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Fターム[4G075ED11]の内容

物理的、化学的プロセス及び装置 (50,066) | 装置−可動体 (801) | ベルト、コンベア (49)

Fターム[4G075ED11]に分類される特許

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【課題】ランプハウスの窓材の清掃作業が簡単に行える紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】本発明の紫外線照射装置は、ランプ管の中心軸に沿い内部電極が設置され、ランプ管の外周の半周面に渡り、内部電極に対向するように外部電極11が設置されている紫外線ランプ1と、下面側に窓材5を備え、紫外線ランプ1を収容するランプハウス10と、ランプハウスを収納する装置筐体20とを備え、ランプハウスを装置筐体に対して、ランプ軸方向の回転軸31の周りに紫外線ランプの紫外線放出面が下方を向く姿勢と上方を向く姿勢との間で回転させ、かつ当該姿勢それぞれにて保持できる回転機構30により支持させたことを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】材料を実質的に大気圧のプラズマに曝す工程を含み、それにより、高価な真空装置およびポンプアセンブリを準備する必要性を取り除くと同時に、制御された作業環境においても持続的且つ迅速な処理を促進する、材料を処理するためのプラズマ処理方法である。処理される材料に応じて、複数の処理方法を用いることができる。 (もっと読む)


【課題】被処理物の表面に自己組織化単分子膜(SAM)を効率よく作製することのできる方法および該方法に適した装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るSAM作製装置1は、被処理物Wが導入されるチャンバ10と、該チャンバ内の空間11にSAM形成材料を供給するSAM供給手段20と、該チャンバ内を通して被処理物Wを搬送する被処理物搬送手段40とを備える。SAM供給手段10は、SAM形成材料を含むミストMを生成する霧化器22と、そのミストを加熱する加熱器24とを含み、チャンバ10に導入された被処理物Wにチャンバ内の空間11にあるSAM形成材料が付着するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】脱気後に粉粒体に残留する空気の量、及び脱気の過程で粉粒体と接触する空気の量を最小化する。
【解決手段】濾過筒7と濾過筒7を囲繞するケーシング8によって閉囲された気室5;濾過筒7の一端に取り付けられた投入口4;濾過筒7の他端に取り付けられた排出口;及び、濾過筒7の内部に貫装されて、粉粒体を投入口4から前記排出口に向けて移送する横スクリューコンベア6を有する横脱気筒2を備える粉粒体の脱気装置1の投入口4に取り付けられた不活性ガス供給口から投入口4の内部に不活性ガスを供給する。 (もっと読む)


【課題】電子ビーム照射対象体が筒状の立体的なものであっても、電子ビーム照射対象体に対して電子ビームの照射を、部分的に過剰に照射することなく、確実かつ容易に行うことのできる電子ビーム照射装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム照射装置は、真空状態が形成された内部に電子ビーム発生器が配設されてなり、当該電子ビーム発生器において発生した電子ビームを放射するための電子ビーム出射窓を有する電子ビーム管と、当該電子ビーム管を収容するための電子ビーム管収容空間を有するケーシングとを備えた電子ビーム照射装置であって、前記電子ビーム管の電子ビーム出射窓から放射される電子ビームの放射方向に伸び、電子ビーム出射窓から放射される電子ビームを導通するための電子ビーム照射ノズルが設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】この発明が解決しようとする課題は、エキシマ光を利用した液晶パネル用ガラス基板等の洗浄装置において、効率の良い洗浄を行い、大型基板に対しても洗浄ムラを少なくすることのできるエキシマ光照射装置を提供することにある。
【解決手段】本発明のエキシマ光照射装置は、複数のエキシマランプを並列配置したランプハウス内に少なくとも窒素等の不活性ガスを含むガスを噴出するブロー管を備え、該ブロー管と該エキシマランプ上面部分と該ランプハウスの仕切壁とで囲まれる第一の置換空間と、該ブロー管と該エキシマランプ下面部分と搬送される基板とで囲まれる第二の置換空間を備え、該ブロー管から該第一の置換空間に向かって不活性ガスを噴出することによって該第一の置換空間を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】エレクトロスピニング法により、直径がナノオーダーの微粒子を生産性良く製造できる微粒子の製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】微粒子構成材料が50重量%未満の含有量で溶媒中に溶解された原料液2と高圧気体とを噴霧機構部4に供給し、噴霧機構部4にて原料液2を霧化して吹き出し口7から吹き出すとともに吹き出し口7と吹き出し口7に対向して配置されたコレクタ10の間に高電圧を印加して吹き出す原料液2に電荷を帯電させる。これにより、高圧空気が急激に膨張する空気爆発によって微粒子に霧化し、その後微粒子中の溶媒が蒸発してさらに粒径が小さくなることで電荷のクーロン力で一次静電爆発が生じてさらに微粒子化し、その後さらに溶媒が蒸発して同様に二次静電爆発が生じてさらに微粒子化されることによって、ナノオーダーの微粒子が高い生産性で製造されるようにした。 (もっと読む)


【課題】大量の植物バイオマスの処理が可能で精油抽出操作を連続的に省エネルギーで実施できると共に、精油抽出残渣の有効利用をも図ることができる、マイクロ波を利用した植物バイオマス処理システムを提供する。
【解決手段】植物バイオマスを粉砕する粉砕装置と、粉砕装置に接続され、マイクロ波加熱によって植物バイオマスから精油を抽出するマイクロ波抽出装置と、を備え、マイクロ波抽出装置内に、植物バイオマスを搬送する搬送手段を設け、マイクロ波による植物バイオマスの過剰加熱を防止する構成としたことを特徴とするマイクロ波を利用した植物バイオマス処理システム。 (もっと読む)


【課題】低温酸化反応等による発熱性を有する粉粒体を、熱暴走させることなく、貯留しながら早期に安定化させ、燃料代替品としての価値を低下させないで、発火・火災を起こさないような安全性の高い状態となるようにするための粉粒体貯留方法および粉粒体貯留装置を提供する。
【解決手段】貯留槽1内に貯留された粉粒体を、貯留槽1外に設けられた搬送装置5で空気と接触させつつ貯留槽1の底部から上部に向けて搬送し、前記搬送装置5内において、粉粒体の低温酸化等の発熱反応を促進させる。粉粒体の温度を測定する温度センサーと、この温度センサーで得られた温度情報に基づき、搬送装置5による粉粒体の搬送速度、搬送装置5内への酸素供給源となる気体の供給量、搬送装置5内への加熱量、搬送装置5内への冷却量の1又は2以上を制御して、粉粒体の発熱反応を制御する。粉粒体の温度を50〜150℃の範囲内に制御し、低温酸化等の発熱反応を制御する。 (もっと読む)


【課題】ガスの消費量を低減できる紫外線塗料硬化設備及び塗料硬化方法を提供すること。
【解決手段】紫外線塗料硬化設備11は、ワークWに紫外線を照射して紫外線硬化型塗料を硬化させる。紫外線塗料硬化設備11は、搬送手段14、光源13、供給手段40及び整流手段51を備える。搬送手段14は、ワーク出入口12cを介してワークWを処理槽12内に搬入し、ワーク出入口12dを介して処理槽12外にワークWを搬出する。光源13は、処理槽12内のワークWに紫外線を照射する。供給手段40は、ヘリウムガスを処理槽12内に供給するガス供給口41を有する。整流手段51は、ガス供給口41よりも下方に配置され、ヘリウムガスの通過時に流れを整えて微小風速のダウンフローを生じさせる。 (もっと読む)


【課題】プラズマ発生ノズルの耐久性を向上させることが可能なプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置PUは、マイクロ波を発生するマイクロ波発生装置20と、マイクロ波を伝搬する導波管10と、導波管10のワークWとの対向面に設けられたプラズマ発生部30とを具備し、該プラズマ発生部30には、マイクロ波を受信しそのマイクロ波のエネルギーに基づきプラズマ化したガスを生成して放出するプラズマ発生ノズル31が複数個配列して取り付けられている。プラズマ発生ノズル31は、シール部材35で保持され導波管10の内部に一端が突出する中心導電体32と、該中心導電体32の周囲に離間して配置されたノズル本体33とを含んでおり、シール部材35を冷却すべくガスをシール部材35内部に形成されたシール部材側流路354を経由させて中心導電体32とノズル本体33との間に供給するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】大気圧プラズマにて被処理物を間欠的に処理する場合に、ガスの使用量を必要最小限に抑制しながら安定して処理を行えるようにする。
【解決手段】所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマ11にて被処理物2を処理する大気圧プラズマ処理において、処理開始認識手段5からの信号にて処理開始を決定し、ガスの流量を増加させて被処理物2に対してプラズマ処理し、処理終了認識手段6からの信号にて被処理物2に対する処理終了を決定し、ガスの流量を減少させ、かつ減少させたガスの流量においてもプラズマ11を点灯維持するようにした。 (もっと読む)


【課題】大気圧プラズマにて被処理物を間欠的に処理する場合にもガスの使用量を必要最小限に抑制しながら安定して処理を行えるようにする。
【解決手段】所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、処理開始認識手段5からの信号にて処理開始を決定し、ガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して被処理物2をプラズマ処理し、処理終了認識手段6からの信号にて被処理物2に対する処理終了を決定し、ガスの流量を減少させるとともにプラズマ11を消灯しかつ微量のガスを流し続けて前記所定の空間内の雰囲気を保持するようにした。 (もっと読む)


本発明は、ポリマ化学の分野に関係し、ポリマを流動性の状態で電子放射線によって連続的に改質するための装置であって、ポリマが、改質の前、改質の間および改質の後に成形部分または半製品を形成するように加工可能である形式のものに関する。本発明の課題は、溶融体形成と溶融体改質との組合せが連続的な方法で行われて、ポリマの改善された特性をもたらすような装置を提供することである。この課題は、当該装置が、ポリマを流動性の状態に変えるための装置構成要素と、電子照射のための放射線シールドと、冷却装置とから成っており、放射線シールドの内部に電子放射線のための照射装置ならびに流入・流出管路が設けられており、放射線シールド内部で、変形加工されかつ改質された固形のポリマを製造する場合には、放射線シールドの内部に形状付与装置が設けられており、流動性のポリマが、前記形状付与装置の後ろで照射範囲内に、空間内を自由に浮動するように存在していることを特徴とする、ポリマを流動性の状態で電子放射線によって連続的に改質するための装置により解決される。
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【課題】固体有機物を減圧下または不活性雰囲気下で蒸発もしくは熱分解させる際の気化生成物を、二次分解を最小限に抑えて回収する。
【解決手段】 原料有機物を粉末もしくは顆粒固体として可動平板上に層状に供給して加熱部に導き、その直近に配置した冷却板に生成物を付着させて回収する。 (もっと読む)


【課題】 電子線照射装置の運転状態を制御することによって、搬送装置上の被照射物の特性変化を防止できる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 電子源4から引き出される電子を、加速電源26から出力した加速電圧Vaによって加速して電子線52として電子線照射領域56に取り出す電子線加速装置2を備える。搬送装置30は、被照射物50を、電子線照射領域56内で搬送する。X線測定部32は、被照射物50に電子線52が照射されることによって発生する制動X線を検出し、その強度を測定する。X線量計測部は、加速電圧Vaが出力され、かつ搬送装置30が停止した待機状態時における制動X線の強度を、単位時間当たりのX線量に変換する。制御部は、単位時間当たりのX線量の積算値と所定の閾値とを比較して、前者が後者以上のとき加速電源26の出力を停止する。 (もっと読む)


【課題】紫外線照射処理装置において、厚みのある処理対象物品を扱う場合でも、可及的に酸素濃度を低くする。
【解決手段】不活性ガスを噴射するノズル17と、紫外線照射対象位置LPに向けて紫外線を照射する紫外線照射部LSと、処理対象物品WKを前記紫外線照射対象位置LPへ搬送する搬送手段TMとが備えられた紫外線照射処理装置において、前記搬送手段TMは、搬送体BTを巻回して物品搬送のための往路と帰還のための復路で循環回転させる搬送コンベア12にて構成され、前記搬送コンベア12の周囲を覆う外部カバー体13と、前記外部カバー体13の内部空間に配置されて前記紫外線照射対象位置LPを含む前記往路の前記搬送体BTの周囲を覆う内部カバー体14とが設けられ、前記ノズル17が前記内部カバー体14の内部空間に不活性ガスを噴射するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】被処理物を連続的又はセミバッチ的に処理することが可能であるとともに、プラズマ発生用ガスの使用量を低減することが可能なプラズマ処理装置及びそれを用いた効率的なプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマ処理装置10は、プラズマ発生手段1と、搬送手段2に加えて、プラズマ発生用ガスGとして空気よりも軽量な軽量ガスをプラズマ発生手段1及びその近傍に導入することが可能なプラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3、並びに、プラズマ発生手段1をその上部から覆蓋するように配設された、プラズマ発生用ガス(軽量ガス)導入手段3から導入されたプラズマ発生用ガス(軽量ガス)Gをプラズマ発生手段1及びその近傍に集中的に貯留させることが可能なガス貯留手段4をさらに備える構成とする。 (もっと読む)


【課題】 有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに分解生成物を抑制して照射室等システムの健全性阻害を防止し、被照射物の内部に分解生成物が留まり品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法。
【解決手段】 電子線照射システム及び電子線照射方法を、電子線照射を出射する電子線照射装置と、被照射物として有機材料を搬入・搬出するためのコンベアと、被照射物に対して第1の所定の範囲の温度に加熱して電子線照射を行う照射室と、照射室に接続し電子線照射後の被照射物を第2の所定の範囲の温度に加熱する揮発室とを有し、第1の所定の範囲の温度は電子線照射を受けた被照射物から放出する分解生成物の量が照射室の健全性を阻害する有意量とならない範囲の温度とし、第2の所定の範囲の温度は有機材料内に残留する分解生成物が放出される範囲の温度とするように構成した。 (もっと読む)


【課題】溶融塩におけるプラズマ誘起電解により製造された微粒子を連続的に回収する方法及び装置の提供。
【解決手段】
溶融塩表面へのプラズマ照射によって製造された微粒子を溶融塩から回収する方法であって、溶融塩の少なくとも表層部を流動させて微粒子を溶融塩浴外に移動させることを特徴とする微粒子の回収方法;溶融塩表面へのプラズマ照射によって製造された微粒子を溶融塩から回収する方法であって、溶融塩の表層部の一部を冷却して固化させ、微粒子を含有する固化した溶融塩を溶融塩外に分離することを特徴とする微粒子の回収方法;溶融塩表面へのプラズマ照射によって製造された微粒子を溶融塩から回収する方法であって、溶融塩の少なくとも表層部を流動させて微粒子を溶融塩浴低層部に移動させることを特徴とする微粒子の回収方法。 (もっと読む)


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