一般式Ｉ
Ａｇ_ａ−ｃＱ_ｂＭ_ｃＶ_２Ｏ_ｄ・ｅＨ_２Ｏ Ｉ
（式中、ａは０.３〜１.９の値であり、ＱはＰ、Ａｓ、Ｓｂおよび／またはＢｉから選択される１つの元素であり、ｂは０〜０.３の値であり、ＭはＮｂ、Ｃｅ、Ｗ、Ｍｎ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕおよび／またはＲｈから選択される１つの金属であり、ｃは０.００１〜０.５の値であり、ただし（ａ−ｃ）は０.１以上であり、ｄは一般式Ｉの酸素以外の元素の原子価および頻度により決定される数であり、ｅは０〜２０の値である）の多金属酸化物およびこれから製造される芳香族炭化水素の部分酸化のためのプレ触媒および触媒が記載される。 （もっと読む）

本発明は、基材上における酸化チタンのコーティング膜の付着方法において、光化学的性質を備えた該コーティング膜が、特に該金属酸化物の少なくとも１種の有機金属前駆体及び／又は金属ハロゲン化物を含むガス混合物から、気相において化学的に蒸着され、しかもこの蒸着がプラズマ源により援助されることを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆は、その被覆上に吸着する空気中の汚染物質を、水、二酸化炭素および他の物質に酸化する。酸化タングステンは、二酸化チタン上に単分子層を形成する。紫外光の光子が酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆により吸収されると、電子は価電子帯から伝導帯へ上げられて、価電子帯に正孔が生成される。価電子帯内の正孔は、酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆上に付与される水と反応して、反応性ヒドロキシルラジカルを形成する。空気中の汚染物質が酸化タングステン／二酸化チタン光触媒上に吸着されると、ヒドロキシルラジカルは、汚染物質に作用して、水素原子を汚染物質から引抜く。ヒドロキシルラジカルは、汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。酸化タングステン／二酸化チタンの光触媒被覆は、湿度変動に対する感受性が低い。 （もっと読む）

本発明は、プロパンからアクリル酸を生成させる方法に関するものであり、該プロパンを活性化するための結晶触媒相に混合された式（Ｉ）又は（Ｉ’）（Ｔｅ_aＭｏ₁Ｖ_bＮｂ_cＯ_x（Ｉ）、Ｓｂ_aＭｏ₁Ｖ_bＯ_y（Ｉ’））の結晶触媒相を含む触媒上を、プロパン、水蒸気と、随意選択的な不活性気体及び／又は分子酸素とを含む混合気体を通過させる。 （もっと読む）

アルデヒド、カルボン酸および／またはカルボン酸無水物、特にフタル酸無水物を製造するための方法に関する。本発明による方法によれば、芳香族炭化水素および分子酸素を含有する気体流を、少なくとも第１の触媒床および第２の触媒床に高い温度で通過させ、その際、第２の触媒は、気体流の流れの方向に対して第１の触媒の下流に位置するように配置され、かつ第１の触媒よりも高い活性を有するものである。第１の触媒の触媒活性材料は、少なくとも酸化バナジウム、酸化チタンおよび酸化アンチモンを含有し、その際、バナジウム（Ｖ_２Ｏ_５として換算）とアンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_３として換算）との比は、第１の触媒中で３．５：１〜５：１である。好ましくは、平均粒径０．５〜５μｍを有する平均粒径を有する粒子状三酸化アンチモンを、第１の触媒中でアンチモン源として使用する。本発明による方法は、好ましい酸化生成物を、長期間に亘って優れた収率で得ることを可能にする。 （もっと読む）

ｏ−キシレン及び／又はナフタレンの気相酸化を用いて無水フタル酸を製造するための触媒系、並びに触媒系の使用下での無水フタル酸の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、水素ガス、特に合成ガスを生成するための方法、装置、および装置の製造方法を開示する。本発明によれば、片面にＴｉＯ_２薄膜で処理されているアルファアルミナ膜を含み、反対面に活性ガンマアルミナ層を有する。金属触媒、好ましくは、ロジウムが、アルミナの細孔中に沈着される。酸素はこの膜を通って進行し、活性化され、その後この膜の他方の面上でメタンと接触し、メタンの部分酸化を通して合成ガスを形成する。本発明の実施形態は種々の利点を有する。すなわち、酸素の高い転化率（１００％）、爆発の危険をともなわずに最適比を用いることを可能にする、メタンと酸素との別々の供給原料ストリーム、および形成された生成物を交換することなく供給率を変える機会等である。 （もっと読む）