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Fターム[4G169FB36]の内容

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Fターム[4G169FB36]に分類される特許

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【課題】本発明は、従来に比べて、高いNOx浄化率を有するハニカム構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】ゼオライトおよび無機バインダを含み、長手方向に沿って、第1の端面から第2の端面に延伸する複数のセルがセル壁によって区画された柱状のハニカムユニットから構成されるハニカム構造体であって、前記ハニカムユニットは、見かけの体積あたり、250g/Lを超えるゼオライトを含み、前記セル壁の厚さの中心部分には、ゼオライトが存在し、前記セル壁の表面は、前記セル壁の厚さの中心部分よりもゼオライトの割合が高いことを特徴とするハニカム構造体。 (もっと読む)


【課題】過負荷ないしは偏荷重負荷のような、イレギュラーなキャニング条件が発生した場合においても、破損が生じ難く、耐久性に優れたセラミックハニカム構造体を提供すること。
【解決手段】セル傾斜角度が、0.5°以上、35°以下、である、中心軸方向に垂直な断面の形状が略楕円形又は略長円形の、セラミックハニカム構造体の提供による。 (もっと読む)


【課題】隔壁の、表面に触媒が担持され、内部への侵入量が少ないハニカム触媒体を備えた排ガス浄化装置を提供する。
【解決手段】所定のセル2aの一方の端部に第1の目封止部を有し、残余のセル2b内に触媒が担持されたハニカム触媒体20と、所定のセル32aの一方の端部に第2の目封止部を有する第2の片側目封止ハニカム構造体40と、缶体50とを備え、ハニカム触媒体20のハニカム基材と、第2の片側目封止ハニカム構造体40のハニカム基材とが異なる材質であり、第2の片側目封止ハニカム構造体の所定のセル32aの延長上に、ハニカム触媒体の残余のセル2bが配置され、且つ第2の片側目封止ハニカム構造体の残余のセル32bの延長上にハニカム触媒体の所定のセル2aが配置された状態で、それぞれの端面を当接させながら、ハニカム触媒体と第2の片側目封止ハニカム構造体とが缶体に収納された排ガス浄化装置100。 (もっと読む)


【課題】隔壁の強度が十分で、圧力損失が低く、隔壁が薄く、微粒子状物質の捕集効率が高く、排気ガスの浄化効率が高いハニカム触媒体を提供する。
【解決手段】二つの端面間を連通する複数のセル3が形成されるように配置された、多数の細孔を有する多孔質の隔壁4、及び、セル3を、いずれかの端面またはセル3の内部で目封止するように配置された目封止部10を有するハニカム構造体100と、隔壁4の表面に担持された、触媒を含有する触媒層15と、を備え、隔壁4の、厚さが76.2〜177.8μm、平均細孔径が8〜30μm、気孔率が10〜35%であり、セル3の密度が12.4〜45.0セル/cmであるハニカム触媒体300。 (もっと読む)


【課題】隔壁の、表面に触媒が担持され、内部への侵入量が少ないハニカム触媒体を備えた排ガス浄化装置を作製する排ガス浄化装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1の片側目封止ハニカム構造体の第1の目封止部を有する一方の端面側から、触媒スラリーを流入させて、両端部が開口するセル内の隔壁表面に触媒を塗工してハニカム触媒体を形成するハニカム触媒体形成工程と、第2の片側目封止ハニカム構造体の第2の目封止部を有するセルの延長上に、ハニカム触媒体の両端部が開口するセルが配置され、且つ第2の片側目封止ハニカム構造体の両端部が開口するセルの延長上にハニカム触媒体の第1の目封止部が形成されたセルが配置されるようにして、ハニカム触媒体の他方の端面に、第2の片側目封止ハニカム構造体の端面を当接させた状態で、ハニカム触媒体と第2の片側目封止ハニカム構造体とを缶体に収納する工程と、を有する排ガス浄化装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】触媒金属の粒成長を抑制できるとともに十分なガス拡散性を確保できる触媒担体とする。
【解決手段】炭化ケイ素系セラミックスからなるスポンジ状の立体骨格部と、立体骨格部の間に形成された連続気孔部とを有する炭化ケイ素系多孔質構造体と、立体骨格部の表面に形成された金属シリコン層と、金属シリコン層の少なくとも一部に形成されたSiO層と、からなる。
炭化ケイ素は耐熱性にきわめて優れているので、担体基材自体のシンタリングが防止される。またSiO層は親水性であり触媒担体は吸水性が高いため、触媒金属を高分散担持できる。したがって担持される触媒金属粒子どうしの粒成長を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、触媒成分の担持状態をコントロールすることにより、触媒成分が担体の内部へ拡散することを防止し、触媒活性の高い担持触媒を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、多孔質状の担体に触媒金属塩水溶液を接触させ、前記担体の表面に触媒金属を担持させる方法において、触媒金属塩水溶液を接触させる前に、凝固点が−20℃〜20℃の液体を担体に含浸させ、含浸した液体を前記凝固点以下に冷却して担体内部の液体を凝固させた後、触媒金属塩水溶液に担体を接触させる工程と、担体表面の触媒金属塩を還元する工程と、担体内部で凝固した液体を除去する工程と、を含むことを特徴とする担体の表面に触媒金属を担持させる方法に関するものである。本願発明に係る方法によれば、触媒金属を担体の表面部に密集させて担持させることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】高効率な金属触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるヒドラゾン化合物、又は当該ヒドラゾン化合物から誘導されるヒドラゾン高分子化合物と、金属化合物とを混合し、ヒドラゾン金属錯体又はヒドラゾン高分子金属錯体を合成する金属錯体形成工程、及び、前記ヒドラゾン金属錯体及び前記ヒドラゾン高分子金属錯体とを高温処理する高温処理工程を有することを特徴とする、金属触媒の製造方法。


(上記式(1)中、Pyは2−ピリジル基、3−ピリジル基又は4−ピリジル基を示す。) (もっと読む)


【課題】金属系の酸化剤や触媒を使用することなく、アルデヒド又はケトンを効率よく製造できる芳香族アルコールの酸化方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る芳香族アルコールの酸化方法は、比表面積が20m/g以上の炭素材料、酸素含有ガス及び硝酸又はアルカリ金属水酸化物の存在下で、芳香族アルコールを酸化する方法である。 (もっと読む)


【課題】新規な担体製造プラントを提供する。
【解決手段】担体製造プラントは、担体成分原料、固体粘結剤、液体粘結剤、希硝酸水を混練する混練機と、混練物から成形物を成形する製丸機と、成形物を焼成する焼成装置を有している。ここで、担体成分原料は、水酸化アルミニウム、擬ベーマイト、粉末シリカゲル、粉末状天然シリカ、ゼオライトなどからなる。固体粘結剤は、寒梅粉、α化デンプン(馬鈴薯)、布海苔、結晶セルロースなどからなる。液体粘結剤は、コロイダルアルミナ、コロイダルシリカ、ポリビニルアルコールなどからなる。希硝酸水は硝酸濃度が0.5〜1.5質量%の範囲にある。希硝酸水の塩素濃度は100ppm以下の範囲内にある。焼消剤として、木粉、木炭粉、米粉、小麦粉、トウモロコシなどを配合する。製丸機は、成形ロールと揉み板との間で混練物を揉んで成形物を作製する。成形ロールの表面には溝が形成されている。 (もっと読む)


【課題】摩耗および被毒による性能低下を抑制した排ガス処理触媒を提供することにある。
【解決手段】排ガスに含まれる一種以上の汚染物質を除去する排ガス処理触媒であって、前記汚染物質を除去するSO3還元触媒粉11と、SO3還元触媒粉11または排ガス成分と試薬との反応用の触媒でない希釈粉12とからなり、希釈粉12内にSO3還元触媒粉11を分散させるようにした。 (もっと読む)


【課題】新規な担体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】担体の製造方法は、担体成分原料、固体粘結剤、液体粘結剤、希硝酸水を混練する工程を有している。ここで、担体成分原料は、水酸化アルミニウム、擬ベーマイト、γアルミナ、粉末シリカゲル、粉末状天然シリカ、ゼオライトなどからなる。また、固体粘結剤は、寒梅粉、α化デンプン(馬鈴薯)、α化デンプン(タピオカ)、布海苔、結晶セルロース、粉末セルロースなどからなる。また、液体粘結剤は、コロイダルアルミナ、コロイダルシリカ、ポリビニルアルコールなどからなる。また、希硝酸水は、硝酸濃度が0.5〜1.5質量%の範囲にある。また、希硝酸水の塩素濃度は100ppm以下の範囲内にある。また、焼消剤として、木粉、木炭粉、米粉、小麦粉、大麦粉、蕎麦粉、トウモロコシなどを配合する。担体は、細孔容積が0.52〜0.84cc/gの範囲内にあり、圧壊強度が2.2〜11.0kgf/粒の範囲内にある。 (もっと読む)


【課題】 集合型ハニカム構造体におけるハニカム焼成体の位置ずれ及びハニカム焼成体の欠落を防止することができる排ガス浄化装置を提供すること。
【解決手段】 多数のセルがセル壁を隔てて長手方向に並設された柱状のハニカム焼成体が、接着材層を介して複数個結束されてなるハニカム構造体と、排ガスが導入される導入管と排ガスが排出される排出管とが接続されており、上記ハニカム構造体が内部に配設されるケーシングと、上記ハニカム構造体と上記ケーシングとの間に配設され、上記ハニカム構造体を保持する保持シール材と、複数の開口を有しており、上記ケーシング内に配設される停止部材とからなり、上記ハニカム構造体の端面のうち、少なくとも上記排出管側に位置する端面が上記停止部材で覆われていることを特徴とする排ガス浄化装置。 (もっと読む)


【課題】活性の経時的な低下を抑制したパラジウム触媒や水素透過性の経時的な低下を抑制したパラジウム膜などを製造することが可能な高純度パラジウムを提供すること。
【解決手段】パラジウムの内部に含まれる硫黄原子を表面に移動させる工程と、前記パラジウム表面の前記硫黄原子を除去する工程とを、交互に繰り返し含むことを特徴とする高純度パラジウムの製造方法。 (もっと読む)


触媒の存在下にて、クロロフルオロアルケンの塩素置換基を水素で置換するのに十分な温度で、クロロフルオロアルケンを水素と接触させて、フッ素含有オレフィンを製造する工程を含む、フッ素含有オレフィンを製造する方法であって、前記触媒が、クロム、ニッケル、任意にカリウムおよびセシウムから選択されるアルカリ金属を含む組成物である、方法が開示される。銅、ニッケル、およびカリウムおよびセシウムから選択されるアルカリ金属を含む、クロロフルオロアルケンを水素化脱塩素するための触媒組成物、ならびにかかる触媒を製造する方法も開示される。 (もっと読む)


【課題】担持する触媒の耐剥離性を向上させることができるハニカム構造体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】ハニカム構造体は、ハニカム状に配設されたセル壁12と、セル壁12内に区画された多数のセルとを有し、排ガス浄化触媒の触媒担体として用いられる。セル壁12の表面121から深さ方向に20μmの距離における、セル壁12の表面21に開口する細孔2である開気孔21の存在率は、7%以上である。ハニカム構造体の製造方法は、セラミックス原料を所望の形状のハニカム成形体に押出成形する成形工程と、ハニカム成形体を乾燥する乾燥工程と、ハニカム成形体を焼成する焼成工程とを有し、セラミックス原料のうち、セル壁12の表面121の細孔2形成に最も寄与する材料である細孔形成材料のアスペクト比は、1.0〜1.5である。 (もっと読む)


【課題】排水中の有機物の除去性能を維持しつつ、より簡単に未分解の有機物を処理することができる排水処理装置を提供する。
【解決手段】本実施例に係る排水処理装置10Aは、排水11中の有機物12を分解処理する排水処理装置において、ゼオライト原料にセルロースを加えて所定形状に成形した後、得られた成形体を焼成して前記セルロースが除去され、空孔13が形成されたゼオライト14が充填される反応容器15と、反応容器15内にオゾン16を導入するオゾン供給部17と、を有する。ゼオライト14の空孔13は、ゼオライト原料にセルロースを加えずに所定形状に成形した成形体を焼成して得られるゼオライトの空孔よりも細孔容積が増大し、ゼオライト14の表面積が増加することで、ゼオライト14表面に吸着されるオゾン16と有機物12の吸着量を増大させることができ、オゾン16により有機物12の酸化分解反応を更に促進することができる。 (もっと読む)


【課題】生産効率を向上させ、原料収率を向上させることが可能なハニカム構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】ハニカム成形体100を形成し、ハニカム成形体100に、セルの延びる方向に平行に、複数のスリット4を形成して、スリット形成ハニカム成形体110を形成し、スリット形成ハニカム成形体110を焼成してスリット形成ハニカム焼成体を形成し、スリット形成ハニカム焼成体に、少なくとも一方の端面側に開口するとともに、スリットが含まれるように切れ込み5を形成して、切れ込み5により複数の部分セグメントが区画形成された、部分セグメントの集合体120を形成し、部分セグメントの集合体120に形成された切れ込み5に充填材を充填することにより、隣接する各部分セグメント間に緩衝部8を形成してハニカム構造体130を得るハニカム構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】自動車排ガスの温度領域での反応活性が高く、温度変化の激しい自動車排ガスに対してもNOxを効率よくに浄化できるハニカム構造体の提供。
【解決手段】 長手方向に沿って、一方の端面から他方の端面に延伸する複数のセル3がセル壁によって区画された形状のハニカムユニット2を備えたハニカム構造体1であって、前記ハニカムユニット2は、2種類以上の金属イオンによりイオン交換されたゼオライトと無機バインダとを含むことを特徴とするハニカム構造体1。 (もっと読む)


【課題】排ガス等の浄化に用いられる触媒の反応を効率よく活性化することのできる触媒構造体及び触媒構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】加熱により反応分子が吸収する特定領域の波長を放射する凹部2を複数有する基材3と、該基材3の凹部2上に、凹部2の空間部2aを維持した状態で設けられた触媒層4とを備えた触媒構造体1である。
また、加熱により反応分子が吸収する特定領域の波長を放射する凹部2を複数有する基材3に、焼失材10を塗布して凹部2に焼失材10を充填する工程(a)と、凹部2に焼失材10を充填した基材3上に、触媒を塗布して触媒層4を形成する工程(b)と、加熱により凹部2に充填した焼失材10を焼失させる工程(c)を含む触媒構造体の製造方法である。 (もっと読む)


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