 （もっと読む）

【課題】被処理体への放電面積を十分に大きくすることができ、被処理体にプラズマダメージが生じにくい放電プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】各電極間にプラズマ化するガスが供給された後、第１電極１２に高周波電圧が印加される。これにより、第１電極１２と第２電極１６との間に電位差が生じこの電極１２、１６間にプラズマＰ１が発生する。このプラズマＰ１が発生することにより、第２電極１６にわずかな電位が発生する。第２電極１６にわずかな電位が発生すると、第２電極１６と第３電極１８との間に電位差が生じ、この電極１６、１８間にもプラズマＰ２が発生する。このプラズマＰ２の電位はプラズマＰ１の電位よりも格段に低くなり、このプラズマＰ２により第２電極１６と第３電極１８との間の被処理体２２の処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】均一に微細気泡を発生させることができ、下水中への気泡分散効率を改善した多孔膜材を提供する。
【解決手段】多孔膜材１は、多数の小孔２が貫設された弾性体製の気泡発生膜部３を有する。また、多孔膜材１の気泡発生膜部３の各部位毎の小孔２の内径寸法、又は、長さ寸法、又は、配設密度を相違するように設定して全面的に均一微細気泡を発生させるように構成する。さらに、気泡発生膜部３の表て面３ａには、親水性付与剤のコート層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】大気圧近傍条件下で基材表面を撥液化処理する表面処理方法において、処理ガス中の化合物ガス比率を非常に多くしないと十分な撥液効果が得られず、安価な希釈ガスを用いたとしてもランニングコストの削減が難しい。
【解決手段】互いに対向する一対の電極間に電界を形成し、前記電界が形成される空間に流れる処理ガスをプラズマ化する工程と、該プラズマにより被処理基材表面を撥液化する表面処理工程とを含み、前記表面処理工程が第１および第２段階の表面処理から構成され、各段階の表面処理に用いられる処理ガスが互いに異なるガス種あるいはガス組成よりなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 多孔性素材の表面のみならず細孔内も効率的にプラズマ処理する方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】 (a) プラズマガスを多孔性素材に接触させた状態で多孔性素材を吸引することにより、多孔性素材に前記プラズマガスを通過させるか、(b) プラズマガスを所定の流量で多孔性素材に吹き付けてプラズマガスを通過させる方法。多孔性素材を載置、固定又は搬送する多孔性支持体を有するプラズマ処理装置。 （もっと読む）

【課題】流体の温度が１００℃以上であっても、放電光を光触媒に照射させることにより活性化した光触媒の作用により、流体に含まれる分解対象物質を十分に分解して清浄あるいは脱臭することが可能な高温対応型光触媒反応装置である。
【解決手段】高温対応型光触媒反応装置は、１００℃以上の流体Ｘの流路１２中に設けられ、セラミックス基体に光触媒を担持した光触媒モジュール１７と、正負極の金属電極１８ａ，１８ｂと、電源部１５とで構成される。電源部１５により正負極の金属電極１８ａ，１８ｂ間に電圧を印加して放電光を発生させ、この放電光を光触媒モジュール１７に照射して活性化した光触媒の作用により、光触媒モジュール１７の内部あるいは近傍の流体Ｘに含まれる分解対象物質を分解するように構成した。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ放電をより効率よく発生させる方法の提供。
【解決手段】誘電体１０の両面に電極１１，１２を取り付け、該電極の内面又は誘電体の外面に、ガスを通過させるためのギャップ１４を一定間隔に多数設け、一方の側のギャップの存在しない位置に、他方の側のギャップが存在して位置するようにしてなるプラズマ放電反応部を備えたプラズマ放電反応器の両電極間に、正および負のパルス電圧波形を有するパルス電圧を印加し、プラズマ放電を発生させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡単な構造で多くの有害ガスを処理可能で、さらに電極が汚損した場合には簡単な操作でクリーニングを行うことが可能で、かつ洗浄剤や洗浄水を必要としない有害ガス処理装置を提供しようとするものである。
【解決手段】本発明は以上のような課題を解決するため、金属を集成マイカで絶縁した電極４の間に有害ガスを吸着する吸着体５を設け、高圧電源７によって電極４間にプラズマを発生させることによって有害ガスを分解させるようにしたもので、さらにプラズマを発生させながら酸素原子を含み常温で気体あるいは液体である有機物の蒸気を流す電極のクリーニング動作を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】プラズマ放電リアクター及びガス処理装置において、高電圧印加電極の突起先端の耐久性を向上させることである。
【解決手段】プラズマ放電リアクター及びガス処理装置は、複数の突起３を有する高電圧印加電極２と、高電圧印加電極２に対して空間を隔てて配置された接地電極５と、接地電極５と高電圧印加電極２の間に位置しプラズマが励起される空間部１０と、高電圧印加電極２と接地電極５の間に電圧を供給する電源部６を備える。被処理ガスａはプラズマ空間部１０内でプラズマ処理される。高電圧印加電極２に配設された突起３は絶縁材４で被覆されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理法において、できる限りリアクタ管の腐食及びリアクタ管内の温度を低下させることが可能かつ高効率に処理が可能な、半導体製造装置からの排ガス処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】半導体製造工程における排ガスを、プラズマを発生する高周波放電管に導入し、該高周波放電管用電極に高周波電力を印加することにより前記容器内にプラズマを発生させて半導体プ口セス用排ガスを分解処理する半導体プ口セス用排ガス処理方法において、上記高周波電力をパルス発生器によってパルス変調することを特徴とする半導体プ口セス用排ガス処理方法及び処理装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造であり、ガスの分解効率が光触媒を用いた場合より高いガス分解装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ発生部と、該発生部の複数の放電電極の間に、ガラス繊維または多孔質セラミックスで構成される吸着体を配置し、該吸着体は前記ガラス繊維または多孔質セラミックスの表面に、触媒として貴金属微粒子を担持させたことを特徴とするガス分解装置である。前記吸着体は、ガラス繊維が織られてなるガラス織布であり、前記ガラス繊維の表面に多孔質層が形成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】コンパクトであり、プラズマ表面処理を効率的に行うことが可能な処理ガス吐出装置などを提供する。
【解決手段】処理ガス吐出装置は、互いに平行に対向するとともに、下部側にスリット穴２１ｂを形成し、それぞれ接地された一対の接地電極２１と、管状の部材からなり、外周面と接地電極２１との間に隙間が形成され且つ接地電極２１の下面と平行となるように接地電極２１間に並列に配置された複数の第１誘電体２５と、各第１誘電体２５の管内に設けられた複数の内部電極２６と、接地電極２１間に処理ガスを供給するガス供給装置４０と、各内部電極２６と接地電極２１との間に高周波電力を印加する高周波電源２７とを備える。接地電極２１間に供給された処理ガスは、高周波電源２７により各内部電極２６と接地電極２１との間に高周波電力が印加されることによってプラズマ化された後、スリット穴２１ｂから外部へ吐出される。 （もっと読む）

本発明のプラズマ発生電極は、一対の単位電極２のそれぞれが、板状のセラミック体１９と、前記セラミック体の内部に配設された導電膜１２から形成されるとともにそれぞれの一の表面に複数の突条１３を有し、その一対の単位電極２が、突条１３の配設方向の両端が開放された複数の空間を形成した状態で突条１３の厚さに相当する間隔を隔てて階層的に積層されて一つの基本ユニット１を構成し、さらに基本ユニット１の複数が、突条１３の厚さに相当する間隔を隔てて階層的に積層された電極ユニットを構成し、電極ユニットを構成する単位電極２間に電圧を印加することによって、立体的に配列された空間Ｖ内にプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極である。このため、均一かつ安定なプラズマを発生させることが可能であるとともに、耐熱性に優れている。
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【課題】静電容量を増やさずに捕集面積を増加し得るようにしたプラズマアシスト型の排気浄化装置を提供する。
【解決手段】誘電体のバリア８を挟んで対向配置された電極５，６間に、フィルタ機能を有する適宜数の金属導体１０を電気的に絶縁された状態で介装して、該金属導体１０により前記電極５，６間を複数のプラズマ発生空間９に分割し、該各プラズマ発生空間９に導入した排気ガス２が必ず前記金属導体１０を通過して流れるように流路形成を図り、前記電極５，６間に放電に必要な電圧を印加し得るように構成する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスの間隔を従来と比べて長くすることができるプラズマ分解装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ分解装置は、被処理ガスの流路中に該流路と交わる方向に延伸し、上流から順に複数設けられたプラズマ発生用の電極板４４，４８と、処理ガスと反応する添加ガスを、互いに異なる電極板４４，４８の相互間に供給する複数の添加ガス供給手段５０と、複数の添加ガス供給手段５０それぞれ毎に設けられた複数のバルブ５２と、複数のバルブ５２それぞれを制御する制御部６０とを具備する （もっと読む）

【課題】被処理物を搬送しながら、気体からプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する装置において、被処理物とプラズマ活性種との接触の効率を向上させ、これによって被処理物の処理効率を向上させるような構造を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置は、誘電体３１および電極８、８Ａを備えている電極装置３０、および被処理物２１を搬送し、誘電体７に対向して移動させるための搬送手段５を備えている。電極８と搬送手段５との間に電圧を印加することによってプラズマを発生させ、被処理物２１を処理する。 （もっと読む）

【課題】気体からプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する装置において、被処理物とプラズマ活性種との接触の効率を向上させ、これによって被処理物の処理効率を向上させるような構造を提供する。
【解決手段】プラズマを発生させるための電極装置３０において、電極装置３０は、誘電体からなる基板４０、この基板４０内に埋設されている第一の電極８、および基板の一方の主面７ａに設けられている第二の電極６Ａを備えている。基板４０にプラズマガスを供給する貫通孔２６が形成されており、第二の電極６Ａから基板４０に沿って生ずる沿面放電によってプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】
微小領域を部分的に親水化処理する。
【解決手段】
平坦な基板１上に一対の櫛歯状電極２が互いに噛み合うように配置されており、その上を覆って誘電体層３が被覆されている。誘電体層３上には電極２の領域を一部に含むように流路５が形成されている。このチップ部材の流路を分析や反応に使用するに先立ち、一対の櫛歯状電極２間に所定の高周波電圧を印加すると、流路５内で電極２が存在する領域には沿面放電が生じてその部分にプラズマが発生し、その部分の表面が親水化処理される。 （もっと読む）

本発明のプラズマ発生電極１は、一対の電極５のうちの少なくとも一方の電極５ａが、誘電体となる板状のセラミック体２と、セラミック体２の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔４が所定の配列パターンとなるように複数形成された、複数の導電膜３とを有し、少なくとも一の導電膜３ａに形成された貫通孔４ａの配列パターンが、他の導電膜３ｂに形成された貫通孔４ｂの配列パターンとは異なるように構成され、一対の電極５間に電圧を印加することにより、導電膜３の異なる貫通孔４の配列パターンによって、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能であることから、異なる状態のプラズマを同時に発生させることができる。
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本発明のプラズマ発生電極１は、一対の電極５のうちの少なくとも一方の電極５ａが、誘電体となる板状のセラミック体２と、セラミック体２の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔４が複数形成された導電膜３とを有するものであり、均一かつ安定なプラズマを低電力で発生させることができる。
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