【課題】
本発明の液状洗浄剤組成物は、クリーミィで弾力のある泡とすることができ、さらに泡持ちが非常に優れる品質を有する。
【解決手段】
次の成分（Ａ）〜（Ｃ）；
（Ａ）ＨＬＢが１１以上１８以下のモノステアリン酸ポリエチレングリコール
（Ｂ）アニオン性界面活性剤
（Ｃ）水
を含有することを特徴とする液状洗浄剤組成物 （もっと読む）

【課題】 ガラス又はシリコン基板表面の平坦性を損ねることなく、優れたパーティクルの除去性を実現し、低起泡性かつ経時安定性に優れた電子材料用洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】アニオン成分が一般式（１）で示されるアニオン性界面活性剤（Ａ）と、炭素数６〜１８のアルケン及び一般式（２）で示される有機溶剤からなる群から選ばれる１種以上の有機溶剤（Ｂ）と、アルカリ成分（Ｃ）とを含有してなり、前記（Ｂ）のＳＰ値が６〜１３であり、有効成分濃度０．１〜１５％における２５℃でのｐＨが１０〜１４であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｒ¹［−（ＯＡ¹）_a−Ｑ^- ］_b （１）
Ｒ³［−（ＯＡ²）_c−ＯＨ］_d （２） （もっと読む）

【課題】 粉状又は顆粒状のＮ−アシル−アミノ酸アルカリ塩を脂肪酸アルカリ塩によって固形状に粘結したＮ−アシル−アミノ酸アルカリ塩洗浄剤を提供する。
【解決手段】 粉状又は顆粒状のＮ−アシル−アミノ酸アルカリ塩の粘結剤として今日まで使用されている高級アルコール類は洗浄力がないので当然に製品の洗浄性は減少する。 高級アルコール類の代わりに炭素数１０から炭素数２２の飽和，不飽和の脂肪酸アルカリ塩、石けん素地を単独或いは複数の組み合わせで粘結剤として使用し、洗浄力の優れた固形のＮ−アシル−アミノ酸アルカリ塩洗浄剤を製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】泡量が豊かで、脂肪酸金属塩を発生しにくい洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）炭素数１０〜２４の脂肪酸のアルギニン塩、（Ｂ）一般式（１）：


（Ｒ¹はＣ９〜２１のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ²及びＲ³はＣ１〜４のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基等、Ｑは-ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂ＳＯ₃、又は-(ＣＨ₂)_dＳＯ₃（ｄは１〜３の数）、ａは１〜４の数、ｂは０又は１）で表されるスルホベタイン型両性界面活性剤、（Ｃ）一般式（１）において、（Ｒ¹はＣ９〜２１のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ²及びＲ³はＣ１〜４のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基等、Ｑは、-(ＣＨ₂)_hＣＯＯ（ｈは１〜３の数）、aは１〜４の数、bは０又は１）で表されるベタイン型両性界面活性剤、（Ｄ）成分（Ａ）以外のアニオン界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩を高濃度で含有し、且つ安定性にも優れた液状の界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される化合物２３〜２７質量％、（ｂ）エタノール３〜７質量％、及び（ｃ）水６６〜７４質量％を含有する流動性が良好な界面活性剤組成物。
ＲＯ(ＡＯ)_nＳＯ₃Ｍ （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜２４の炭化水素基を示し、Ａは、炭素数２〜４のアルキレン基を示し、Ｍはアンモニウム又はアルカノールアンモニウムを示し、ｎは平均値で０．８５〜１．３５の数を示す。） （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属の洗浄において、低温（５０±５℃）で十分な洗浄性能、噴霧洗浄が可能な低起泡性能、および防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表される非イオン界面活性剤、および下記の一般式（２）で表される非イオン界面活性剤を含有することを特徴とする金属洗浄剤組成物。
Ｒ^１−ＣＨ（Ｒ^２）−ＣＨ_２−Ｏ−（ＡＯ^１）ｎ−Ｈ ・・・（１）
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基を表し、ＡＯ^１は炭素数が２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは１〜１００である。ＡＯ^１の付加形態はランダム付加、ブロック付加またはこれらの混合付加である。）
Ｒ^３−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｐ−［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］−Ｈ ・・・（２）
（式中、Ｒ^３は炭素数８〜１５である脂肪族炭化水素基、ｐ，ｑ，ｒは平均付加モル数（ｐ＝０〜５、ｑ＝０〜１５、ｒ＝０〜５、ｐ＋ｑ＋ｒ＞５）、ＡＯ^２は炭素数３または４のオキシアルキレン基、［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］はモル比ｑ／ｒのランダム重合鎖である。） （もっと読む）

【課題】皮膚表面のかさつきや毛髪のパサツキを抑え、なめらかさの付与効果をさらに高め、かつ洗浄後もそれらの効果が持続し、皮膚や毛髪に対して適度の潤いとなめらかさを付与する優れた洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される（Ａ）ジメチコノールと（Ｂ）フェノキシエタノールと（Ｃ）トリグリセリドを主成分とする植物油とを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。


〔ｎは０〜１０，０００の整数を表す〕 （もっと読む）

【課題】
水となじみ易く、起泡性に優れ、幅広い温度域での形態安定性を有し、保存安定性に優れた、Ｎ−長鎖アシルグルタミン酸カリウム塩を主成分とするクリーム状洗浄剤組成物を提供することである。
【解決手段】
Ｎ−長鎖アシルグルタミン酸カリウム塩と、Ｎ−長鎖アシル中性アミノ酸及び／またはその塩と、多価アルコールと、水とを特定の配合比とｐＨで含有させることにより、目的とするクリーム状洗浄剤組成物が得られることを見出した。
（N−長鎖アシルグルタミン酸ジブチルアミド系ゲル化剤とN−[３−アルキル(１２−１８)オキシ−２−ヒドロキシプロピル] −Ｌ−アルギニン塩酸塩と高級アルコールと水とを含有する参考処方例あり） （もっと読む）

より優れたコンディショニングおよび／または耐変色性を示すパーソナルケア製品を、あるホスフェートエステルおよびポリクアットの混合物の使用により、得ることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体基板、層間絶縁膜などの半導体部品や、記録媒体部品および光学用部品などの化学的機械研磨（ＣＭＰ）に適し、被研磨物の表面を平坦にし、かつ研磨速度を高くできる研磨用組成物および研磨方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも研磨材、ならびに、（ａ）スルホン酸（塩）基を有する単量体、カルボン酸（塩）基を有する単量体、水酸基を有する単量体、エチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドに由来する骨格を有する単量体、および窒素原子を有する単量体の群から選ばれた少なくとも１種の単量体、および、（ｂ）ビニルホスホン酸（塩）、からなる単量体成分を共重合してなる共重合体（塩）を主成分とする半導体部品用洗浄剤からなる研磨助剤、を含有する研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体基板、層間絶縁膜などの半導体部品や、記録媒体部品および光学用部品などの化学的機械研磨（ＣＭＰ）に適し、被研磨物の表面を平坦にし、かつ研磨速度を高くできる研磨用組成物および研磨方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも研磨材、ならびに、（ａ）スルホン酸（塩）基を有する単量体、カルボン酸（塩）基を有する単量体、水酸基を有する単量体およびエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドに由来する骨格を有する単量体の群から選ばれた少なくとも１種の単量体、および、（ｂ）窒素原子を有する単量体、からなる単量体成分を共重合してなる共重合体（塩）を主成分とする半導体部品用洗浄剤からなる研磨助剤、を含有する研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】 ベンジルアルコールをフロアーポリッシュ用剥離剤組成物中に高濃度に含有しながらも、優れた濡れ性、剥離性および貯蔵安定性とともに、希釈液の安定性に優れたフロアーポリッシュ用剥離剤組成物。また、これを用いた剥離除去方法によって、硬化が進んだフロアーポリッシュ組成物皮膜や、厚くなったフロアーポリッシュ組成物皮膜であっても、容易に剥離除去する方法。
【解決手段】 （Ａ）次の（イ）〜（ハ）で構成される界面活性剤；（イ）側鎖脂肪酸アミン塩０．８〜８質量％、（ロ）ポリオキシエチレンアルキルアミン系界面活性剤１〜７質量％、（ハ）フッ素系界面活性剤０．０２〜０．５質量％、（Ｂ）ベンジルアルコール３０〜６０質量％、（Ｃ）アミン化合物１９〜５０質量％および（Ｄ）水残質量％。さらに（Ｅ）グリコール系水溶性溶剤５〜１５質量％を含有するフロアーポリッシュ用剥離剤組成物およびそれを用いた剥離除去方法。 （もっと読む）

本明細書中で開示されるのは、炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む組成物である。更に開示されるのは、５００ｒｐｍより大きい速度で溶液を少なくとも２時間混合するステップを含む、洗浄目的で乳濁液を調製する方法であり、溶液は炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む。更に本明細書中で開示されるのは、印刷機のローラ、プレート、又はブランケットの洗浄混合物での洗浄方法であり、その方法はローラ又はブランケットを洗浄混合物と接触させるステップを含み、洗浄混合物は炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む。 （もっと読む）

【課題】起泡性、泡質、泡持ちに優れつつ、高い洗浄効果を有し、また、高分子特有のぬめり感もなく、使用後の皮膚のしっとり感、毛髪のごわつきのなさ、しなやかさに優れた洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｃ）、
（Ａ）０℃より高く３７℃より低い下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ）を有する複数の高分
子部分と親水性高分子部分が結合したブロック共重合体またはグラフト共重合体
であって、その水溶液が０℃より高く３７℃より低い温度にゾル−ゲル転移温度
を有する高分子化合物
（Ｂ）アミノ酸系アニオン性界面活性剤
（Ｃ）水
を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】起泡性、泡持ち、洗浄効果に優れつつ、使用後の髮のごわつきのなさ、しなやかさにも優れたシャンプー組成物を提供すること。
【解決手段】成分、（Ａ）下記の構造をスペーサーで２〜２０個結合したＮ−アシル化合物、（Ｂ）成分（Ａ）以外のアミノ酸系洗浄剤、（Ｃ）糖及び／または糖アルコールを配合したシャンプー組成物。


（ＺはＸの有する官能基に由来する結合部であり、Ｒ1ＣＯは炭素原子数２〜２０の脂肪酸から誘導されるアシル基を示し、Ｒ2は水素または炭素原子数１〜３の低級アルキル基などを示し、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基またはそれらの塩の内のいずれかを示し、ｊ、ｋはそれぞれ独立に０，１，２を示す。） （もっと読む）

【課題】
温度による粘度変化が少なく、経時安定性についても良好で、使用中の泡立ち、使用中の泡持ちなどの使用感に優れ、洗浄後の肌にしっとりした感触を適度に与える洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】
（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）微粒子無水ケイ酸、（Ｃ）粉末状金属石鹸、（Ｄ）水を配合するクリーム状皮膚洗浄料。 （もっと読む）

【課題】頭髪化粧料として使用した場合、乾燥後のごわつき感、すすぎ時のコンディショニング効果の弱さを改善し、滑らかで軽い指通りとさらさら感を付与し、さらには皮膚洗浄料に配合した場合に、皮膚に対するつっぱり感を解消し、べたつき、ぬるつき感を改善コンディショニング剤として優れた効果を示す材料の提供。
【解決手段】（Ａ）グルコースを主鎖とし、キシロース、ガラクトースを側鎖に有する非イオン性水溶性高分子であるキシログルカン多糖に特定の第４級窒素含有基を導入したカチオン変性キシログルカン多糖、（Ｂ）アニオン性界面活性剤および（Ｃ）両性界面活性剤を含有する化粧料組成物。 （もっと読む）

【課題】 液体洗浄剤組成物として適度な粘度を示し、かつ低温安定性にも優れ、さらに、増粘剤の配合工程のハンドリング性が良く、製造が容易な液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で表されるアルキレンオキサイド付加物（Ａ）、並びに下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選ばれる１種以上の界面活性剤（Ｂ）を含有する液体洗浄剤組成物である。
【化５】


式中、Ｒ¹は酸素原子を介在していてもよい炭素数６〜３０の脂肪族または脂環式炭化水
素基；ＡＯは炭素数２〜６のアルキレンオキシ基；ｍおよびｎは、（Ａ）のアルキレンオキサイド平均付加モル数を表すｍ＋ｎが０．５〜３５となるような０以上の数を表す。
（Ｂ１）硫酸エステル型アニオン性界面活性剤
（Ｂ２）エーテルカルボン酸型アニオン性界面活性剤
（Ｂ３）ベタイン型両性界面活性剤 （もっと読む）

【課題】低温安定性に優れ、洗浄後乾き際のべたつき感が少なく、使用感が良好であり、かつ起泡性にも優れている身体用液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（ａ）Ｎ−アシル酸性アミノ酸又はその塩 １〜２０重量％、（ｂ）炭素数８〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するグリセリルエ−テル ０．１〜１５重量％及び、（ｃ）多価アルコ−ル １〜１５重量％を含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 洗い流し時のしっとり感に優れるだけでなく、タオルドライ後のしっとり感においても優れた官能特性を有する皮膚洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】従来冷感剤として知られていたｌ−メンチルグリセリルエーテルを脂肪酸塩基性アミノ酸塩と組み合わせて皮膚洗浄剤組成物に配合することにより課題を解決することができる。ｌ−メンチルグリセリルエーテルと組合せる脂肪酸塩基性アミノ酸塩としては、好適には脂肪酸アルギニン塩である。 （もっと読む）